PL112409B1 - Method for assembly of a picture tube panel unit with shadow mask - Google Patents

Description

Przedmiotem wynalazku jest sposób montazu ze¬ spolu panelowego maski .kineskopu z maska cienio¬ wa.Znane kineskopy z maskami cieniowymi zawie¬ raja szklany panel plyty czolowej zawierajacy ply¬ te czolowa. Takie lampy, które sa stosowane w od¬ biornikach telewizji kolorowej, zawieraja równiez ekran luminescencyjny utrzymywany na wewnetrz¬ nej powierzchni plyty czolowej oraz maske cienio¬ wa zamontowana na panelu i umieszczona w okre¬ slonym dokladnie w przestrzeni polozeniu wzgle¬ dem wewnetrznej powierzchni plyty czolowej.Znany jest sposób montazu zespolu panelowego maski kineskopu z maska cieniowa,w którym pa¬ nel zawiera integralne szklane sciany boczne od¬ chodzace od obrzeza plyty czolowej, z metalowymi slupkami umieszczonymi na wewnetrznej powierz¬ chni scian bocznych. Metalowe sprezyny mocuje sie trwale na masce za pomoca spawania i mocuje sie odlaczalnie na slupkach. Podczas montazu maski zamocowuje sie sprezyny do maski i do slupków i ustala sie dokladna odleglosc q maski od wewne¬ trznej powierzchni plyty czolowej. Ustalenie odle¬ glosci q, jak to sie okresla w stanie techniki, jest dostatecznie wyjasnione na przyklad w opisach pa¬ tentowych Stanów Zjednoczonych nr 3 296 625 oraz 3 701 193. W wiekszosci przypadków podczas usta¬ lania odleglosci q ustala sie polozenie i usuwa sie dystansownik lezacy pomiedzy wewnetrzna powie¬ rzchnia panelu i maska oraz stykajacy sie z we¬ wnetrzna powierzchnia panelu i maska, podczas koncowego etapu spawania procesu zamocowania sprezyn do maski. Pomiedzy maska i powierzchnia plyty czolowej mozna równiez okresowo umieszczac 5 przyrzady pomiarowe sluzace do kontroli odleglo¬ sci.Panel z maska umieszczona we wlasciwej odle¬ glosci od plyty czolowej i zamontowana wewnatrz panelu jest omawiany jako zespól panelowy maski. 10 Zespól panelowy maski zwykle wypala sie w takich temperaturach i okresach czasu, zeby zapewnic sta¬ bilizacje wymiarów zespolu, jak to wyjasniono w opisie patentowym Stanów Zjednoczonych nr 3 335 479, po czym na wewnetrznej stronie plyty 15 czolowej osadza sie ekran luminescencyjny w opar¬ ciu o technike fotografii, stosujac zwykle maske ja¬ ko negatyw fotograficzny.Podczas etapów montazu i kolejnych etapów po¬ miaru odleglosci, wewnetrzna powierzchnia plyty 20 czolowej moze byc scierana lub obijana, co psuje jej wlasnosci jako elementu calkowicie przezroczystego bez skaz w polu widzenia, zwykle w poblizu krawe¬ dzi plyty czolowej. Takie scieranie i obijanie moze byc spowodowane przypadkowymi uderzeniami czy 25 scieraniem wewnetrznej powierzchni plyty czolo¬ wej przez ciala stale lub niewlasciwe zastosowanie dystansowników i/lub przyrzadów pomiarowych ste¬ rowanych podczas i po montazu.Znane pokrywanie wstepne wewnetrznej powierz- 30 chni panelu plyty czolowej substancja organiczna 1X2 4093 112 409 4 przed osadzeniem na niej ekranu luminescencyjne- go, co przedstawiono na przyklad w opisie patento¬ wym kanadyjskim nr 602 83-8 i w opisie patentowym Stanów Zjednoczonych nr 3 966 474. Jednakze takie znane pokrywanie wstepne bylo dokonywane w in¬ nym celu i celem tym jest polepszenie równomier¬ nego osadzenia i przylegania ekranu luminescencyj- nego do powierzchni, lecz nie zwiekszanie odpor¬ nosci na zarysowania i scieranie powierzchni. Rów¬ niez takie znane pokrywanie wstepne jest stoso¬ wane po zamontowaniu i ustawieniu odleglosci q maski i nie przyczynia sie do zmniejszenia wad pa¬ neli powstajacych w tym zespole.Sposób montazu wedlug wynalazku polega na tym, ze przed etapem zamontowania maski we¬ wnetrzna powierzchnia panelu pokrywa sie war¬ stwa substancji organicznej, która to warstwa ula¬ tnia sie, gdy ogrzewa sie ja w atmosferze powietrza w temperaturach do okolo 400°C i nastepnie po etapie zamontowania maski, wypala sie panel w at¬ mosferze