Przedmiotem wynalazku jest sposób poiwleka.rua szkla a zwlaszcza sposób powlekania isizikla krze¬ mem i urzadzenie ido powlekania isizikla, zbudowa¬ ne dla wprowadzenia materialu powlokowego w postaci gazowej, w sasiedztwie powlekanej po¬ wierzchni szklanej.Znany jest z niemieckiego lOpisu patentowego nr 395 978 sposób wytwarzania krzemowej poiwloiki odbijajacej swiatlo w którym na obrabiana po¬ wierzchnie kieruje sie równomiernym atnumiemieLm krzemowodór o temperaturze wyzszej niz jego temperatura rozkladu, korzystnie w mieszaninie z wodorem, ewentualnie zmieszany z neutralnym gazem oraz o takim riozicienczeniiu, aby po stronie metalizowanej powstala odbijajaca swiatlo powlo¬ ka.Czesci przeznaczone do pokrycia powloka odbi¬ jajaca swiatlo, nagrzewa sie równomiernie w pie¬ cu w postaci rury przez który przepuszcza sie gaz zawierajacy N krzem. Stosuje sie w tym sposobie plaszczyzny siteriujace, krbóre umieszczone, sa w niewielkiej 'Odleglosci od przeznaczonej do powle¬ czenia powierzchni.Wieksza ilosc przeznaczonydh do olbróki plyt umieszcza sie w niewielkiej odleglosci równolegle wzgledem siebie, a gaz (przepuszcza sie miedzy tymd plytami z równomierna predkoscia.Przeznaczone do -obróbki plyty umieszcza sie w piecu równolegle do osi pieca w odstepach 1 mm. 10 18 20 05 30 Piec równomiernie podgrizewa sie z zewinatrz. W komorze roboczej pieca wszedzie panuje tempe¬ ratura i500°C, a ponadto (krzemowodór rozciencza sie okolo 20nkrotna iloscia iwodoru i z predkoscia ¦okolo 1 mm/sek. — przepiuszcza sie miedzy plyta¬ mi. Plaszczyzne ogrzewa sie raz nizej raz wyzej do takiej temperatury, jaka potrzebna jest do u- zysikania tatra krzemowego dla pokrycia plasz¬ czyzny tylko w miejscach podgrzanych.Znany jest isposób powlekania szkla krzemem atomowym przy temperaturze przynajmniej 400°C przez termiczny rozpad zawierajacego' sdilany ga¬ zu przepuszczanego mad powierzchnia szkla pod w zasadzie stalym cisnieniem w warunkach unie¬ mozliwiajacyoh lUtlenianie. Jest to statyczny nie¬ ciagly proces, iw którym male plytki szklane w postaci tafli umieszcza sie w urzadzeniu do po¬ krywania majacyrm postac nury, przez która prze¬ puszcza sie gaz zawierajacy silany. Proces ten nie mógl byc \wy(korzystany do wytwarzania równo¬ miernej /warstwy ma wiekszej tafli szklanej.Znane sa rózne materialy powlokowe, które by¬ ly s\tosowane lub zostaly zaproponowiane do mo¬ dyfikowania wlasciwosci przepuszczania piromie- niowania i odbijania, 'do poprawiania wygladu szkla, lub realizowania wzorów ozdobnych na po¬ wierzchni szkla. Powloki takie czesto- sluza dla wiecej niz jednego celu. Na przyklad' powloki z tlenków metali i powloki naparowywane |prózlndo*» 1083593 wo byly stosowane do wyposazania szkla ,we wla* sciwosci regulacji (swiatla) slonecznego, a jedno- ^czesnie nadawania szklu atrakcyjnych barw. Zna¬ ny jest fakt, ze krzemowodory (silany) rozklada¬ ja sie w czasie ogrzewania wytwarzajac krzem.Dzieki temu silany byly stosowane jako zródlo do wytwarzania krzemu, przeznaczonego dla elemen¬ tów elektroprzewodzacych. Glównym zadaniem ni¬ niejszego wynalazku jest dostarczenie powloki dla szkla, jktóra moze byc stosowalna ekonomicznie, posiada dobre wlasciwosci regulacji (swiatla slo¬ necznego) i (przyjemny wyglad w celu powieksze¬ nia asortymentu szkla powlekanego z wlasciwo/- sciami regulacji (swiatla slonecznego), aktualnie dostepnego, zwlaszcza dla zastosowan zwiazanych ze szkleniem okien.Wynalazek oparty jest na odkryciu, ze powloki ^ krzemowe moga byc wytwarzane na powierzchni goracego szkla, na przyklad na ciaglej tasmie go¬ racego szkla, za pomoca ekonomicznych procesów, które zapewniaja trwale i jednorodne powloki o pozadanych wlasciwosciach regulacji (swiatla slo¬ necznego) oraz przyjemnym i jednorodnym wy¬ gladzie.W sposobie wedlug wynalazku pokrywane szklo w ruchu ciaglym przesuwa sie przez usytuowane poprzecznie do szkla urzadzenie pokrywajace, do którego wprowadza sie gaz zawierajacy silany w .bezposrednim sasiedztwie pokrywanej równomier¬ nie goracej powierzchni przesuwanego szkla, przy czym w strefie goracej urzadzenia pokrywajacego utrzymuje sie warunki ndeutlendajace.W sposobie wedlug wynalazku reguluje sie sklad gazu oraz utrzymuje sie szybkosc pirolizy silanów na powierzchni goracego szkla w wartosci wystarczajacej do wytwarzania powloki krzemo¬ wej o z góry zadanej grubosci na tej powierzchni.Szybkosc przeplywu gazu reguluje sie dla uzyska¬ nia jednorodnej powloki oraz reguluje sie steze¬ nie silanów w gazie dla zapewnienia zadanej gru¬ bosci powloki i (utrzymuje sie temperaiture szkla na stanowisku powlekania w zakresie 500°C do 700°C. Szklo jest przemieszczane poprzez stano¬ wisko powlekania w postaci ciaglej tasmy a sklad gazu jest regulowany stosownie do predkosci prze¬ mieszczania sie tasmy. Tasma szkla jest prze¬ mieszczana wzdluz kapieli cieklego metalu nad która utrzymywana jest atmosfera ochronna, przy czym gaz zawierajacy silany jest wydalany do wymienionej strefy goracej, która znajduje sie w miejscu gdzie temperatura szkla znajduje sie w zakresie 600°C do 670°C. Tasma szkla jest prze¬ mieszczana przez tunel od|prezajacy, a gaz zawie¬ rajacy silany jest uwalniany do wymienionej stre¬ fy goracej, która znajduje sie w zakresie 400°C do 700°C. Gaz zawierajacy silany zawiera od 0,1% do 20% objetosciowo silanów, do 10% objetoscio¬ wo wodoru i od 70% do 99,9% objetosciowo gazu obojetnego.W sposobie wedlug wynalazku silanem jest mo- nosilan SiA.• W sposobie wedlug wynalazku -tworzy sie po¬ wloke o grubosci w zakresie 250 A do 500 A, a od strony powleczonej przepuszczalnosc dla swiatla i (bialego zapewnia sie w zakresie 171% do 34%, zas przepuszczalnosc ciepla z bezposredniego pro¬ mieniowania slonecznego utrzymuje sie w zakre¬ sie 27% do 45%, natomiast odbijanie energii slo- * necznej utrzymuje sie w zakresie 34% do 52%.W sposobie wedlug wynalazku tworzy sie powlo¬ ke o grubosci w zakresie 300 A do 450 A, a od strony powleczonej przepuszczalnosc dla swiatla bialego zapewnia sie w zaikresie 1(7% do 34%, zas io przepuszczalnosc ciepla z bezposredniego promie¬ niowania slonecznego utrzymuje sie w zakresie 27% do 45%, natomiast odbijanie energii slonecz¬ nej utrzymuje sie w zakresie 34% do 52%.W sposobie wedlug wynalazku tworzy sie zasad- 15 niczo jednorodna powloke krzemowa o grubosci optycznej w zaikresie 950 A do 1600 A i wspól¬ czynniku zalamania w zakresie 3,0 do 4,0.Urzadzenie wedlug wynalazku ma rozdzielacz gazu umieszczany poprzecznie do toru przemiesz- 20 czania powlekanej powierzchni tafla szklanej w zasilajacym kanale do dostarczania materialu po¬ wlokowego w postaci gazowej, ponad którym u- sytuowany jest kanal chlodzacy do regulacji tem¬ peratury kanalu zasilajacego a pod nim posiada 25 wydluzona otwanta komore wylotowa umieszczo¬ na w poblizu tonu przemieszczania tasmy dla ta¬ fli szklanej i laczacej sie wzdluz swojej dlugosci z kanalem zasilania w gaz poprzez elementy o- grandiczania przeplywu gazu oraz przystosowane 30 d0 uwalniania gazu z kanalu zasilajacego do ko¬ mory wylotowej o stalym cisnieniu wzdluz jej dlugosci. Kanal chlodzacy stanowi regulacje tem¬ peratury kanalu zasilajacego i jest przystosowany do jego chlodzenia. 35 Elementy stanowia plytki nosne, w której ma¬ ja usytuowana plytke waflowa z szeregu kairibiko- wanych odcinków tworzacych uklad kanalów o maiej powierzchni przekroju poprzecznego prowa¬ dzacych z kanalu zasalajacego do komory, przy czym wymiary kanalów maja dobrany maly spa¬ dek cisnienia wzdluz kanalu zasilajacego w po¬ równaniu do spadku cisnienia wzdluz 'ukladu ka¬ nalów. 