PL115026B2 - Roentgenolithographic mask - Google Patents

Description

Przedmiotem wynalazku jest maska rentgenolitografi¬ czna, stosowana zwlaszcza do powielania wzorów w technologii ukladów elektronicznych o najwyzszej skali integracji i ukladów pamieci zcylindrycznymi domenami magnetycznymi.Znane maski rentgenolitograflczne zbudowane sa z elementu usztywniajacego, do którego jest przymoco¬ wana blona nosna, a na blonie jest umieszczony wzór maski. Blone nosna stanowi plytka krzemowa, o gru¬ bosci od 3j*m do okolo 6^m, albo folia syntetyczna.Wzór maski jest wykonany z materialu o dobrej przy¬ czepnosci do materialublony nosnej oraz z warstwy silnie absorbujacej promieniowanie rentgenowskie, wykonanej najczesciej ze zlota.Maski rentgenolitograflczne, wyposazone w krze¬ mowe blony nosne, sa nieprzezroczyste dla swiatla widzialnego, co utrudnia proces centrowania masek metodami optycznymi. Ponadto krzern jest materialem kruchym, wymagajacym stosowania unikalnej aparatury technologicznej, w ceru wytworzenia blony nosnej maski.Stosowanie blon nosnych z folii syntetycznych wiaze siez trudnosciami zapewnienia zadanej plaskosci i sztywnosci blony. Poza tym, folie syntetyczne charakteryzuja sie niestabilnoscia wlasnosci mechanicznych w czasie.Istota wynalazkupolega na zastosowaniu blony nosnej w postaci plytki z miki, korzystnie o grubosci ponizej 10/im. W przypadku masek dla celów ekspozycji jedno¬ poziomowej, stosowanie elementu usztywniajacego nie jest konieczne.Maska rentgenolitograficzna, wyposazona w blone nosna z miki, jest przezroczysta dla swiatla widzialnego, a jednoczesnie charakteryzuje sie malym tlumieniem miekkiego promieniowania rentgenowskiego oraz duza stabilnoscia powierzchniowa wzoru maski. Blona z miki umozliwia uzyskanie przepuszczalnosci uzytecznego promieniowania rentgenowskiego powyzej 40%.Przedmiot wynalazku jest objasniony w przykhdzie wykonania na rysunku, który przedstawia maske rentge¬ nolitograficzna dla celów ekspozycji wielopoziomowej, w przekroju poprzecznym.Maska wedlug wynalazku skladasicz usztywniajacego pierscienia 1, do którego jest przymocowana okrag to plytka 2 o grubosci 5jim, wykonana z miki. Na mikowej plytce 2 jest umieszczony wzór 3 maski, którego dolna czesc stanowi warstwa z materialu o dobrej przyczep¬ nosci do miki,o grubosci lOjn.a górna czesc—warstwa z materialu absorbujacego promieniowanie rentgenow¬ skie o grubosci 0,5 /im.Zastrzezenia patentowe 1. Maska rentgenolitograficzna. skbdajaca siez blony nosnej, na którejjest umieszczony wzór maski i ewentual¬ nie wyposazona welement usztywniajacy, do któregojest przymocowana blona nosna, laa^ifia tym, ze blone nosna stanowi plyta z miki. 2. Maska wedlug zastrz. 1, naarieaaa tym, ze plytka z miki ma grubosc ponizej lOjim.115 026 J2Z V////A mmmm * " * " » " * * /¦¦_ Prac. Poligraf. UP PRL. 120 tg* Cena 100 /! PL

Claims (2)

1. Zastrzezenia patentowe 1. Maska rentgenolitograficzna. skbdajaca siez blony nosnej, na którejjest umieszczony wzór maski i ewentual¬ nie wyposazona welement usztywniajacy, do któregojest przymocowana blona nosna, laa^ifia tym, ze blone nosna stanowi plyta z miki.
2. 2. Maska wedlug zastrz. 1, naarieaaa tym, ze plytka z miki ma grubosc ponizej lOjim.115 026 J2Z V////A mmmm * " * " » " * * /¦¦_ Prac. Poligraf. UP PRL. 120 tg* Cena 100 /! PL