PL109265B1 - Source for horizontal vacuum evaporation - Google Patents

Description

Przedmiotem wynalazku jest zródlo do pozio¬ mego parowania prózniowego, które moze byc za¬ stosowane do naparowywania cienkich warisitiw metali, pólprzewodników lub dielektryków.Dotychiczals isltolsoiwame sposoby naparowywania cienkich wiarsitw polegaja na podlgrzewaniiu paro¬ wanego materialu w tyglu, lódce lub podobnym zródle, przy czym pary materialu emitowane ze zródla tworza strumien skierowany pionowo do góry. Strumien ten feondensiuje na podlozu uJmie- saczonym poziomo w pewnej odleglosci maki zród¬ lem par.Przedstawiony dotychczasowy .sposób pionowego naparówywianda jesit inielkonzylstny w przypadkach wymagaj ajcych dwustronnego nalpariowywania wanstw irna plytce — podlozu ma przyklad takich jak dwustronna metalizacja [plytek kwarcowych stosowanych -do konistriufocji ogniw piezoelektrycz¬ nych lub dwustronne naparowywanie pólprzewod- miika ina plytce miki isitosiowanej do konisitruJkicji hallltronu podwójinego, gdyz po najpairowaniiu wy- maigainej warstwy na jedna ©trone podloza, trzeba dokonac odwrócenia podloza, co wymaga specjal¬ nego (ukladu mechanicznego lufo otwierania ko¬ mory próziniowieij.Celem wynalazku jest opracowanie zródla do poziomego parowania prózniowego, pozwalajacego na dwuistromne naparówyiwande podlozy, bez ich. odwracania w czasie procelsu nanoszenia warstw. 10 18 20 Cel ten osiagnieto wedlug wynalazku wykonujac zródlo w postaci zamknietej puiszJki z otworem wylotowym stnumieniia par znajdujacym sie w jednej z pionowych scianek .bocznych. Oltwór wy¬ lotowy jest lOtoczony poziomym komiinlkiem ogra¬ niczajacym rozrzut emitowanegio isitiriuimienia par, a przekrój poprzeczny pulszlki oraz doprowadzen isa jednakowe, Jednoczesne grzanie calosci takiego zródla po¬ zwala na wytwarzanie .stabilnego poziomtu skie¬ rowanego strumienia par.W|pr/0wadzenie plaskiej plytki Bjpelnialjacej role radiatora, przygrzanej posrodku dolnie,j - poziomej scianki zródla, warunkuje niezpacziny ispadek tem¬ peratury w porównaniu z pozostala powierzchnia zródla, co w przypadkach parowania metali ze stanu cieklego zabezpiecza przed szkodliwym pel¬ zaniem cieklego metalu po wewnetrznych scian¬ kach zródla. Wykonanie doprowadzen pradowych zródla w wyprofilowanej postaci z zalamaniami oiniemozlliwia silne deformacje calego zródla pod¬ czas grzania d zwieksza kilkakrotnie czals zywot¬ nosci zródla. Deformacja zródla jest sprowadzona do minimum na skutek przeniesienia jej do ob¬ szaru profilowanych doprowadzen.Umieszczenie w komorze prózniowej dwóch zró¬ del emitujacych poziome dwa strumienie pair skie- nowane do siebie wzdluz jednej prostej orafc u- miiesziczenie posrodku odleglosci pomiedzy ziród- 109 2653 109 265 4 lami podloza, którego naparowywane powierzch¬ nie sa polozone pionowo i jednoczesnie prosto¬ padle ido Ikiiietnumiku strumieni par, zapewnia dwu¬ stronna d jednoczesna kondensacje par na pod¬ lozu, bez, jego odwracania.Przedmiot wynalazlku jest uwidoczniony iw przy¬ kladzie wykonania na rysunku, na którym na fig. 1 przedstawione jest zródlo do parowania pozio¬ mego, a na fig. 2 przedstawiony jest schemat dwu¬ stronnego naparowywania podlozy.Z