45 Urzadzenie wedlug wynalazku posiada termicz¬ na izolacje pomiedzy kanalem zasilajacym i ko¬ mora. Scianki boczne komory maja uksztaltowa¬ nie .tworzace kanal w komorze [rozszerzajacy sie od elementów ograniczania przeplywu do otwar- 60 tego frontu komory.Sposób powlekania szkla wedlug wynalazku o- bejmuje przemieszczanie szikla przez ^stanowisko powlekania, gdzie temperatura szkla wynosi co najmniej 400°C, dostarczanie gazu zawierajacego 55 silany do stanowiska powlekania, uwalnianie ga¬ zu w poblizu powierzchni szikla przy zasadniczo stalym cisnieniu, w poprzek powierzchni szkla do strefy goracej otwartej w kierunku i rozciagaja¬ cych sie w poprzek powierzchni szkla d( utrzy- w mywanie warunków nieutleniajacych w wymie¬ nionej strefie goracej. Sposób zalecany obejmuje regulowanie skladu gazu w celu utrzymywania szybkosci pirolizy silanów na powierzchna gorace¬ go szkla, wytwarzajacej na tej powierzchni po- 09 wloke krzemowa o z góry okreslonej grubosci.5 zaleca sie regulowanie szybkosci przeplywu gazu w celu uzyskania jednorodnej powloki i regulo¬ wanie stezenia silanów w gazde, w eeliu zapewnia¬ nia zadanej gnibojsci powloki. Poniewaz tempe¬ ratura powierzclini szkla, która ma byc pokrywa¬ na powinna byc powyzej 4Q0°C, w celu rozloze¬ nia silanów nia powierzchni, wiec temperatura po¬ wierzchni szkla moze ibyc znacznie wyzsza, na przyklad wynosic (do 750°C.Jednakze stwierdzone zostalo, ze stosowanie wy¬ sokich temperatur powoduje znieksztalcenia szkla powlekanego i prowadzi do wytwarzania szkla powlekanego posiadajacego polaryzacje lub za¬ mglony wyglad. Wofbec tego zaleca sie sitosowac temperatury ponizej 700°C, chyba ze znieksztalce¬ nia i/lub opozycja iw powleczonym produkcie jest dopuszczalna'. Generalnie temperatura szkla w sta¬ nowisku powlekania znajduje sie w rozwiazaniach zalecanych w zakresie 500°C do 700° Sposób wedlug wynalazku moze byc stosowany do powlekania powierzchni tasmy szkla przesu¬ wanego do przodu przez stanowiska powlekania, przy czym sklad gazu jesit (regulowany stosownie do predkosci ruchu tasmy. W celu powlekania tasmy szkla, która jest przesuwana wzdluz ka¬ pieli stopionego metalu, nad która utrzymywana jest atmosfera ochronna, gaz zawierajacy silany jest w rozwiazaniach zalecanych uwalniany do strefy goracej, która znajduje sie w miejscu gdzie temperatura szkla wynosi 600°C do 670°C.Sposób wedliug wynalazku .umozliwia wytwarza¬ nie powlok krzemowych pozadanej grubosci, na powierzchni poruszajacego sie szkla przez regu¬ lacje warunków procesu. W praktyce przy obrób¬ ce bezposredniej swiezo wyprodukowanej tasmy szkla szybkosc przemieszczania szkla przez stacje - powlekania jest zasadniczo dyktowana przez pro¬ cesy wytwarzania szkla.Stwierdzone zostalo, ze stosownym sposobem wytwarzania jednorodnych powlok o zadanej gru¬ bosci jest regulacja szybkosci przeplywu gazu az do uzyskania jednorodnej powloki, a nastepnie re¬ gulacja stezenia silanów w gazie az do uzyskania zadanej grubosci powloki. Jednakze grubosc moze byc sterowana w inny sposób. Na przyklad moze byc zwiekszana temperatura szkla w celu zwiek¬ szania grubosci wytwarzanej powloki. Przy bez¬ posredniej obróbce przesuwajacej sie tasmy szkla¬ nej w procesie produkcyjnym moze on obejmo¬ wac przemieszczanie stanowiska powlekania wzdluz tasmy. Nalezy podkreslic, ze nie jest to zawsze dogodne. Powloka krzemowa moze byc tak¬ ze przykladana sposobem wedlug wynalazku do jednej z dwóch 1/ulb obydwu powierzchni tasmy szklanej, która jest odprezana. Sposób zapewnia takze (powlekanie tasmy szkla która jest prze¬ mieszczana przez odprezarke .tunelowa, przy czym gaz zawierajacy silany jest uwalniany do strefy goracej, polozonej w odprezarce w miejscach gdzie temperatura iszkla znajduje sie w zakresie 400°C do 700°C.Sposób wedlug wynalazku moze byc wiec sto¬ sowany do obróbki walcowanego szkla plaskiego w odprezarce tunelowej. Przy obróbce walcowa¬ nego szkla plaskiego moga byc dopuszczalne za- S359 6 mglenia lub odksztalcenia w produkcie koncowym i w zwiazku z tym mozliwa jest praca przy tem¬ peraturach powyzej 700°C, ma przyklad w tem¬ peraturach okolo 750°C. Sposób wedlug wynalazku 5 moze byc ttakze stosowany do bezposredniej ob¬ róbki szkla plaskiego.Silany w gazie, który przeplywa w kierunku i w sasiedztwie goracej powierzchni szkla, 'która jest powlekana, przegrzewaja sie zanim osiagaja te 10 powierzchnie. Jest pozadane, aby temperatura, ga* zów sdlanowyGh .przy zetknieciu z powierzchnia powlekanego szkla byla tak wysoka jak tyllko jest to miozldwe, w celu unikniecia rozkladu w gazie.Gaz zawierajacy silany, dostarczany do stanowi- 15 ska powlekania utrzymuje sie w temperaturze przy której nie wystepuje znaczny rozklad, a wiec w temperaturze, ponizej 400°C, az do momentu uwolnienia w bezposrednim sasiedztwie goracej powierzchni szklanej. 20 Sposób ^dlug wynalazku jest zasadniczo prze¬ znaczony do osadzania powlok zawierajacych glównie krzem, lecz moze on byc takze stosowany do osadzania powlok zawierajacych krzem i inne materialy. Tak na przyklad, gaz zawierajacy sila- 26 ny moze zawierac takze prekursory gazowe dla innych materialów powlokowych, które moga lub nie moga reagowac z krzemem osadzonym z sila¬ nów. Sposób wedlug wynalazku moze byc stoso¬ wany w celu przykladania powlok do szkla prze- 30 zroczystego lub barwionego, na przyklad szkiel brazowych, zielonych lub .szarych, znajdujacych sie w handlu.W rozwiazaniach zalecanych, gaz zawierajacy si¬ lany zawiera od 0,1% do 20% objetosciowo sila- 35 nów, do 10% objetosciowo wodoru i od 70% do 99,9% objetosciowo gazu obojetnego. Silanami mo¬ ga byc monosilany (S1H4).Urzadzenie do pokrywania szkla wedlug wyna¬ lazku obejmujace rozdzielacz gazu umtieszczany po - 40 przecznde do drogi -przemieszczania sie powierzch¬ ni szklanej która ma byc powlekana, zawiera ka- nart zasilania gazem, dla podawania materialu po¬ wlokowego w apostaci gazowej. Srodki do stero- . wania temperatura kanalu, oraz wydluzona komo- 45 re o otwartym ironcie, umieszczona w sasiedztwie^ wymienionej drogi szkla, i laczaca sie wzdluz jej dlugosci z kanalem zasilania gazowego poprzez srodki ograniczania przeplywu gazu, przystosowa¬ ne do zapewniania wplywu gazu z kanalu do ko¬ so mory przy stalym cisnieniu wzdluz dlugosci ko¬ mory.Elementy do sterowania temperaitura kanalu stanowia zarazem elementy dla chlodzenia kana¬ lu. Urzadzenie wedlug wynalazku jest w szczegól- 65 nosci przystosowane do wytwarzania powlok krze¬ mowych z gazu zawierajacego silany, lecz moze byc takze stosowane do wytwai^ania innych po¬ wlok przez osadzanie z fazy gazowej. Uanzadizenia ograniczajace przeplyw gazu moga byc wykona¬ no ne w postaci ukladu kanalów (kanalików) o ma* lej powierzchni przekroju, prowadzacych z kana^¦', lu zasilania .gazowego do komory. Rozmiary tych kanalów sa wybrane tak, aby spadek cisnienia wzdluz kanalu ((glównego) byl maly w porówna- ** niu do spadku cisnienia wzdluz tych kanalików,t Miedzy kanaleim (glównym) i komora imoze byc izolacja termiczna. , Dzieki izolacji termicznej kanal zasilania gajo¬ wego i srodki ograniczajace przeplyw gazu m<5ga byc, utrzymywane w stenie chlodnym, w celu. u- nikniecia rozkladu silanów w fazie gazowej w ka¬ nale (glównym) lub w urzadzeniach ograniczaja¬ cych, gdy gaz jest (gwaltownie ogrzewany w ko¬ morze przed zetknieciem z powierzchnia szkla;, po siwoim uwolnieniu do komory [przy stalyni cisnie¬ niu wzldluz dlugosci komory. Ponadto^ izolacja ter- miczina ogranicza chlodzenie scianek ograniczaja- cycih komore za pomoca srodków ochlodzenia ka¬ nalu (glównego) i umozliwia polepszenie regulacji warunków w komorize.Takie urzadzenie moze byc stasowane na przy¬ klad w celu wytwarzania jednorodnej powloki krzemowej na tasmie unoszonego szkla o szero¬ kosci 3 m. Scianki boczne komory imoga byc u- kfeztaliowaine tak, aby wyznaczac kanal w komo¬ rze, rozszerzajacych sie od srodków ograiniczaja- cych do otwartego frontu komory. Zastosowanie profilowanych scianek bocznych komory umozli¬ wia regulacje -ukladu strumienia przeplywajacego W komorze. Uklad strumienia gazowego zalezy takze od innych parametrów takich jak tempera¬ tura powierzchni szkla, temperatura gazu zawie¬ rajacego silany, uwalnianego do komory i szyb¬ kosc powierzchni /szkla przy ot(war!tym froncie ko¬ mory. Za pomoca regulacji róznych parametrów mozna sterowac uklad strumienia gazowego, w celu osiagniecia powlok jednorodnych i skutecz¬ nego wykorzystania silanów, a jednoczesnie mozna zasadniczo uniknac rozkladu silanów w fazie ga¬ zowej.Przy zastosowaniu silanów do wytwarzania po¬ wlok krzemowych, na tasmie szkla przesuwaja¬ cego sie wzdluz kapieli stopionego metalu, tem¬ peratura zasilania kanalu gazowego powinna byc regulowana w taki sposób, aby gaz zawierajacy silany byl utrzymywany ponizej 400°C, przed przeplywem poprzez ograniczniki przeplywu gazu do komory wylotowej. Srodki regulacji tempera¬ tury kanalu moga zawierac plaszcz dla plynu (/- "grzewajacego lub chlodzacego posiadajacy kontakt termiczny z kanalem zasilania gazowego.