powietrza w temperaturach wystarczaja¬ cych do ulotnienia warstwy.Korzystne jest, gdy jako substancje organiczna stosuje sie alkohol poliwinylowy, a w etapie pokry¬ wania wstepnego rozpyla sie roztwór wodny alko¬ holu poliwinylowego. Alkohol poliwinylowy stosuje sie w roztworze o stezeniu okolo 0,1 do 1,0 procen¬ ta wagowego najkorzystniej w roztworze o steze¬ niu okolo 0,5 procenta wagowego.Wedlug wynalazku etap wypalania przeprowadza sie w takich temperaturach i przez takie okresy czasu, aby zapewnic stabilizacje wymiarów panelu i zespolu maski. Korzystne jest, gdy przemywa sie wewnetrzna powierzchnie kwasem przed etapem po¬ krywania wstepnego.Wedlug wynalazku po etapie montazu osadza sie ekran luminescencyjny na wewnetrznej powierzch¬ ni panelu.Dzieki temu, ze warstwa która stanowi najkorzyst¬ niej alkohol poliwinylowy, jest cienka, ma ona po¬ mijamy wplyw na odleglosc maski od wewnetrznej powierzchni plyty czolowej. Jednakze w sposób za¬ skakujacy nawet cienka warstwa zapewnia powie¬ rzchnie panelu w zasadzie odporna na scieranie i odbijanie podczas i po etapie ustalania odleglosci q.Przedmiot wynalazku jest przedstawiony w przy¬ kladzie wykonania na rysunku, na którym fig. 1 przedstawia schemat technologiczny sposobu we¬ dlug wynalazku, obejmujacego wstepne pokrycie wewnetrznej powierzchni panelu przed zamontowa¬ niem maski w panelu, fig. 2 — rzut pionowy w prze¬ kroju typowego panelu plyty czolowej, fig. 3 — rzut pionowy w przekroju typowego dystansowni- ka stosowanego do ustawienia odleglosci q, fig. 4 — rzut pionowy w przekroju typowego zespolu ma¬ ski z ramka zmontowanego w panelu z fig. 2 przy uzyciu dystansownika z fig. 3, fig. 5 — rzut piono¬ wy w przekroju sprezyny stosowanej przy mon¬ tazu zespolu maski z ramka z fig. 4 oraz fig. 6 — fragmentaryczny przekrój uwidaczniajacy wzaje¬ mne powiazanie slupka, sprezyny i ramki po zamon¬ towaniu zespolu z fig. 4 w panelu z fig. 2.Figura 1 przedstawia typowy schemat procesu te¬ chnologicznego sposobu wedlug wynalazku. Wewne¬ trzna powierzchnia panelu plyty ^czolowej, po usu¬ nieciu luznych czastek i pylu, jest pokrywana wste¬ pnie warstwa substancji organicznej, co pokazano 'za pomoca bloku 11. Nastepnie nastepuje zamon- 5 towanie maski i ustalenie odleglosci p w panelu ply¬ ty czolowej, co pokazano za pomoca bloku 13. Na¬ stepnie panel plyty czolowej jest wypalany w at¬ mosferze powietrza w celu ulotnienia sie warstwy, co pokazano za pomoca bloku 15. Wypalanie moze miec miejsce przed osadzaniem ekranu luminescen- cyjnego na panelu lub po osadzeniu ekranu lumi- nescencyjnego.Typowy prostokatny panel 17 plyty czolowej jest pokazany na fig. 2. Zawiera on w zasadzie prosto¬ katna plyte czolowa 19 i sciany boczne 21 wokól obrzeza plyty 19. Trzy lub wiecej slupków /monta¬ zowych 23 jest umieszczonych na wewnetrznych stronach scian bocznych 21. Wewnetrzna powierz¬ chnia 25 plyty 19 jest korzystnie tepowanai jest przeznaczona do utrzymywania ekranu luminescen- cyjnego, który zostaje na niej osadzony w dalszym etapie. Jest to ta Wewnetrzna powierzchnia 25, któ¬ ra jest zabezpieczana sposobem wedlug wynalazku, poniewaz jakiekolwiek uszkodzenia tej powierzch¬ ni moga powodowac wady bezposrednio zauwazalne przez widza w uzyskanej lampie.Wewnetrzna powierzchnia 25 jest pokryta cienka 'warstwa 27 substancji organicznej, która to war¬ stwa moze ulotnic sie w wyniku wypalania w at¬ mosferze powietrza w temperaturach ponizej 400°C. Kilka wlasciwych substancji organicznych, które moga byc zastosowane przy wytwarzaniu tej warstwy to octany poliwinylu, pyrolidony poliwi- nylu, kopolimery akrylanu, nitroceluloza, niskotem¬ peraturowe woski, lancuchowe kwasy tluszczowe, mydla organiczne i poliglikole. Zalecane sa war¬ stwy z alkoholi poliwinylowych, poniewaz sa one tanie i moga byc uzyskiwane z dostepnych w han¬ dlu roztworów wodnych, które to roztwory moga z latwoscia