PL104580B1 - Sposob usuwania pokryc ze zlota i jego stopow - Google Patents
Sposob usuwania pokryc ze zlota i jego stopow Download PDFInfo
- Publication number
- PL104580B1 PL104580B1 PL18291175A PL18291175A PL104580B1 PL 104580 B1 PL104580 B1 PL 104580B1 PL 18291175 A PL18291175 A PL 18291175A PL 18291175 A PL18291175 A PL 18291175A PL 104580 B1 PL104580 B1 PL 104580B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- gold
- alloys
- amount
- compounds
- solution
- Prior art date
Links
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 23
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 title claims description 23
- 239000010931 gold Substances 0.000 title claims description 23
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 title claims description 18
- 239000000956 alloy Substances 0.000 title claims description 18
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 16
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 10
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 9
- -1 aromatic nitro compounds Chemical class 0.000 claims description 8
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims description 7
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 claims description 6
- DBMJMQXJHONAFJ-UHFFFAOYSA-M Sodium laurylsulphate Chemical compound [Na+].CCCCCCCCCCCCOS([O-])(=O)=O DBMJMQXJHONAFJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 5
- 235000019333 sodium laurylsulphate Nutrition 0.000 claims description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 4
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 3
- 235000011118 potassium hydroxide Nutrition 0.000 claims description 3
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 claims description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 2
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 claims description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 claims description 2
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical class [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 claims 1
- 150000001447 alkali salts Chemical class 0.000 claims 1
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 claims 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims 1
- 230000029087 digestion Effects 0.000 claims 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 claims 1
- 235000015424 sodium Nutrition 0.000 claims 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 17
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 8
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 6
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Substances OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000002828 nitro derivatives Chemical class 0.000 description 5
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 5
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical class [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- 229910001017 Alperm Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- ZOMNIUBKTOKEHS-UHFFFAOYSA-L dimercury dichloride Chemical compound Cl[Hg][Hg]Cl ZOMNIUBKTOKEHS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 3
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 3
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 3
- AEQDJSLRWYMAQI-UHFFFAOYSA-N 2,3,9,10-tetramethoxy-6,8,13,13a-tetrahydro-5H-isoquinolino[2,1-b]isoquinoline Chemical compound C1CN2CC(C(=C(OC)C=C3)OC)=C3CC2C2=C1C=C(OC)C(OC)=C2 AEQDJSLRWYMAQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N lactic acid Chemical compound CC(O)C(O)=O JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000176 sodium gluconate Substances 0.000 description 2
- 235000012207 sodium gluconate Nutrition 0.000 description 2
- 229940005574 sodium gluconate Drugs 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 235000011149 sulphuric acid Nutrition 0.000 description 2
- BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N (S)-malic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N 0.000 description 1
- CMWKITSNTDAEDT-UHFFFAOYSA-N 2-nitrobenzaldehyde Chemical class [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1C=O CMWKITSNTDAEDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLAMLWHELXOEJZ-UHFFFAOYSA-N 2-nitrobenzoic acid Chemical class OC(=O)C1=CC=CC=C1[N+]([O-])=O SLAMLWHELXOEJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXRKCOCTEMYUEG-UHFFFAOYSA-N 5-aminoisoindole-1,3-dione Chemical compound NC1=CC=C2C(=O)NC(=O)C2=C1 PXRKCOCTEMYUEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HWTDMFJYBAURQR-UHFFFAOYSA-N 80-82-0 Chemical class OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1[N+]([O-])=O HWTDMFJYBAURQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001316 Ag alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 229910001020 Au alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017392 Au—Co Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017398 Au—Ni Inorganic materials 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N Cyanide Chemical compound N#[C-] XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N Dextrotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N 0.000 description 1
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WQZGKKKJIJFFOK-GASJEMHNSA-N Glucose Natural products OC[C@H]1OC(O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H]1O WQZGKKKJIJFFOK-GASJEMHNSA-N 0.000 description 1
- AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N Glycolic acid Natural products OCC(O)=O AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric acid Natural products [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000122 acrylonitrile butadiene styrene Polymers 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- QZPSXPBJTPJTSZ-UHFFFAOYSA-N aqua regia Chemical compound Cl.O[N+]([O-])=O QZPSXPBJTPJTSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WQZGKKKJIJFFOK-VFUOTHLCSA-N beta-D-glucose Chemical compound OC[C@H]1O[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H]1O WQZGKKKJIJFFOK-VFUOTHLCSA-N 0.000 description 1
- 229940075397 calomel Drugs 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 1
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 1
- 230000000994 depressogenic effect Effects 0.000 description 1
- 238000010511 deprotection reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003925 fat Substances 0.000 description 1
- 239000008103 glucose Substances 0.000 description 1
- 239000003353 gold alloy Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 230000009916 joint effect Effects 0.000 description 1
- 239000004310 lactic acid Substances 0.000 description 1
- 235000014655 lactic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- RBXVOQPAMPBADW-UHFFFAOYSA-N nitrous acid;phenol Chemical class ON=O.OC1=CC=CC=C1 RBXVOQPAMPBADW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- PJAHUDTUZRZBKM-UHFFFAOYSA-K potassium citrate monohydrate Chemical compound O.[K+].[K+].[K+].[O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O PJAHUDTUZRZBKM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229910001950 potassium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- MNWBNISUBARLIT-UHFFFAOYSA-N sodium cyanide Chemical compound [Na+].N#[C-] MNWBNISUBARLIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001948 sodium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- JIYDHXVCIKBHOW-UHFFFAOYSA-M sodium;2,3-dihydroxybutanedioic acid;dodecyl sulfate Chemical compound [Na+].OC(=O)C(O)C(O)C(O)=O.CCCCCCCCCCCCOS([O-])(=O)=O JIYDHXVCIKBHOW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 description 1
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 description 1
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 1
Landscapes
- ing And Chemical Polishing (AREA)
Description
Przedmiotem wynalazku jest sposób usuwania pokryc ze zlota i jego stopów znajdujacych sie na przedmio¬
tach wykonanych z róznych materialów, takich jak ceramika, tworzywa sztuczne, a zwlaszcza z metali. Pokrycia
ze zlota i jego stopów posiadaja znane wlasciwosci zdobnicze, a ze wzgledu na wysoka odpornosc na korozje
oraz bardzo dobre przewodnictwo elektryczne sa stosowane coraz szerzej w elektronice, automatyce itp.