- W celu chlodzenia kanalu poprzez plaszcz mozna przepusz¬ czac wode, dla utrzymywania gazu w temperatu¬ rze chlodzacej wody. Chlodzenie rozdzielacza (do¬ zownika) gazów pomaga takze zlagodzic zginanie sie tego rozdzielacza i zlagodzic problemy, które powstaja przy jego zginaniu sie.Wynalazek zapewnia sposób ksztaltowania sie na goracej tasmie szkla, jednorodnej i trwalej po¬ wloki krzemowej, która nadaje szklu pozadane wlasciwosci regulacji (swiatla slonecznego) i przy¬ jemny wyglad.Przedmiot wynalazku jest uwidoczniony w przy¬ kladach wykonania na rysunku, na którym fig. 1 przedstawia w przekroju pionowym urzadzenie wytwarzajace szklo plynace (unoszone) przedsta¬ wiajacym konstrukcje zbiornika zawierajacego ka¬ piel stopionego metalu oraz ^urzadzenie ido rozdzie¬ lania (dozowania) gazów wedlug wynalazku, u- & mieszczone poprzecznie do toru przesuwania si^ tasmy z tafli szklanej w poblizu konca (wyloto¬ wego urzadzenia, fig. 2 — urzadzenie z fig. 1 w przekroju wzdluz linii II—II, fig. 3 — urzadzenie 5 z fig. 2 w przekroju wedlug linii III—III, przed¬ stawiajacy bardziej szczególowo rozdzielacz gazo¬ wy, fig. 4 — widok z dolu nozdzielacza wedlug fig. 3, przedstawiajacy elementy do ograniczania przeplywu gaz/u, przez które chlodzony gaz jest u- !• walniany do dolnej komory z otwartym frontem (komory otwartej), fig. .5 — czesc srodków ograni¬ czania przeplywu ,gazu, w powiekszeniu, fig. 6 — przedmiot fig. 3 w rzucie z góry, w kierunku we¬ dlug strzalki VI, wskazujacym urzadzenie do re- l* gulacji bocznych elementów weglowych na roz¬ dzielaczu, fig. 7 — przedmiot fig. 3 w podobnym przekroju czesciowym, który ilustruje postac roz¬ dzielacza gazu z profilowanymi sciankami bocz¬ nymi dla komory otwartej, zapewniajacymi /ksztalt 2i rozbiezny tej komory, fig. 8 ^- urzadzenie z fig. 7 w podobnym przekroju czesciowym, który ilustru¬ je jeszcze inna postac profilowanych scianek bocz¬ nych dla otwartej komory rozdzielacza gazu, fig. 9 — urzadzenie wedlug fig. 3, w podobnym prze- 29 kroju dla innej postaci nozdzielacza gazu z komo¬ ra otwarta o jeszcze innym ksztalcie, fig. 10 — inny przyklad postaci wykonania urzadzenia przedstawionego schematycznie w przekroju po¬ przecznym, przeznaczone do powlekania szkla w 31 odprezaczu tunelowym, fiig. 11 — zespól okienny w przekroju poprzecznym z szyba wykonana spo¬ sobem wedlug wynalazku, posiadajace pojedyncza plyte — tafle szklana pokryta krzemem i zamon¬ towana w ramie, zas fig, 1:2 — wieloszyibowy ze- 35 spól okienny w przekroju poprzecznym o szybach powleczonych sposobem wedlug wynalazku.Te same oznaczenia na rysunkach oznaczaja jednakowe lub podobne czesci. 41 Fig. 1 do 6 przedstawiaja zalecana pofctac urza¬ dzenia wedlug wynalazku, przeznaczonego do wy¬ twarzania jednorodnej cienkiej powloki krzemu na górnej powierzchni tasmy plynacego szkla. Po¬ wlekanie jest realizowane w kierunku konca wy- 45 lotowego kapieli ,gdy tasma osiaga polozenie, w którym jest podnoszona z powierzchni kapieli sto¬ pionego metalu, na której zostala utworzona.Fig. 1 i 2 ilustruja stopione szklo 1 podawane w konwencjonalny sposób wzidluz kanalu 2, pro- 51 waidzacego z zasilacza pieca do stapiania szkla.Kanal 2 konczy sie w rynnie Spustowej, posiada¬ jacej boczne ceramiczne bloki (framugi) 3 oraz dziób 4. Przeplyw stopionego iszkla do rynny spu¬ stowej, zazwyczaj szkla aodowo-waprnowo-krzemo- 55 wego, jest regulowany przez regulowanie przy¬ slony 5. Rynna spustowa przebiega ponad scianka konca wlotowego 6 z konstrukcji zbiornikowej o- foejmujac 'dno 7, wylotowa scianke koncowa 8 i scianki boczne 9. Konstrukcja zbiornikowa zawie- 6t ra kapiel stopionego metalu 10, zazwyczaj sito^ pionej cyny lub stopów cyny, w której przewaza cyna. Stqpione szklo przez wyplyw 11 ponad dzio¬ bem rynnowym 4 plynie na powierzchnie kapieli istopionego sizkla 10. Na koncu wlotowym kapie¬ li li temperatura utrzymywana jest w zakresie6 108 359 10 1000°C, za poimoca grzejndlków 12, zamontowanych w 'konstrukcji stropolwej 13, która jest podtrzy¬ mywania ponad konstrukcja zbiornikowa i wyzna- ciza obszar przystriopowy 14 ponad kapiela stopio¬ negometalu. .5 Konstrukcja stropowa posiada scianke 15 konca wlotowego, (która zwisa do dolu blisko powierzch¬ ni kapieli stopionego metalu 10, ma koncu wloto¬ wym kapieli, w celu utworzenia wloltu 16 o o- graniczonej wysokosci. *• Przedluzenie 17 konstrukcji stropojwej rozciaga sie .az do przegrody (przeslony) 5, w celu utwo¬ rzenia komory w której zamykana jesit rynna, spu¬ stowa. Konstrukcja stropowa posiada takze wy¬ stajaca do dolu scianke 19 na Ikoncu wylotowym.Wylot 20 tasmy 21 dla wytwarzanego sdkla w ka¬ pieli jest ograniczony miedzy dolna .powierzchnia scianki 19 i koncem wyllotojwytm komistailkcji stro¬ powej oraz górna powierzchnia scianki 8, konca ¦ wylotowego kajpielii. Napedzane walki pociagowe 22 20 sa zamontowane poza Wylotem 20. Górne po¬ wierzchnie walków znajduja slie tuz nad pozio¬ mem powierzchni scianki 8 konca wylotowego Ka¬ pieli, wskutek czego' taisma isizkla jest podndszona lagodnie od powierzchni kapieli, w celu wylado- 25 wania poziomo, poza wylotem 20 z kajpieli na wai- .kach 22.. W obszarze przystropowym 14 nad ka¬ piela utrzymywana jest w warunkach nadcisnie¬ nia atmosfera ochronna, na,przyklad 95°/o azotu i 5°/o wodoru. Jest ona dostarczana poprzez kanal 24 oraz kanaly 23, wystajace do dolu poprzez strop 13 i przylaczone do wspólnej rury rozgale¬ zionej.Atmosfera ochronna wyplywa na zewnatrz po¬ przez wlot 16 i wypelnia komore 17 otaczajaca rynne .spustowa. Wzdluz kapieli utrzymuje sie spa¬ dek /temperatury od okolo 1000°C na koncu wlo¬ towym kapieli do tem^peratury w zakresie okolo 570°C do 860°C na konau wylotowym, gdzie tasma szkla spuszczana jest na Ikapdel. W tej dolnej (niz¬ szej) temperaturze szklo jest wystarczajaco sztyw¬ ne i nie jest zaklócane przez stycznosc z walkami pociagowymi 22, lecz moze 'byc jeszcze podnoszo¬ ne z powierzchni kapieli jak przedstawiono. Sto¬ pione szklo przez wyplyw 11 splywa po ceramicz¬ nych blokach 3 ponad' dziobkiem 4 rynny spu¬ stowej na kapiel posiada mozliwosc przeplywu poprzecznego na kapiel jalk pokazano na fig. 2, w celu wytworzenia warstwy 25 stopionego szkla, która jest nastepnie przenfteiszczana w postaci wstegi 21 chlodzonej i 'wyladowywanej w kajpieli.Szerokosc konstrukcji zbiornikowej zawierajacej kapiel pomiedzy sciankami 'bocznymi 9 jest wiejk- sza niz'szerokosc tasmy.Rozdzielacz gazu do zasilania igazem zawieraja¬ cym silany na powierzchnie tasmy szklanej jest umieszczony poprzecznie do drogi poruszania sie tasmy szkla wzdluz kajpieli tuz przy koncu wy¬ lotowych kapieli, jalk pokazano na fig. 1 i 2, gdzie temperatura szkla znajduje sie w zakresie 570°C do 67G°C.W urzadzeniu- wedlug wynalazku, do powierz¬ chni szkla doprowadzany jest gaz zawierajacy si¬ lany, który zawiera od 0,l*/o do 20% objetosciowo silanów, do 10% objetosciowo wodoru i od 70% do 99,9% abjetoscioiwo gazu obojetnego, zwykle azotu. Przy (temperaturach w zakresie 570°C do 670°C silany w gazie latwo rozkladaja sie przez pirolize na igoracej powierzchinii szkla, pozostawia¬ jac osad Si na pojwderzchm iszkla. W rozwiazaniach zalecanych silany sa momosalainaml S1H4.Rozdzielacz gazu 26 na fig. 1 a bardziej szcze¬ gólowo przedstawiony jest na fig. 3 ido 6. Roz¬ dzielacz zawiera czesc kanalowa 27 z otworem po¬ laczona spoina 28 do stropu 29 wiekszego czlonu kanalowego o przekroju odwróconego „U", któ¬ ry posiada takze scianki /boczne 30. Pusta czesc kanalowa 27 stanowi kanal 31 dla .plynu chlodza¬ cego1, zazwyczaj wody. ' Poziome czlony 32 wystaja do wewnatrz kazdej ze scianek bocznych 30 wzdluz calej dlugosci tych scianek bocznych, a kralwedzie wewnetrzne czlo¬ nu 32 wyznaczaja. wydluzony otwór 33 w postaci szczeliny. Inny czlon 34 o przekroju odwróconego duzego „B" jest przymocowany symetrycznie na czlonkach poziomych 32, przykrywajacych otwór 33. Dolne krawedzie czlona 34 sa przyspawane do czlonów poziomych 32, a czlon 34 wyznacza kanal 35 zasilania gazem z otworem wylotowym 33 w dolnej powierzchni, Miedzy czlonem 34 T czlonem 29, 30 wyznaczo¬ ny jest dalszy kanal 36 o ksztalcie odwróconego „U", sluzacy do przeplywu wody clhlodzacej. Roz¬ dzielacz wyznacza takze wydluzona otwarta ko¬ more 40 przylegajaca do toru przemieszczania gór¬ nej powierzchni 41 talslmy szkla 21, i laczaca sde wzdluz swojej dlugosci z kanalem 35 zasilania" gazowego. W wykonaniu wedlug fig. 1 do 6 ko¬ mora otwarta posiada stnrop wyznaczony przez plyty 42 ze sprasowanego, nieorganicznego, wlók-, nistego