pokryc panele i których obecnosc nie stwarza niebezpieczenstwa zapalenia podczas ma¬ gazynowania i pokrywania. Korzystne jest pokrycie powierzchni 25 za pomoca rozpylania, chociaz mo¬ ga byc zastosowane inne metody pokrywania, takie jak zanurzenie i pokrywanie przez powlekanie. Dla przykladu powierzchnia 25 pokazana na fig. 2 jest napylana w atmosferze powietrza 0,5 procentowym wagowo roztworem alkoholu poliwinylowego i na¬ stepnie suszona w powietrzu dla wytwarzania iwar- stwy 27. W przypadku alkoholi poliwinylowych, roz¬ pylany roztwór moze miec stezenie w zakresie od 0,1 do 1,0 procenta wagowego polimeru.Maska 29, która ma byc nastawiona w odleglo¬ sci q, to znaczy dokladnie ustaiwiona wzgledem we¬ wnetrznej powierzchni 25 panelu, jest pokazana na fig. 4. Maska 29 zawiera dziurkowana czesc 31 w ksztalcie kopuly i obwodowa oslone boczna 33, która jest przyspawana do ramki 35. Plytka ha¬ czyka 37 dla kazdego slupka 23 w panelu 17 jest przyspawana do ramki. Zespól 39 pokazany na fig. 4 jest zwykle nazywany zespolem maski z ramka.Po wysuszeniu warstwy 27, dystansownik 41 po¬ kazany na fig. 3 zostaje umieszczony w panelu 17.Dystansownik 41 zawiera plytke 43, której górna powierzchnia (jak pokazano na fig. 3) ma odpo- 15 20 25 30 35 40 45 50 55 60112 409 6 wiednie kontury dla odbioru maski 31, która ma byc ustawiona we wlasciwej odleglosci. Dolna po¬ wierzchnia plyty 43 ma cztery nózki 45 o takiej dlugosci, by zapewnic wymagana odleglosc pomie¬ dzy poiwierzchnia 25-panefu i maska 31. Narozne wsporniki 47 dystansownika sa przeznaczone do cen¬ trowania zespolu 39 maski z ramka w dystansowni- ku 41. Uchwyty 49 sa wykonane w plycie 43 w celu ulatwienia recznego ustawiania i usuwania dystan¬ sownika. Tak wiec dystansownik 41 moze zostac- uchwycony dzieki uchwytom 49 i umieszczony w pa¬ nelu 17, przy czym cztery nózki 45 stykaja sie z po¬ kryta warstwa wewnetrzna powierzchnia 25 panelu.Nastepnie zespól 39 maski z ramka zostaje recznie umieszczony na dystansowniku 41, przy czym ma¬ ska 31 styka sie z górna powierzchnia plyty 43.Sprezyna 51 posiadajaca dziure. .53* pokazana, na fig. 5, jest teraz umieszczona na kazdym slupku 23 i w poblizu plytki haczyka 37, jak pokazano na fig. 6. Mozna to osiagnac przez umieszczenie dziury 53 na slupku 23 i obróceniu sprezyny 51 na slupku az do uzyskania wymaganego polozenia przeciwlegle¬ go do plytki haczyka 37. Przy takinv ustawieniu wszystkich czesci, kazda sprezyna 51 zostaje przy- spawana do lezacej w jej poblizu plytki haczyka 37, w wyniku czego maska 29 zostaje zamontowana i ustawiona w odleglosci q w panelu 17. Po przy- spawaniu, sprezyna 51 w poblizu sluptó 23 zostaje scisnieta i zespól 39 maski z ramka zostaje usunie¬ ty z panelu 17. Nastepnie dystansoHvnik 41 zostaje usuniety z panelu17. '"".'"¦''"""' W panelu 17 moze teraz byc umieszczony zespól miernika odleglosci (nie pokazanymi zespól 39'mas^- ki z ramka ponownie wlozony do panelu 17 wraz ze sprezynami 51 umieszczonymi na slupkach 23.Jeden z wlasciwych mierników jest pokazany na fig. 6, 7 i 8 patentu Stanów Zjednoczonych nr 3 482 286. Po sprawdzeniu odleglosci, zespól 39 mas¬ ki z ramka i miernik zostaja usuniete z panelu 17 i zespól 39 maski z ramka zostaje ponownie wsta¬ wiony wraz ze sprezynami 51 ujnieszczonymi na slupkach 23.Nalezy zaznaczyc, ze wystepuje wiele sposobnosci L scierania i/lub obijania wewnetrznej powierzchni 25. Dla przykladu, jezeli dystansownik 41 zostaje nieuwaznie umieszczony na panelu 17 lub usuniety z panelu 17, nózka 45 i/lub narozny wspornik 47 dystansownika moze uderzyc lub otrzec sie o we¬ wnetrzna powierzchnie 25 panelu 17. Równiez, je¬ zeli miernik zostaje nieuwaznie umieszczony w pa¬ nelu lub usuniety z panelu 17, czesci miernika mo¬ ga uderzac i/lub scierac wewnetrzna powierzchnia 25 panelu. Równiez po ustaleniu odleglosci q i/lub pomiarze, jezeli zespól 39 panelowy maski zostaje nieuwaznie