W produkcji przyrzadów pólprzewodnikowych, zwlaszcza krzemowych, pokrycia ze zlota i jego stopów
umozliwiaja montaz tych przyrzadów. Usuwanie pokryc wykonanych ze zlota i jego stopów jest konieczne, jezeli
ich jakosc jest zla lub przedmiot zostal pokryty w sposób nieprawidlowy, albo wynika to z innych warunków
stosowania tego rodzaju pokryc.
Znane powszechnie sposoby rozpuszczania zlota i jego stopów woda królewska oraz roztworami cyjanków
z dodatkiem nadtlenku wodoru nie sa dostatecznie selektywne i prowadza do czesciowego zniszczenia materialu
podloza, szczególnie metali.
Selektywne dzialanie wykazuje inny znany sposób usuwania warstw zlota wedlug opisu patentowego
Stanów Zjednoczonych Ameryki nr 3242090, w którym stosuje sie roztwór wodny mieszaniny cyjanków
w postaci swobodnej lub skompleksowanej (np. NaCN, Na2 [Zn(CN)4], oraz utleniaczy, przewaznie zwiazków
organicznych typu nitrozwiazków aromatycznych. Wada tych roztworów do usuwania zlota wg znanego sposobu
jest mala szybkosc rozpuszczania zlota jezeli jego powierzchnia jest zanieczyszczona, co jest powszechnie spoty¬
kane, (np. zatluszczona lub pokryta pasywna warstewka zwiazków nieorganicznych) oraz, ze sa one przeznaczo¬
ne do rozpuszczania tylko czystego zlota.
Celem wynalazku jest znalezienie takiego sposobu usuwania pokryc wykonanych ze zlota i jego stopów,
który moze byc stosowany nie tylko do zlota, ale i jego stopów np. z Ag, Sb, Ni, Co itp. oraz gwarantujacy ich
szybkie usuniecie równiez jezeli ich powierzchnia jest zanieczyszczona substancjami organicznymi (np. tluszcze)
lub nieorganicznymi. Cel ten osiagnieto przez zastosowanie w skladzie kapieli roztwarzajacej pokrycia ze zlota
i jego stopów, substancji katalizujacych reakcje rozpuszczania oraz substancji powierzchniowo-czynnych ulatwia¬
jacych zwilzanie powierzchni metalu przez ciecz, których wspólne dzialanie polega na usuwaniu i wiazaniu
zanieczyszczen znajdujacych sie na powierzchni pokrycia oraz w pokryciu.2 104580
Wedlug wynalazku przedmiot pokryty warstwa zlota lub jego stopów zanurza sie do roztworu sporzadzo¬
nego przez rozpuszczenie w wodzie zwiazków utleniajacych zloto typu nitrozwiazków aromatycznych takich jak
nitrobenzenosulfoniany, nitrobenzenoesany, nitrofenole, nitrobenzaldehydy, w ilosci 1—50 g/l, zwiazków cy¬
jankowych rozpuszczajacych zloto, w ilosci 5-100 g/l, odpowiednich wodorotlenków sodowego lub potasowego
lub amonowego w ilosci 1—20 g/l oraz substancji przyspieszajacych rozpuszczanie, zwlaszcza soli alkalicznych
hydroksykwasów alifatycznych (np. kwasu cytrynowego lub winowego lub glukorowcgo lub jablkowego, lub
glikolowego lub mlekowego) w ilosci 5—50 g/l i substancji powierzchniowo-czynnych takich jak laurylosiarczan
sodowy lub pochodne polietoxyfenolu, (np. alfenol lub rokafenol) w ilosci 0,05—0,50 g/l. Temperatura roztworu
w czasie odzlacania wynosi 50— 100°C.