materialu, izolacji termicznej, które wy¬ znaczaja wydluzony otwór 43 zsynchronizowany z otworem 33 w dnie Ikanalu 35 zasilania gazowego1.Konce komory 40 sa zarnitaniete weglowymi scian- kaimi "koncowymi 44, a .kazda (scianka boczna ko- miory 40 jest ultworzoria przez dwie plytki 45 po¬ laczone razem centralnym przegubem 46. Fig. 2, który jest przymocowany do scianki bocznej 30 kanalu 36. Plyty 45 sa utrzymywane w swoiim po-. lozeniu na podkladkach izolujacydh 47 z tego sa¬ mego materialu co plytki 42, które opieraja sie na plytkach mocujacych 48, przymocowanych do scianek bocznych 30, przez sworznie 46, przepusz¬ czone poprzez szlczeHiny 56 w plytkach i przymo¬ cowane do plytek 48.Sprezyna dociskowa 51 jesit utrzymywana na kazdym ze sworzni 50 przez nakretki 52 i opiera sie na plytce oczkowej 53, na zewnetrznej po¬ wierzchni plytki. Taki zestaw umozliwia regula¬ cje, plytek 45. Powierzchnie doilne 54 plytek moga „ byc nastawiane Misko górnej powierzchni tasmy szkla tak jak to jest mozliwe w polprzek calej sze¬ rokosci (tasmy.Srodki ograniczajace przeplyw gazu mocowane pomiedzy otworami 33 i 34 zawieraja plytki nosne 55, które posiadaja centralna plytke waflowa 56 wykonana z karbikowanych plytek metalowych.Plytki nosne 55 10 15 20 23 30 29 40 49 50 55 60108 359 11 12 mych czlonów 32 których lby sa wpuszczone do plytek 55 i sa [przykryte plytkami izolujacymi 42 przytwierdzonymi za pomoca odpowiednich klejów do plytek 55. Centralna plytka waflowa 56 za¬ wiera (fig. 5) szereg karbikowanych odcinków metalowych 58 zestawionych ,,niezgodnie w fa¬ zie" w celu utworzenia .szeregu kanalików 159, -które maja mala. powierzchnie, przekrojiu poprzecz¬ nego w stosunku do powierzchni przekroju po¬ przecznego kanalu 35 zasilania gazowego. Gdy gaz zawierajacy silany jest dostarczany pod cisnieniem do kanalu 35 poprzez kanaly 66 zasilania gazo¬ wego na kazdym koncu rozdzielacza (fig. 2) spa¬ dek cisnienia wzdluz kanalu 35 jesit maly w po¬ równaniu ze spadkiem cisnienia poprzez kanali¬ ki 159.Tak wiec plytka waflowa 56 tworzy skutecznie srodki ograniczania przeplywu gazo, w celu za¬ pewnienia wyplywu chlodnego gazu zawierajace¬ go silany do komory wylotowej 40, przy zasad¬ niczo stalym cisnieniu i temperaturze wzdluz ca¬ lej dlugosci komory wylotowej. Plytki nosne 55 w Iktórych zamontowana jest plytka waflowa 56 sa takze wykonane z metalu, który znajduje sie w dokladnym kontakcie z chlodzonymi czlonami pgziomymi 32. Plytka waflowa 58 jest. utrzymy¬ wana w temperaturze ponizej 400°C, a rozdzielacz 26 (dozownik) jesit umieszczony w przestrzeni pod¬ stropowej po stronie wylotowej urzadzenia wy¬ twarzajacego plynne szklo, gdzie temperatura o- loczenia jest troche nizsza niz temperatura tas¬ my.Jednakze jesit pozadane aby komora wylotowa 40 byla" ogrzewana przez promieniowanie w górnej powierzchni 41 tasmy szkla 21 przechodzacego ponizej otwartego czola komory wylotowej. Roz¬ dzielacz 26 — dozownik jest przy tym umiesz¬ czony jak przedstawiono na fig. 3, aby. dolna kra¬ wedz 61 komory wylotowej 40 znalazla sie w bez¬ posrednim sasiedztwie górnej powierzchni 41 tas¬ my 21, która ma otrzymac powloke krzemowa.Wprowadzenie izolujacych termicznie plytek 42 zapewnia utrzymywanie kanalu 35 zasilania ga¬ zowego i plytki waflowej 56 na stalej temperatu¬ rze ponizej 400°C, w iktórej silany nde rozkladaja sie i nie osadzaja krzemu ani na wewnetrznej po¬ wierzchni (kanalu 35 ani na plytce waflowej 56.Weglowe scianki komory 40 utrzymywane sa za¬ sadniczo w temperaturze otoczenia. Przestrzen w komorze 40 tworzy strefe ogrzewania, do której gaz ochlodzony zawierajacy silany jesit uwalnia¬ ny przy zasadniczo stalej temperaturze i cisnieniu w poprzek powierzchni szkla.Woda chlodzaca jesit dostarczana do jednego konca rozdzielacza 26 gazu, na zewnatrz konstruk¬ cji zbiornikowej (fig. 2). Rurka zasilania woda 62 jest przylaczona do kanalu 36, a woda przeplywa wzdluz kanalu 36 do drugiego konca (rozdzielacza 26 i nastepnie poprzez .otwór, niepokazany w stro¬ pie 29 i w dnie czesci kanalowej 27 z pustym kanalem, do górnego kanalu 31. Woda plynie wzdluz kanalu 31 do iruriki spustowej 63 na tym samym koncu rozdzielacza 26 na którym (znaj¬ duje sie) rurka zasilania woda 62. Talkie zasilanie wdda chlodzaca chlodzi czlony 27, 29, 30 d 34 tak, ze ^utrzymywana jest sztywnosc rozdzielacza 26 gazowftgo a gaz zawierajacy silany przeplywajacy poprzez kanal 35 gazowy jest utrzymywany w y przyblizeniu w temperaturze wody chlodzacej na przyklad 40° do 50°C. Na fig. 2 uwidoczniona jest komora 40 na spodzie rozdzielacza 26 gazowego umieszczana tylko w centralnej czesci rozdziela¬ cza, która posiada dlugosc taka jaka ma najszer- 1 sza tasma powlekana podczas swojego ruchu wzdluz kapieli. Otwór 33 przebiega dlatego tylko ponad srodkowa czescia kanalu 35 zasalania ga¬ zowego i w strone obydwu ^konców kanalu, poza komora 40 kanal 35 zasilania gazowego i kanal 36 wody chlodzacej posiadajace ciagle dno utworzo¬ ne przez ciagla plytke, przyspawana do scianek bocznych 30.Rozdzielacz 26 gazowy jest umieszczony z moz¬ liwoscia regulowania, w konstirulkcji zbiornikowej (fig. 2) i jest osadzony w szczelinie w otworach 64 scianek bocznych 9 w konstrukcji zbiorniko¬ wej. W celu (ustawienia {nastawienia) rozdzielacza 26 gazowego uwalniane sa otwory 64, a rozdzie¬ lacz gazowy jest przesuwany w poprzek konstruk¬ cji i zbiornika od jednej strony, która wedlug fig. 2 jest strona lewa. Lewa strona rozdzielacza utrzymywana jest w pierscieniu 65, zamocowanym na polaczeniu obrotowym na górnym koncu gwin¬ towanego idrazka podtrzymujacego 68, którego dol¬ ny koniec sprzega sie z przekladnia slimakowa zaslony 67, dajaca sie obracac recznie za pomoca kola 68.Obudowa 67 miesci sie na wózku podporowym 69, poruszajacym sie po torze prowadzacym 70, z którego pokazano tylko krótka czesc. Walek ob¬ ciazajacy 71 zamontowany na górnym koncu pod¬ pory 72 mozna regulowac pionowo w celu zapew¬ nienia podparcia dla rozdzielacza 26 gdy jest on wprowadzany z lewej kon&triukcji zbiornikowej rozdzielacza. Rozdzielacz 26 jest kierowany przez konstrukcje zbiornikowa na podobny walek ob¬ ciazajacy 71, który jest zamontowany na górnym koncu regulowanej podpory 73. Prawy koniec roz¬ dzielacza przechodzi przez pierscien 74, który jest podobnie jak pierscien 65 zmontowany na gwin¬ towanym drazku 75 sprzegajacym sie z przekla¬ dnia slimakowa w obudowie 76, dajapa sie na¬ stawic recznie kólkiem 77. Obudowa 76 zamon¬ towana jest na nieruchomej podporze 76.Plrzy nastawianiu rozdzielacza 26 po jego wpro¬ wadzeniu na prawo poprzez konstrukcje zbiorni¬ kowa i umieszczeniu pomiedzy pierscieniami 65 i 74 obraca sie kólka 68 i 67 w celu podniesienia rozdzielacza z walków odciazajacych 71, 71'. Obrót kólek 68 i 76 umozliwia takze regulacje poziomu rozdzielacza w poprzek konstrukcji zbiornikowej.Dolne powierzchnie 54 scianek bocznych 45 sa u- stawione blisko górnej powierzchni tasmy szkla¬ nej tak jak jest to mozliwe. W praktyce przy przesuwaniu rozdzielacza poprzez konstrukcje zbiornikowa zaleca sie opierac go na jego tylnej stronie. W ftym. przypadku rozdzielacz 26 umiesz¬ czony jest w isposób odwrotny i nastepnie odwra¬ cany przez obracanie pierscieni 65 i 74 o 180°. !