wstawiony ponownie do panelu 17, mo¬ ze on uderzac i/lub scierac wewnetrzna powierzch¬ nie 25 panelu. Równiez podczas spawania goracy metal moze rozpryskiwac sie na powierzchni 25 i po¬ wodowac powstawanie podobnych defektów na po¬ wierzchni. W kazdym z tych przypadków, uderze¬ nia i/lub scierania i/lub rozpryskiwanie spoiny mo¬ ze powodowac powstawanie widocznych wad w polu widzenia plyty, które sa bardzo niekorzystne dla widza. Takie wady moga wystepowac w postaci obic i/lub rys.W celu okreslenia korzysci sposobu wedlug wy¬ nalazku zastosowano standardowa procedure1^bada¬ nia powstawania obic i rys w róznych miejscach na kazdej powierzchni panelu. Podczas badania, po- 5 wierzchnia ipanelu byla poddana przeciagahiu wkre¬ taka, powodujac zatarcia podczas wkladania maski, obslizgiwanie podczas wkladania maski i kolysania sie maski podczas montowania na slupkach. Panele byly badane wizualnie przy zastosowaniu swiatla io blyskowego. W przypadku, gdy panele byly podda¬ wane obróbce, zarysowania i zatarcia powstawaly latwo i byly bardzo znaczne. Podobne wyniki ob¬ serwowano w przypadku paneli, których powierz¬ chnia byla przemywana kwasem, lecz nie pokrywa- 15 na wstepnie zgodnie ze sposobem wedlug wynalaz¬ ku. -W .przeciwienstwie do tego panele, które zostaly ; pokryte wstepnie) zgodnie ze sposobem wedlug wy¬ nalazku, przy zastosowaniu lub bez znanego prze¬ mywania kwasem, wykazywaly dobra odpornosc 2o; jna powstawanie [rys, przy czym powstawaly jedy- dynie bardzo nieznaczne rysy w podobnych warun¬ kach, Panele byly nastepnie badane na przyrzadzie do badania twardosc) rys Hoffmana, Model SG-1610-M, 25 i dane zebrano jak nastepuje: Obróbka paneli Bez obróbki 30 Przemyte kwasem Pokryte polimerem Przemyte'kwasem i po¬ kryte polimerem Nacisk wymagany dla zarysowania paneli 0,736 N 0,736 N 1,226 N 1,472 N 35 Podczas kolejnego badania kilku tysiecy paneli, procent paneli, które ulegly wewnetrznym zaryso- waniom i/lub starciom byl równy okolo 0,13% w przypadku pokrytych wstepnie paneli zgodnie — ze - sjmsobem wedlug wynalazku i okolo 2,22% 40 w przypadku paneli nie pokrytych wstepnie zgodnie ze sposobem wedlug wynalazku." Zastrzezenia patentowe 45 1. Sposób montazu zespolu panelowego maski kineskopu z maska cieniowa, obejmujacy etap za¬ montowania maski w panelu w okreslonym w prze¬ strzeni polozeniu wzgledem wewnetrznej powierz¬ chni panelu, znamienny tym, ze przed etapem za- 50 montowania maski wewnetrzna powierzchnie pa¬ nelu pokrywa sie warstwa substancji organicznej, która to warstwa ulatnia sie, gdy ogrzewa sie ja w atmosferze powietrza w temperaturach do okolo 400°C i nastepnie po etapie zamontowania maski, 55 wypala sie panel w atmosferze powietrza w tempe¬ raturach wystarczajacych do ulotnienia warstwy. 2. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze jako substancje organiczna stosuje sie alkohol poli¬ winylowy. 60 3. Sposób wedlug zastrz. 2, znamienny tym, ze w etapie pokrywania wstepnego rozpyla sie roz¬ twór wodny alkoholu poliwinylowego. 4. Sposób wedlug zastrz. 3, znamienny tym, ze stosuje sie alkohol poliwinylowy w roztworze o ste- 65 zeniu okolo 0,1 do 1,0 procenta wagowego.7 112 409 8 5. Sposób wedlug zastrz. 4, znamienny tym, ze stosuje sie alkohol poliwinylowy w roztworze o ste¬ zeniu okolo 0,5 procenta wagowego. 6. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze etap wypalania przeprowadza sie w takich tempe¬ raturach i przez takie okresy czasu, aby zapewnic stabilizacje wymiarów panelu i zespolu maski.Fig.5 ¦15 7. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze przemywa sie wewnetrzna powierzchnie kwasem przed etapem pokrywania wstepnego. 8. Sposób wedlug zastrz. 1, albo 2 albo 3 albo 4 5 albo 5 albo 6 albo 7, znamienny tym, ze po etapie montazu osadza sie ekran luminescencyjny na we¬ wnetrznej powierzchni panelu. i \ iiiii! JknJ Cena zl 45,— ZGK 1105/1110/81 — 110 szt. PL