cienkiej blachy lub tasmy z metalu trudno topliweigo, na przyklad molibdenu, wolframu lub tantalu, jest wykonana puszka 1. Polaczona jest ona z doprowadzeniami pradowymi 2, o przekro¬ ju takim marnym jalk przekrój poprzeczny puszki, wykonanymi z -tego sarniego materialu i grzana oporowo. Doprowaidizenia pradowe posiaidaija zala¬ mania 3 zabezpieczajace przeid deformacja calego zródla podczas grzania. W pionowej sciance^ do której nie jest przylaczone doprowadzenie prado¬ we, wykonany jest otwór z (kominikiem 4, stano¬ wiacy wylot strumienia par. Calosc zródla wedlug wynalazku, wykonana jest tak, ze zapewnia jed¬ norodnie grzanie scianek puszki 1 i kominka 4.W przypadlkach panowania materialów niesub- liimujacych, lecz parujacycih ze stanu cieklego, na przyklad metali Ag lub Au przygrzewa sie po¬ srodku dolnej i poziomej sciaimki puszki 1 plytki 5, wykonanej z tego sarniego materialu co puszka 1. Plytka 5 spelnia role raidiatora i zabezpiecza przed niekorzystnym pelzaniem wewnaftrz puszki cieklego materialu parujaoetgo, co moze wystepo¬ wac na slkutek (zaklócen jednorodnego grzania ca¬ losci puszki 1 i kominka 4.Dwustronne (naparowywanie podlozy z zastoso¬ waniem zródel parowiania poziomiego, wedlug wy¬ nalazku jest objasnione na fliig. 2.W komorze prózniowej na poziomym okregu A umieszcza sie podloze P w pozycji pionowej pla¬ szczyzny naparowywanych. Okrag A stanowi przy tym lobrzeze obrotowej karuzeli, obracajacej sie w poziomie wokól sriodfka O, co pozwala na jed¬ noczesne -dwustronne naparowywanie feerii podlo¬ zy.W poziomej plaszczyznie okregu A sa (Umiesz¬ czone wzdluz promienia, po obu stronach podlo¬ za P, diwa zródla Zx i Z2 do parowania poziome¬ go, wedlug wynalazku. Zródla te grzane jedno¬ czesnie lub kolejno, emituja poziome sitnutnianie par Si i S2, kondenlsiujace [jednoczesnie lub ko¬ lejno na obu powierzchniach nalparowywianych po¬ dloza P.Zastrzezenia patentowe H. Zródlo do poziomego parowania prózniowego cienikiicih warsitw metali, pólprzewodników Lub die¬ lektryków, znamienne tym, ze ma postac zamk¬ nietej puszki (1) z otworem wylotowym (4) w sciance bocznej, otoczonym poziomym kominkiem, oraz posiada doprowadzenia .pradowe (2) o wypro¬ filowanym ksztalcie z zalamaniami (3). 2. Zródlo wedlug zastrz, 1, znamienne tym, ze przekrój poprzeczny puszki' (1) oraz doprowadzen (2) sa jednakowe. 3. Zródlo wedlug zastrz. 1 ailibo 2, znamienne tym, ze posiada plaska plytke radiator (5) przy- grzana posrodku dolnej poziomej scianki zródla, 10 15 20 25 •109 265 Fiq.i ^ / Fig. 2 PL

Claims (3)

1. Zastrzezenia patentowe 1. H. Zródlo do poziomego parowania prózniowego cienikiicih warsitw metali, pólprzewodników Lub die¬ lektryków, znamienne tym, ze ma postac zamk¬ nietej puszki (1) z otworem wylotowym (4) w sciance bocznej, otoczonym poziomym kominkiem, oraz posiada doprowadzenia .pradowe (2) o wypro¬ filowanym ksztalcie z zalamaniami (3).
2. 2. Zródlo wedlug zastrz, 1, znamienne tym, ze przekrój poprzeczny puszki' (1) oraz doprowadzen (2) sa jednakowe.
3. 3. Zródlo wedlug zastrz. 1 ailibo 2, znamienne tym, ze posiada plaska plytke radiator (5) przy- grzana posrodku dolnej poziomej scianki zródla, 10 15 20 25 •109 265 Fiq.i ^ / Fig. 2 PL