• 15 20 25 31 35 40 45 50 55108 359 13 14 Pomimo chlodzenia czlonów 27, 29 i 30, które po¬ magaja utrzymywac sztywmofsc, wystepuje zawsze okreslanie ugiecie rozdzielacza. W celu jego kom¬ pensowania reguluje sie plyty 45 wokól ich cen¬ tralnych osi przegubowych 46. Regulacja ta reali- ziowana jest za pomoca' mechanizmu przedistawio- nego (schematycznie na fig. 2 d /bardziej szczegó¬ lowo na fig. 3 i 6.Kazda (plyta 45 posiada piec szczelin 50, po¬ przez które przechodza napiete sprezynami sworz¬ nie utrzymujace 49. W poblizu zewnetrznego kon¬ ca kazdej plyty, blisko dirqgiej ze sziczeiin, znaj¬ duje sie urzadzanie regulujace, umocowane' do glównej rx»waerzichni kazdej plyty, przeznaczone do obracania ipiyty wokól stalej centralnej osi przegubowej 46 w granicach dopuszczalnych przez szczeliny 50. Zwykle plytki 45, sa obracane troche do doluv wokól swojej centralnej osi przegubowej 46, w celu kompensowania uciecia czlonów 27, 29 i 30 w celu prz,ysuniecia dolnych powierzchni 54 bocznych scianek tak blisko jak, jetet to moz¬ liwe do górnych powierzciind talsrny nia calej sze¬ rokosci tej tasmy.Kazde z urzadzen regulacyjnych zawiera, meta¬ lowa plytke podstawy 79 (zabke- (niwelacyjna) któ¬ ra Jeisit mocowana meruchomo sruba 80 do gór¬ nej powierzchni jego plytki 45. Plytka podstawy posiada stojacy pionowo wystep 61 do którego na -dolnym koncu gwintowanego drazka 83 przymo¬ cowany jest kolkiem przegubowym 84 "element rozwidlony 82. Gwintowany drazek 83 przechodzi do góry poprzez oczko 85 we wsporniku nosnym 86, przyapawanym do 'zewnetrznej powierzchni scianki bocznej 30 kanalu chlodzenia wodnego 36.Podkladka oporowa 87 -jest przytwierdzona do wierzcholka wspornika 86. Poprzez te' podkladke przechodzi do góry drazek 83, który posiada umo¬ cowane 'stozkowe kolo zebate 86 zewnetrznie gwin¬ towane sprzegajace sie ze stozkowym kolem ze- bajtym 89, które jest przytwierdzone do zamoco¬ wanego poziomo drazka 90, utrzymywanego w lo¬ zysku niedizielonym 91, osadzonym na zebrze 92.Zebro to jest umocowane za pomoca sworzni 83 do wisiporniika 94, przyspawanego do zewnetrznej powierzchni czesci 27 z pustym .kanalem.Wedlug fig. 2 drazek 90 przebiega wzdluz cze- ' sci kanalowej 27 poprzez boczna scianke zbior¬ nika i jest utrzymywany w drugim lozysku nie- dzielonym, niepokazanym, w pierscieniach odpo¬ wiednio 65 i 74. Zewnetrzny koniec kazdego draz¬ ka 90 jest uksztaltowany w postaci nakretki, slu¬ zacy do obracania za pomoca narzedzia tego draz- ika, w celu podnoszenia lub opuszczania plytek 45 wokól ich osi przegubowych.Kazdy z kanalów zasilania gazowego 80 jest przylaczony jak pokazano w lewej czesci fig. 2 do mieszacza 9£, polaczonego poprzez linie nasi¬ lania gazowego 93, przez miernik przeplywiU 94 i zawór regulacyjny 95 do linii 96, która jest 'przylaczona do zasilacza gazowego monosilanu SiH4 w azocie. Druga linia zasilania gazojwego 97 jest (przylaczana do mieszacza 92 i poprzez mier¬ nik 98 do zaworu regulacyjnego 99 przylaczonego poprzez linie zasilania gazowego 100 do zasilacza mieszanka azotu i wodoru, o regulowanymi skla¬ dzie. Zawory regulacyjne 95 i 99 umozliwiaja -re¬ gulacje skladu gazu zawierajacego siUany, dostar¬ czonego do kanalów 66 w talki sposób, ze gaz zar wiera od 0,1% do 20*/© objetosciowo silanów, do 10°/o objetosciowo wodoru, i od 70 do 99,9*/o ob¬ jetosciowo gazu obojetnego, w tym przypadku a- zotu.- W rozwiazaniach zalecanych kanaly 60 po oby¬ dwu stronach rozdzielacza gazowego sa laczone do mieszacza 92. Mozna jednak zalsitosowac odreb¬ ne zasilanie dla kazdego z konców zateilacza. Pod¬ czas [gdy (poniewaz) w opisywanym rozwiazaniu ?az jest dostarczany na obydwu koncach rozdzie¬ lacza, wiec moze byc wystarczajace dostarczenie gazu do kanalowego w jednytm punkcie. Zawory w ukladzie zasilania gazem sluza do regulacji predkosci przeplywu gazu zawierajacego silany, do kanalu 35 zasilania gazowego a tym samym do sterowania przeplywem poprzez plytike waflowa 53 w strone ogrzewanej komory 40. Predkosc prze¬ plywu gazu do 'kanalu 35 jest taka, ze wyplyw gazu poprzez iplyttike waflowa i otwór 43 do ko¬ mory 40 jest realizowany przy jednakowym cis¬ nieniu wzdluz calej dlugosci komory 40, w * celu zapewnienia jednorodnosci obróbki w calej szero¬ kosci tasmy (szkla).Calkowita szybkosc przeplywu gazu zawieraja¬ cego silany jest regulowana za pomoca zaworów 55 i 50 w celu zapewnienia jednorodnej powloki i skladu gazu zawierajacego silany. W szczególno¬ sci stezenie silanów, jest regulowane zaworem 55 w zaleznosci od predkosci przesuwania sie tasmy szkla 21 wzdluz powierzchni kajpieli ponizej o- twartego frontu komory 40, aby utrzymac szyb¬ kosc pirolizy silanów na powierzchni goracego szkla 41, zapewniajaca powloke krzemowa o z gó¬ ry okreslonej grubosci na tej powierzchni, w cza¬ sie gdy tasma szkla wyplywa z Obszaru ponizej otwartej komory. Zwykle przy realizacji wyna¬ lazku regulacja skladu zawierajacego silany od¬ bywa sie lacznie z inspekcja wyrobu. Nastawienie zaworów utrzymuje sie na wartosci zabezpiecza¬ jacej zadana grubosc powloki krzemowej. Sklad (mieszanki) moze byc z góry obliczony i/Lub usta¬ lony eksperymenitaflnie, przy czym nastepnie do¬ konuje sie dokladnej regulacji w celu uzyskania zadanej grubosci powloki.Wodór i azot z gazu zawierajacego silany wy¬ plywaja poprzez szczeline istniejaca pomiedzy dol¬ nymi krawedziami 54 komory otwartej i górna powierzchnia tasmy szkla. Rozwaza sie wiec u- mieszczenie uszczelnienia pomiedzy powierzchnia dolna przeciwipradowej scianki bocznej 45 ko¬ mory przez obróbke pl^t 45, jpowodujaca przyle¬ pianie sie materialu stopionego na przyfelad sto¬ pionej cyny do dolnej powierzchni tej "scianki i stykanie sie z górna powierzchnia tasmy szkla tuz przed powlekaniem jej. Wprowadzenie taMego uszczelnienia sprawia, ze caly wyplyw gazu odby¬ wa sie w kienunlku zgodnym z prajdem i laczy z glównym przeplywem atmosfery ochronnej oczysz¬ czajacej koniec wylotowy kapieli poprzez wylot 20. 10 15 M 29 30 35 40 45 50 65 6015 108359 16 W urzadzeniu moga znajdowac sie kanaly wy¬ ciagowe na przyklad nury z napieciami umocowa- ne do zewnetrznej strony rozdzielacza i sluzace do odprowadzania zuzytych -gazów z komory 40.W procesie wymagane jest szybkie ogrzewanie gaziu zawierajacego silany bez rozkladania w fa¬ zie gazowej. Ogrzewanie gazai w czasie jego pize- plywu w komorze Wylotowej 45 zalezy od czasu pozostawania gazu w tej ikotmorze który zwiaza¬ ny jelst z objetoscia wlasciwa tej komory i jej u- ksztaltowaniem.Na fig. 7 i 8 przedstawione sa dwa alternatyw¬ ne przyklady wykonania rozwiazania komory wy¬ lotowej, w którycn scianiki boczne 101 sa griuiby- mi sciankami weglowymi, przymocowanymi sworz¬ niami 102 do plyt nosnych 55. W urzadzeniu znaj¬ duja sie plyty posrednie 42 z izolacji termicznej.Scianki 101 posiadaja profil okreslajacy w komo¬ rze kanal, który rozszerza sie od otworu 43 do otwartego czola komory. Wewnetrzne powierzchnie 103 scianek bocznych moga posiadac zakrzywiony ksztalt jak pokazano na fig. 7 z szybko rosnacym przekrojem poprzecznym tak, aby zapewnic szyb¬ kie rozprezenie sie gazów plynacych do dolu po¬ przez szczeline 43.Bardziej lagodne rozprezanie i zmodyfikowany uklad przeplywu zapewnia rozwiazanie wedlug fig. 8, w którym wewnetrzne powierzchnie 103 scianek 101 sa prostymi powierzchniami pochylo¬ nymi.Inne rozwiazanie rozdzielacza wedlug wynalaz¬ ku przedstawia fig. 9, w którym rozdzielacz po¬ siada komore otwarta uksztaltowana dla laminar- nego przeplywu gazu powlekajacego równoleglego do powierzchni szkla 41.Rozdzielacz zawiera czlon 130 z kanalem i prze¬ kroju odwróconym „U" posiadajacy scianki bocz¬ ne 131, 132 i scianke górna 133. Kanal wewnatrz czlona 130 jest podzielony na dwie czesci pionowa przegroda 134 polaczona spoina 135 ze scianka fórna 133. Poziome czlony 138 i 139 wystaja do wewnatrz ze scianki bocznej 131 i przegrody 134 przylegajacej do ich dolnych krawedzi i razem wyznaczaja wydluzony otwór 136. Dniigi mniejszy czlon 146 z kanalem o przekroju „U" jest umiesz¬ czony symetrycznie nad otworem 136, przy czym jego dolne krawedzie sa przys/pawane do czlonów (poziomych 138 i 139. Czlon poziomy 141 jest przy- sipawany do podstawy pionowej przegrody 134, a podstawa scianki 132 wystaje poza scianke 132.Dwa czlony 136 i 140 z kanalami o przekroju odwróconego „U", razem z czlanaimi poziomymi 138 i 139 wyznaczaja kanal 142 o przekrojiu „U" sluzacy do przepuszczania plynu chlodzacego. Pro*- stokatny kanal powrotny 133 wyznaczany jest przez scianke boczna 132, scianke górna 133, prze¬ grode 134 i czlon poziomy Ml. Wewnetrzna po- wieirzchnia czlonlu 140 z kanalem o przekroju „U" razem z czlonem poziomym 138 i 139 wyznaczaja kanal zasilania gazowego 144. Urzadzenia ogranicz¬ nika przeplywu igaziu 145 podobne do przeclstawio- nych na fig. 3, 4 i 5 posiadaja plytke waflowa 56 pomiedzy plytkami nosnymi 55 i sa przymo¬ cowane do dolnych* czlonów poziomych 138 i 139 za pomoca -wpuszczanych sruto 57, a plyta wa¬ flowa 56 jest zestrojona z otworem 136.Podobnie jak w rozwiazaniu uwidocznionym na fig. 3 kanaly w plycie waflowej 58 maja prze¬ krój poprzeczny o powierzchni malej w sitosiunku' ido powierzchni kanalu 144 zasilania gazowego.Profilowane bloki weglowe 146, 147, 149 wyzna¬ czaja komore 150 o ksztalcie „U" posiadajaca o- twarty front, rozciagajacy sie w poprzek górnej powierzchni 41 tasmy szkla 21 które ma^c po¬ wlekane. Blok weglowy 146 obejrniuje dolna i gór¬ na czesc 153 i 152 z warstwa 154 wlókniiistego ma¬ terialu izolacji termicznej miedlzy nimi. Profilo¬ wany blok weglowy 147 obejmuje podobne ma¬ terialy laminatowe czesci górnej i dolnej 155, 156 z warstwa wlóknistego materialu izolacji termicz¬ nej 157 miedzy nimi. Warstwy Izolacji termicznej 154, 157 re dzonym kanalem zasilania gazowego i komora 150, umozliwiajac ksztaltkom weglowym wyznaczaja¬ cym .scianki komory nalgrzewanie sie w czasie eks¬ ploatacji.Do zewnetrznej powierzchni scianki bocznej 132 czlona 130 z kanalem o przekroju .,U" jest przy¬ dawanych wiele wkladek dystansowych 167 roz¬ sunietych wzgledem siebfe. Profilowany blok we¬ glowy 146 znajduje sie na powierzchni górnej blo¬ ku we^lowe^o 147 i styka sie z tylnymi oowierz- chniami wkladek dystansowych 167. Wkladki dy¬ stansowe 158, odpowiadajace wkladkom dystan¬ sowym 167 umieszczone sa w galezi wspólprado- wej komory 150 o ksztalcie „U" i w odrebnych profilowanych blokach weglowych 148, 149. Wlklaid- iki dystansowe 158 i blok weglowy 148 sa przy¬ twierdzone do wkladek dystanlsiowych 167 sruba¬ mi 160, których lby sa wpuszczone do wkladek /dystansowych 158. 