Claims (8)

1. Zastrzezenia patentowe 45 1. Sposób montazu zespolu panelowego maski kineskopu z maska cieniowa, obejmujacy etap za¬ montowania maski w panelu w okreslonym w prze¬ strzeni polozeniu wzgledem wewnetrznej powierz¬ chni panelu, znamienny tym, ze przed etapem za- 50 montowania maski wewnetrzna powierzchnie pa¬ nelu pokrywa sie warstwa substancji organicznej, która to warstwa ulatnia sie, gdy ogrzewa sie ja w atmosferze powietrza w temperaturach do okolo 400°C i nastepnie po etapie zamontowania maski, 55 wypala sie panel w atmosferze powietrza w tempe¬ raturach wystarczajacych do ulotnienia warstwy.

2. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze jako substancje organiczna stosuje sie alkohol poli¬ winylowy. 60

3. Sposób wedlug zastrz. 2, znamienny tym, ze w etapie pokrywania wstepnego rozpyla sie roz¬ twór wodny alkoholu poliwinylowego.

4. Sposób wedlug zastrz. 3, znamienny tym, ze stosuje sie alkohol poliwinylowy w roztworze o ste- 65 zeniu okolo 0,1 do 1,0 procenta wagowego.7 112 409 8

5. Sposób wedlug zastrz. 4, znamienny tym, ze stosuje sie alkohol poliwinylowy w roztworze o ste¬ zeniu okolo 0,5 procenta wagowego.

6. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze etap wypalania przeprowadza sie w takich tempe¬ raturach i przez takie okresy czasu, aby zapewnic stabilizacje wymiarów panelu i zespolu maski. Fig.5 ¦15

7. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze przemywa sie wewnetrzna powierzchnie kwasem przed etapem pokrywania wstepnego.

8. Sposób wedlug zastrz. 1, albo 2 albo 3 albo 4 5 albo 5 albo 6 albo 7, znamienny tym, ze po etapie montazu osadza sie ekran luminescencyjny na we¬ wnetrznej powierzchni panelu. i \ iiiii! JknJ Cena zl 45,— ZGK 1105/1110/81 — 110 szt. PL