'Profilowany blok weiglowy 149 jest przytwierdzony srubami 168 umocowanymi we wkladlkaich dystansowych 158.Sruby 168 mocuja takze wsporniki 162, które rozciagana sie wzdluz rozdzielacza i roodtirzyfmuia kanal 163, posiadajacy wydluzony otwór 164 dla zalsilania sprezonym gazem. Powierzchnie bloków weglowych 146, i!47, 148 i 149, które wyznaczaja scianki komory 150 o ksztalcie „U" sa gladkie i profilowane w celu unikniecia zawirowan i u- mozliwienia przeplywu laminarneigo gaziu ponad powierzchnia szkla 41. Pomocnicze bloki weglowe 165 i 166 sa przymocowane do tylnej powierzchni profilowanego * bloku weglowego 149 na jego wierzcholku i sjpoidzie i pomaigaja regulowac prze¬ plyw gazu. Dolny pomocniczy blok rozciajga sie poziomo w poblizu powierzchni gazowej i ogra¬ nicza przeplyw gazu pod podstawa 149.W trakcie eksploatacji kanaly 142 i 143 które sa polaczone otworem w przegrodzie 144 w jed¬ nym jej koncu sa laczone z zasilaniem plynem chlodzacym kanalu 144 zasilania gazem jest przy¬ laczony do zródla gazu silanowego w taki sam sposób jak urzadzenie uwidocznione na fig. 1 do 6. Ponajdto kanal 163 jest przylaczony do zródla (niepokalanego) sprezonego ga^lu na przyklad azo¬ tu/wodoru, który plynie poprzez otwory 164 i slu- 10 15 20 23 30 35 40 45 50 55 <¥108 359 17 zy do rozpraszania. zuzytych gazów wydobywaja¬ cych sie z komory 150 o ksztalcie „U".Obecnie zostana opasane przyklady funkcjono- wanda. Ptrzylklady I do IV odnosza sie do produk¬ cji powlok krzemowych na górnej powierzchni talsmy plynacego szkla, tuz przed wyladowaniem tasmy z urzajdzemia do wytwarzania szkla plyn¬ nego. Przyklad V dotyczy wytwarzania powloki krzemowej na tasmie walcowanego szkla plaskie¬ go, w czasie jago przepuszczania przez odiprezacz tunelowy. W olpiiisie przykladów podano wlasciwo¬ sci optyczne wyrobów. Podane grubosci powlok sa wyznaczane , ha podstawie konwencjonalnych pomiarów optycznych grubosci. Przepuszczalnosc dla swiatla biialelgo wyznaczano stosujac jako zró¬ dlo swiatla idswietlacz „C" wedlug CLE. Podano wlasciwosci optyczne, wyznaczone na podstawie pomiarów wykonanych powlok dla powlok znaj¬ dujacych isie na stronie szkla zwróconej dk sttoteio- wanego zródla swiatla.PTzyktaid I. Stosujac urzaldzenie iprzeldlstawio¬ ne na fig. 1 do 6 utrzymuje sie w przestrzeni podstropowej 14 atmosfere ochronina zawierajaca 94% objetosciowo azotu. i 6% objetosciowo wo¬ doru. Atmo!sfera ta znajduje sie nad kapiela sto¬ pionego cynku wzdluz której przemieszczona jest wstega szkla plynnego.Wstega 21 jest wyladowywania z urzadzenia poprzez walki 22 z szybkoscia 295 metrów na godzine i przechodzi nastepnie poprzez tunel od¬ prezajacy, lumieszczony poza walkami 22. Roz¬ dzielacz 26 gazowy umieszczony w poblizu wy¬ lotowego konca kajpieli, w miejscu gdzie tem¬ peratura powierzchniowa szkla wynosi okolo Q10°C. Jest on mocowany tak, aby dolna kra¬ wedz komory wylotowej 45 znajdowala jsiiei jak najbardziej górnej poweiirzchna 58 taslmy 21 bez stykania sie z nia.Gaz zawierajacy (silany, zlozony z 3,9% ob¬ jetosciowo nomosilanu SiH4 93,9% azotu, 2,2% wodoru podawany byl do rozdzielacza poprzez kanaly 57 z szybkoscia 90 litrów/na miniute/metr dlugosci rozdzielacza. Szybkosc dostarczania re¬ gulowana, az do wytworzenia zaisaldniiczo jed¬ norodnej powloki krzemiu na szkle, przy koncu wylotowym ifcunelu. Barwa arkuszy szkla powle¬ kanego krzemem, odcinanego z tasmy szklanej byla brazowa w .swietle przepuszlcizanym i srebr¬ na w swietle odbitym. Grubosc, wspólczynnik zalamania i wlasciwosci optyczne powleczonego szkla sa nastepujace: Dlugosc fali dla maksymalnego odbicia (Xmax) 5300 A Wspólczynnik zalamania * 3,73 Dlugosc ontyczna 1234 A Grubosc 355 A Przepuszczalnosc dla swiaitla bialego 23% Przepuszczalnosc ciepla swiaitla slonecznego ibezposrednio 34% Calkowita przepuszczalnosc ciepla 40% Odbijanie energii slonecznej 48% Przyklad II. Powtórzono procedure wedlug przykladu I lecz z urzadzeniem z modyfikowa¬ niem wedlug fiig. 7 tak, ze komora wylotowa 45 «5 10 16 20 25 45 50 60 ma specjalny ksztalt, stepujace: Sklad atmosfery ochronnej Szybkosc tasmy w kanale Temperatura szkla Sklad dostarczanej mieszanki gazowej ^Szybkosc dostarczanej mieszanki gazowej 18 Warunki procesu byly xia- 94% objetosciowo azotu 215 metrów/godzine 640°C 2,61% objetosciowo mo- nosdlaniu SiH4 4,7 objetosciowo wodoru 92,7% objetosciowo azo¬ tu 84 litry/miinute/metr dlugosci rozdzielacza Wytworzono jednorodna powloke krzemowa przy czym kolor pokrytego szkla byl' w swietle prze¬ puszczonym brazowym a w swietle odbitym srebr¬ ny.Grubosc, wskaznik zalamania i wlasciwosci op¬ tyczne sizjkla powleczonego byly nastepujace: Dlugosc fali (X mafe) " ' . 5850 A Wspólczynnik zalamania 3,55 Grubosc optyczna 1463 A Grubosc m 412 A Pirzepuszczalndsc dla swiatla bialego. 24% Przepuszczalnosc ciepla promieniowania slonecznego . bezposrednio 330/0 Calkowita przepuszczalnosc ciepla 39% Odbijanie energii slonecznej 47% P r z yk l a d III. Ponownie powtarzano proce¬ dure przykladu I lecz zastoisiowaino komore Wyj¬ sciowa zmodyfikowana wedlug fig. 8. Warunki procesu byly nastepujace: Sklad atmosfery ochronnej Szybkosc tasmy w kanalie Temperatura szkla Sklad dostarczanej mieszanki gazowej 94% azotu objetosciowo 0% objetosciowo wodo¬ ru 295 metrów/godzine . 650°C . 2,3 objetosciowo mono- silanu SiH4 5,2% objetosciowo wo¬ doru % 92,5'% objetosciowo azo¬ tu Szybkosc dostarczania mieszanki gazowej 87 li- trów/minute/metr dlugosci rozdzielacza.Ponownie wytwarzano jednorodna powloke. Bar¬ wa powleczonego szkla byla w swietle przepu¬ szczonym brazowa a w .swietle odbitym srebr¬ na. Grubosc, wspólczynnik zalamania powloki i optyczne wlasciwosci szkla »byly nastepujace: Dlugosc fadi dla maksymalnego odbijania (X malks) 5100 A Wspólczynnik zalamania 3,60 Grubosc optyczna 1274 A Grubosc 354 A Przepuszczalnosc dla swiatla 27%108 359 19 Przepuszczalnosc ciepla bezposredniegoo promieniowania slonecznego 36°/o Calkowita przepuszczalnosc ciepla 4^l°/o Odbijanie promieniowania slonecznego 47% Inne przyklady w pracy z rozdzielaczem, wedlug fig. 1 do 6 sa nastepujace: Przyklad IV. Tasma sizikla powlekanego o szerokosci 3 m.Warunki (procesu byly nastepujace: Sklad atmosfery 90% objetosciowo azoitu ochronnej lOtyo objetosciowo wo¬ doru Szybkosc tasmy 360 metrów/gadzine w kanale Temperatura szkla 660°C Sklad dostarczanej 2,2?/o objetosciowo mo- mieszaniki gazowej nosilanu SIH4 5,6*/o objetosciowo wo¬ doru 9.2,2f% objetosciowo azo¬ tu Szybkosc dostarczania tnieszaniki igazowej 66 li- tTów/min!ute/metr dlugosci nozdzielacza Przy jednorodnej powloce uzyskiwano batrwe bra¬ zowa w swietle przepuszczonym i srebrna w swietle odbijanym. ' Grubosc powloki i optyczne wlasciwosci szkla powleczonego byly nastepujace: Dlugosc fali maksymalnego odbijania (X maks) v 4400 A Wspólczynnik zalamania 2,9 Grubosc optyczna 1100 A Grubosc 380 A Przepuszczalnosc dla swiatla bialego ' 36% Przepuszczalnosc ciepla * promieniowania' slonecznego bezposredniego 47% Calkowita przepuszczalnosc ciepla 54% Odbijanie promieniowania slonecznego 35% Przyklad V. Powtarzano procedure wedlug przykladu I stosujac zmodyfikowane urzadzenie na fig. 9 d przepuszczajac igaz zawierajacy si¬ lany foprzez komore otwarta, równolegle do po- wierzidhni iszikla w warunkach zasadniczo larni- narnego przeplywu gazu. Calkowita szybkosc prze- plywiu gazu ustalono tak, aby uzysikac jedno- rodna powloke, przy czym stezenie silanów w gazie zmieniano w celu zmieniania grubosci po- wlolki i zachowywania jej jednorodnosci.Warunki procesu (byly nastepujace: Sklad atmosfery 90% objetosciowo azotu ochronnej 10% objetosciowo wo¬ doru Szybkosc tasmy 365 metrów/igodzine w kanale Temperatura szkla 620°C Szybkosc dostarczania 50 litrów/minute/metr mieszanki gazowej dlugosci rozdzielacza 20 (a) 5% objetosciowo* iwonasilanu SiH4, 95% ob¬ jetosciowo azotu (b) 10% objetosciowo monolsilanu SLH4, 90% ob¬ jetosciowo azotu (c) 7% objetosciowo monolsilanu SiH4, 3% ob¬ jetosciowo 'wodoru, 90% objetosciowo azotu Grubosc, wspólczynnik zalamania i wlasciwosci optyczne szkla byly nastepujace: 10 V((a) |V(b) lV (c) Dlugosc fali dla maksy¬ malnego odbijania X maks 4800 A 7100 A 0000 A Wspólczynnik zala- 15 mania 3,45 4,00 3,80 Grubosc optyczna 1190 A (1780 A /1500 A Grubosc 348 A j'444 A \ 395 A Przepuszczalnosc dla swiatla bialego 25% * 21% 18% 20 Przepuszczalnosc ciepl- na bezposredniego promieniowania slo- necznego 37*% ' 24% , l2S°/o Calkowita przepuszczal- 25 nosc ciepla 43% J 31% i34l% Odbicie promieniowa¬ nia slonecznego 43% 54% 52!% Barwa w swietle prze¬ puszczanym farazlowa zielona (brazowa 30 Barwa w swietle- od¬ bitym srebrna fclota /srebrna/ , ^zlota Wynalazek: stosowany jest 'do powlekania szkla plynacego w czasie jego priodulkcji, a ponadto przedmiot wynalazku moze byc stosowany do powlekania goracej tasmy szkla wytwarzanej innymi metodami, na przyklad konwencjonalna metoda walcowania lub ciagnienia, w której wy¬ tworzona tasma szklana jest przepuszczana przez tunel odlpnezajacy. Jeden z ksztaltów rozdzie-* lacz 86 gazowego, dla powlekania walcowanej tasmy szlkla w tunelu odprezajacym, przedsta¬ wiony jest (schematycznie na fig. 10..- Rozdzielacz 26 gazowy powinien -byc umiesz¬ czany w tunelu w miejscu gdzie temperatura szjkla osiaga wartosc od 400°C do 750°C. Tasma walcowanego szkla plaslkiego 110 przemieszcza¬ na jest na walcach tunelowych oznaczonych cy- M frami 111. Rozdzielacz gazowy posiada kolpak dzwonowy 112, który jest polaczony z kanalem wyciagowym 113. Rozdzielacz igazowy umieszczo¬ ny jest pod kolpakiem wyciagowym, a scianki boczne kolpajka wyciagowego 112 rozciagaja sie 55 do dolu, do bezposredniego sasiedztwa górnej powierzchni tasmy szlkla 110. Rozdzielacz gazowy zawiera fkolpaik ochronny 114, w którym znaj¬ duje sie kanal 35 zasilania (gazowego otoczony plaszczem 36 chlodzonym woda w sposób podobny 60 do wykonania wedlug fig. 3.Urzadzenie ograniczajace przeplyw gazu w po¬ staci plyty waflowej 56 wykonane z metalowych karbJkowanych arikuszy tego samego rodzaju jak na fig. 5. Plyta waflowa 56 podtrzymywana jest W przez plyty nosne. Wydluzona komora otwarta 35 40108 359 21 22 40 wyznaczona jest ponizej plyty waflowej przez boczne scianki weglowe, które maja ksztalt „L." w celu wyznaczenia otworu w .stropie komory ponizej waflowej plytki 56 ograniczajacej prze¬ plyw igazu. Sipóid scianek bocznych z ksztaltek we¬ glowych rozciaga sie w (poblizu górnej powierz¬ chni tasmy szkla. Uklad ten zapewnia uwalnia¬ nie gazu zawierajacego silany do komory 46 przy stalym cisnieniu wzdluz _komory, która rozciaga sie w poprzek szerokosci przemieszczania tasmy walcowanego szkla.W celu uzyskania nieutleniajacej atmosfery po¬ nizej kolpaka ochronnego 114, wprowadza sie at¬ mosfere ochronna, na przyiklaid atmosfere azo¬ towa lub atmosfere zawierajaca objetosciowo 95°/o azotu • i 5*/o objetosciowo wodionu, poprzez kana¬ ly 117, wyznaczono na wierzcholku kolpaka 114 w ikierunku wspólpradowym i przecriwpradoWym rozdzielacza gazowego. Urzadzenia ograniczajace przeiplyw gazu, w postaci plyt waflowych 116, podobnych do plyt waflowych 56 zapewnialja wy¬ lot z kazdego z kanalów 117, umozliwiajacy prze¬ plyw atmosfery ochronnej do dolu przy zasad¬ niczo stalym cisnieniu w poprzek calej szero¬ kosci (rozdzielacza, w kieriuniku górnej powierz¬ chni tasmy szkla. Dzieki temu w .obszarze po¬ miedzy /weglowymi elementami bocznymi 115 i kolpakiem ochronnym wystepuje staly przeplyw atmosfery ochronnej. Gazy ,sa odprowadzane po¬ nizej krawedzi dolnyclh kolpaka ochrionnego do góry poprzez kolpak wyciagowy 112 do kanalu wyciagowego 113. Zapewnila to uzyskanie atmo¬ sfery nieutleniajacej w obszarze tunelu, w któ¬ rym powloka krzemowa /wytwarzana jest na gór¬ nej powierzchni tasmy iszklanej. W obszarze tym wysitepuje takze ciagle wyciaganie (uisiuiwanie) ga¬ zów zuzytych z obszaru powloki, dzieki czemu unika sie mozliwolsci dyfuzji Ogazów zawierajacych silany wzdluz calej dlugosci tunelu odprezaja¬ cego.Mozliwe jest zastosowanie modyfikacji urza¬ dzenia wedlug fig. 10 w /warunkach, w których nie ma atmosfery ochronnej, na przyklad w tu¬ nelu odprezajacym, i bez dostarczania atmosfe¬ ry ochr-oninej bezposrednio do stanowiska powle¬ kania. W modyfikacji takiej kanaly 117 i plyty waflowe 118 sa pomijane a ispód kazdego z we¬ glowych elementów -115 jest rozszerzony w kie¬ riuniku przemieszczania sie szkla az do wymiaru który zasadniczo blokuje wdzieranie s!ie atmo¬ sfery zewnetrznej do komory 40. Przyklad dzia¬ lania zmodyfikowanego urzadzenia do szlkla zdo¬ bionego z walcowana powloka, przepuszczanego poprzez tunel odprezajacy jest nastepujacy: Przyklad VI.Powlekana szerokosc tasmy Szybkosc tasmy w tunelu Temperatura szlkla Sklad1 dostarczanej mieszamki gazowej 1 metr 350 metr/godzine 620°C 5,0°/o objetosciowo moooisilanu SiH4 5% objetosciowo wodoru 10 15 .20 nastepuja- 4000 A 3,2 1000 A 312 A 33«/o 45*/o 51% 36°/o 30 35 41 55 60 ^90,00/0 objetosciowo azotu Szybkosc dostarczania mieszanki (gazowej 60 litr/ /minute/godzine dlugosci rozdzielacza. • Wytworzono jednorodna powloke, która byla brazowa w swietle przepuszczonym i w swietle odbijanym. Wlasciwosci .optyczne sa ce: Dlugosc fali odbijania maksymal¬ nego (X maks) Wspólczynnik zalamania Gnufbósc optyczna Grubosc Przepuszczalnosc dla Iswiatla bialego Przepuszczalnosc ciepla promienio¬ wania slonecznego bezposredniego Calkowita przepuszczalnosc ciepla Odibijanie (promieniowania slonecz¬ nego Mozliiwe jest takze powlekanie szlkla plyna¬ cego w tunelu od|prezajacym, pcprzez który prze¬ mieszczana jest. tasma szkla plynacego po jego wyladowaniu z kapieli. Jest to mozliwe wówczas, gdy rozdzielacz gazowy znajduje sie w tunelu, w miejiscu gdzie temperatura szlkla wynosi po¬ wyzej 400°C. Wyprodukowane szklo powlecz/one krzemem, po pocieciu w konwencjonalny sposób na tafle, posiada przyjemy wyglad i uzyteczne wlasciwosci regulacyjne dla swiatla sloneczne¬ go, dzieki czemu jest przydatne do zespolów szkla¬ cych (okiennych), zwlaszcza zespolów do szklenia okien budynków.Na fig. 1(1 przedstawiony jest zespól okienny wedlug wynalazku, który zawiera tafle szklana 120 z. powloka krzemowa 121, której grubosc znacznie powiekszono w celu uzyskania jasnosci przedstawienia. Tafla jest zamocowana w ra¬ mie 122, umieszczonej w sciance 123 w koniwen^ cjonalny ,sposób.Szklo powlekane krzemem moze byc stosowane w wieloszybowych jednostkach okiennych, zwla¬ szcza w podwójnych jednostkach okiennych. Je¬ den taki zespól przedstawiono na fig. 112. Za¬ wiera on tafle niepoiwleczanego szlkla 126 oraz tafle szkla 120 'posiadajacego powloke krzemo¬ wa 120, która w przedstawionym wykonaniu znajduje sie wewnatrz zespolu w celu ochro¬ ny przed wplywami atmosferycznymi'. Tafle szkla sa odsuniete od siebie elementami przekladko¬ wymi 124 konwencjonalnego typu, przy czym po¬ wierzchnie szkla przyklejone sa do elementów ptrzekladkowycih 124 za pomoca odpowiednich kle¬ jów. Caly zespól jest wmontowany do raimy 125 przysitosowanej do montowania w konwencjonal¬ ny sposób do scianki.Umieszczenie powierzchni szklanych pokrytych krzemem do (wewnatrz zespolu okiennego z pod¬ wójna plyta chroni powloke krzemowa przed wplywami altmosferycznymi. Z punktu widzenia trwalosci powloki krzemowej nie jest ito jednak konieczne i powierzchnie -szklane powleczone krze¬ mem moga byc powierzchniami zewnietoznyini.Powleczona tafla szklana moze stanowic zewne¬ trzna szybe lub wewnetrzna szytbe podwójnego108 359 2* 24 zespolu okiennego, W wieloszybowych zespolach okiennych obejmujacych trzy lub wiecej szyb tas¬ ma powleczona moze byc szyba posrednia jako wewnetrzna lub tez iszybe wewnetrzna. W nie¬ których zastosowaniach, w których wymagane jest szklo o duzej wytrzymalosci, pozadane jest u- twardzanie szkla za pomoca procesów odpusz¬ czania, szklo powlekane krzemem wedlug wyna¬ lazku moze byc utwardzane termicznie za po¬ moca konwencjonalnych spo!sob<§w bez wyraznego uszkadzania powloki krzemowej. Szklo powleczo¬ ne moze byc 'takze laminowane.Przyjemny wyglad szkla powlekanego krzemem umozliwia itakze inne zastosowanie do, których nie sa wymagane jego wlasciwosci regulacyjne dla swiatla slonecznego, na przyklad przy za¬ stosowaniu tego szkla jako szyb wewnetrznych lub dekoracyjnych a nawet elementów konstruk¬ cyjnych wyposazenia. Szklo powleczone moze byc na przyklad stosowane jako wierzch sitolu. Szklo powleczone krzemem moze byc takze stolsowane do zwierciadel przez zapewnienie ciemnego tla, eliminujacego przepuszezanie swiatla slonecznego przez szkla, pirzy czym zwierciadlo takie zawiera szklo powleczone krzemem wedlug wynalazku, po¬ siadajace powloke 'ciemna na przyklad wyko¬ nane ciemna farba, albo na wierzcfhu powloki krzemowej lub na przeciwnej powierzchni szkla.W realizacji wynalazku mozna stosowac inne solany jak rozkladniki gazu zawierajacego sila¬ ny, na przyklad disilana SioHf? lub dichlorosiilan SiiHoClo (dwuchlorosilan). Sposób wedlug wyna¬ lazku byl wykorzystywany do wytwarzania po¬ wlok krzemowych na szkle plaskim posiadaja¬ cym igrubosc rzedu 200 A do 1000 A, lub wiek¬ szych. W rozwiazaniach zalecanych igrufoosc po¬ wlok wynosi Powloki ciensze w podanym zakresie maja bar¬ we srebrzysto blekitna w swietle odbijanym a brazowa w swietle przepuszczonym. Gdy grubosc powlok rosnie to wystepuje stopniowa zmiana jej wy^ladiu tak, ze rrzy grubosciach okolo 400 A s7,klo TOWiekane [posiada barwe zóltosrebrzysta w SWietle odbijanym a brazowa w swietle przepu¬ szczanym. Barwy w 'swietle przepuszczonym i odbitym .poclabiaja sie (przyciemniaja) az do mo¬ mentu olsiaicniecia grubosci powloki okolo 450 A, przy której zaczynaja sie zaznaczac silne barwy interferencyjne. Barwy interferencyjne nie sa za¬ zwyczaj pozadane na szkle* plynacym, jakkolwiek imoea one wprowadzac atrakcyjne efekty na szklo zdobione.Generailnie dla szkla z wlasciwosciami regu¬ lacji swiatla, zalecane isa powloki, na szkle nie- zdobionym, o grubosci w zakresie 300 A do 450 A, przy czym powloki o jednorodnym wygladzie sa w tym zakresie grubosci osiagane bardzo lat¬ wo.Grubosc powloki na szkle wyznaczana jest za pomoca proste!j techniki -optycznej, przez pomiar dlugosci fali (X maks) przy której odbicie swiatla od powloki jest maksymalne (R maks). Z teorii warstw cienkich wynika, ze R max 13 ([No*—Ng \2 ^o^+Ng / iNo^+Nig gdzie No = wspólczynnik zalamania powloki p Njg = wspólczynnik zalamania szkla.Jezeli wieic znany jest wspólczynnik zalamania szkla, to mozna wyznaczyc wspólczynnik zalama¬ nia powloki. Wspólczynnik zalamania jest zalezny od grubosci powloki, przy czym odpowiedni wzór 1# jest nastepujacy: —X maks No d = ^ —¦*- = grubosc optyczna gdzie d jest gruboscia powloki.Zastrzezenia patenitowe 1. Sposób powlekania szkla, zjwlalszicza krzemem atomowym przy temperaturze przynajmniej 400°C 20 przez itermiczny rozpad zawierajacego silany ga- zu przepuszczanego naid powierzchnia szkla pod w zasadzie stalym cisnieniem w warunkach u- nieimozliwiajacych utlenianie:, znamienny tym, ze pokrywane iszklo w ruchu ciaglym przesuwa sie 25 przez usytuowane poprzecznie do" szkla urzadze¬ nie pokrywajace, do, którego wprowadza sie gaz zawierajacy silany w bezposrednim sasiedztwie pokrywanej równomiernie goracej powierzchni przesuwanego szkla, przy czym w strefie gora- so cej urzadzenia ipokrywajacego utrzymuje sie wa¬ runki nieiutleniajace. 2. sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze reguluje sie isklad gazu oraz utrz,ymiuje sie szyb¬ kosci pirolizy silanów na powierzchni goracego 95 -szkla w wartosci wystarczajacej do wytwarza¬ nia polwloki krzemowej o z góry zadanej gru¬ bosci na tej powierzchni. 3. Sposób wedlug zastrz,. 2, znamienny tym, ze szybkosc przeplywu gazu reguluje sie dla uzyska- 40 nia jednorodnej powloki -oraz reguluje sie ste¬ zenie silanów w gazie dla zapewnienia zadanej grubosci powloki. 4. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze utrzymuje isie temperature szkla na stanowisku 45 powlekania w zakresie 500°C do 7O0°C. 5. sposób wedlug zastrz,. 1, znamienny tym, ze szklo jest przemieszczane poprzez stanowisko po¬ wlekania w postaci ciaglej tasmy a sklad • gazu jest regulowany stosownie do predkosci przemie¬ sil szczania sie tasmy. 6. Sposób wedlug zastrz. 5, znamienny tym, ze tasma szkla jest przemieszczana wzdluz kapieli cieklego metalu nad która utrzymywania jesit at¬ mosfera ochronna, przy czym gaz zawierajacy 65 silany jest wydalamy do wymienionej strefy go¬ racej, która znajduje sie w miejlscu gdzie tem¬ peratura szkla znajduje sie'w zakresie 600°C do 670°C. 7. Sposób wedlug zastrz. 5, znamienny tym, ze ca tasma szkla jest przemieszczana prizez tunel od- - prezajacy, a gaz zawierajacy silany jesit uwal¬ niany do wymienionej strefy goracej, która znaj¬ duje isie w Zakresie 400°C do 700°C. 8. Sposób wedlug zalstrz. 1, znamienny tym, ze 65 stosuje sie- Saz zawierajacy od 0,l*/o do 20°/o25 108 359 26 objetosciowo silanów, do 10% objetosciowo wo¬ doru i od 70% do 99,9% objetosciowo gazu obo¬ jetnego. 9. Sposób wedlug zastrz. 5, znamienny tym, ze tworzy sie ^powloke o grubosci w zakresie 250 A do 800 A, a od sitirony powleczonej przepusizczal- noisc dla swiatla bialego zapewnia sie w zakre¬ sie 17% do 34%, zas przepuszczalnosc ciepla z bezposredniego promieniowania slonecznego utrzy¬ muje sie iw zakresie 27% do 45%, natomiast od¬ bijanie energii 'slonecznej utrzymuje sie w zakre¬ sie 34% do 5(2%. 10. Sposób wedlug zastrz. 8, znamienny tym, ze silanem jest monoisiilan SiH4. 1.1. Spoisób wedlug zastrz. 5, znamienny tym, ze tworzy sie powloke o grubosci w zakresie 300 A . do 450 A, a od strony powleczonej przepuszczal¬ nosc dla swiaitla bialego zapewnia sie w zakre¬ sie 17% do 34%, zas przepuszczalnosc ciepla z bezposredniego' promieniowania slonecznego utrzy- nnuje sie w zakresie 27% do 45%, natomiast od¬ bijanie energii slonecznej lustrzymuje sie w za¬ kresie 34% do 521%. 12. Sposób wedlug zastrz. 11, znamienny tym, ze tworzy sie zasadniczo jednorodna powloke krze¬ mowa o grubosci optycznej w zakresie 950 A do 1600 A i wspólczynniku zalamania w zakre¬ sie 3,0 do 4,0. 13. Urzadzenie do powlekania szkla, zawiera¬ jace komore dla plyt szklanych w postaci tafli do której wprowadza sie gaz, znamienne tym, ze ma (Todzielacz <26) gazu umieszczony poprzecz¬ nie do toru przemieszczania powlekanej powierz¬ chni tafli szklanej w zasilajacym kanale (35) do dostarczania materialu powlokowego' w postaci gazowej, ponad którym usytuowany jest kanal <31) chlodzacy do regulacji temperatury kanalu (35) zasilajacego a pod nim posiada wydluzona otwarta koniore wylotowa (40) .umieszczona w poblizu tonu przemieszczania tasmy dla tafli szkla¬ nej i laczacej sie wzdluz swojej dlugosci z ka¬ nalem (35) zasilania w gaz poprzez elementy (55, 56 i 58) ograniczania przeplywu gazu oraz przy¬ stosowane do uwalniania gazu z kanalu (35) za¬ silajacego' do komory wyloitowej (40) o Sitalym cisnieniu wzdluz jej dlugosci. 14. Urzadzenie wedlug zastrz. 13, znamienne tym, ze kanal (31) chlodzacy stanowi regulacje tempe¬ ratury kanalu (35) zasilajacego i jesft przystoso¬ wany do jego chlodzenia. 15. Urzadzenie wedlug zaistrz,. ;13, znamienne tym, ze elementy (55, 56 i 58) stanowia plytki nosne (55), w której maja usytuowana plytke waflowa (56) z szeregu karbikowanych odcin¬ ków (58) tworzacych uklad kanalów o malej po¬ wierzchni przekroju poprzecznego prowadzacych z kanalu (35) zasilajacego do komory (40), przy czym wymiary kanalów maja dobrany maly spa¬ dek cisnienia wzdluz kanalu (35) zasilajacego w porównaniu do spadku cisnienia wzdluz ukladu kanalów.. 16. Urzadzenie wedlug zastrz. 15, znamienne tym, ze posiada termiczna izolacje (42) pomiedzy 80 kanalem (35) zasilajacym i komora (40). 17. Urzadzenie wedlug zastrz. 16, znamienne tym, ze scianki boczne komory .(40) ma,ja uksztal¬ towanie tworzace kanal w komorze rozszerzaja¬ cy sie od elementów (55, 56 i 58) ograniczania 35 przeplywu do- otwartego frontu komory. 10 15 20 25 10 ? y^-jr /7g,/, %HIS 359 *xu SSA 3*1 Y-36 f\tf Xs& fic.2. /vb.J.108 359 FJc.7.U _ -55 Fig.8. fjc.to: U 0*0108 359 /33 135^' n DN-3, z. 489/80 Cena 45 zl PL