Dla przedmiotów metalowych, pokrytych zlotem lub jego stopami istnieje mozliwosc precyzyjnej kontroli
procesu odzlacania metoda pomiaru sily elektromotorycznej ogniwa zlozonego z odzlacanego przedmiotu i na¬
syconej elektrody" kalomelowej, przy czym koniec odzlacania ustala sie, gdy sila elektromotoryczna ogniwa
osiaga stala wartosc.
Zaleta sposobu wedlug wynalazku jest duza szybkosc usuwania pokryc, która — bez wzgledu na stopien
zanieczyszczenia powierzchni pokrycia i jego sklad, w przypadku stopu wynosi powyzej 0,4/im/minute, jak
równiez mozliwosc dokonywania ponownych operacji zlocenia lub nanoszenia innych pokryc metalicznych na
odzlocone podloze.
Ponizsze przyklady blizej wyjasniaja sposób wedlug wynalazku, nie ograniczajac jego zakresu.
Przyklad I. W pojemniku szklanym lub z polichlorku winylu umieszcza sie 42,5 g zwiazku zawieraja¬
cego 41,83% wagowych CN", 40 g nitrozwiazku organicznego zawierajacego 8,38% wagowych N, 20 g cytrynianu
trójpotasowego, 0,2 g alfenolu oraz dodaje sie 7,5 g wodorotlenku potasowego i uzupelnia sie woda destylowana
tak, aby objetosc roztworu wynosila 11, po czym mieszajac ogrzewa sie zawartosc pojemnika do temperatury
80°C. Nastepnie do tak przygotowanego roztworu zanurza sie plytke kowarowa pokryta warstwa zlota o gru¬
bosci 2 jLtm oraz nasycona elektrode i podlacza obie elektrody do miernika napiecia typu kompensacyjnego.
Koniec procesu odzlacania stwierdza sie na drodze obserwacji optycznej lub przez ustalenie sie wartosci SEM
ogniwa pomiarowego. Po odzloceniu plytke zanurza sie na 1 minute do roztworu 10% H2S04 o temperaturze
60°C, a nastepnie plucze woda destylowana, po czym moze byc prowadzone ponowne zlocenie lub pokrycie
innymi metalami.
Przyklad II. W pojemniku szklanym lub ze stali kwasoodpornej umieszcza sie 75 g zwiazku zawieraja¬
cego 53,06% wagowych CN", 10 g nitrozwiazku organicznego zawierajacego 10,07% wagowych N, 5 g winianu
dwuamonowego, 0,3 g laurylosiarczanu sodowego oraz dodaje sie 10 g wodorotlenku sodowego i uzupelnia woda
destylowana tak, aby objetosc roztworu wynosila 11, po czym mieszajac ogrzewa sie zawartosc pojemnika do
temperatury 90°C. Nastepnie do tak przygotowanego roztworu zanurza sie plytke szklana pokryta warstwa
zlota o grubosci 0,5 /xm. Koniec procesu odzlacania stwierdza sie na drodze obserwacji optycznej.
Przyklad III. W pojemniku szklanym lub z polichlorku winylu umieszcza sie 50 g zwiazku zawieraja¬
cego 53,06% wagowych CN", 15 g nitrozwiazku organicznego zawierajacego 13,2% wagowych N, 15 g wodoro¬
tlenku sodowego, 35 g glukonianu sodowego oraz 0,3 g alfenolu i dodaje sie wody destylowanej tak, aby obje¬
tosc roztworu wynosila 11, po czym mieszajac ogrzewa sie zawartosc pojemnika do temperatury 60°C. Nastep¬
nie do tak przygotowanego roztworu zanurza sie plytke z tworzywa ABS, pokryta warstwa stopu Au—Ag
t> zawartosci 5,5% wagowych Ag i grubosci 1,5 jum. Po zakonczeniu procesu odzlacania stwierdzonego na drodze
obserwacji optycznej plytke plucze sie woda destylowana, a nastepnie suszy, po czym moze byc prowadzone
ponowne zlocenie lub pokrycie innymi metalami.
Przyklad IV. W pojemniku szklanym lub ze stali kwasoodpornej umieszcza sie 30 g zwiazku zawiera¬
jacego 41,73% wagowych CN"., 30 g nitrozwiazku organicznego zawierajacego 6,9% wagowych N, 20 g wodoro¬
tlenku potasowego, 10 g kwasu cytrynowego oraz 0,2 g laurylosiarczanu sodowego i dodaje wody destylowanej
tak, aby objetosc roztworu wynosila 11, po czym mieszajac, ogrzewa sie zawartosc pojemnika do temperatury
70 C. Nastepnie do tak przygotowanego roztworu zanurza sie siatke miedziana pokryta stopem Au—Ni o zawar¬
tosci 0,5% wagowych niklu i grubosci 5 /im oraz nasycona elektrode kalomelowa i podlacza obie elektrody do
miernika napiecia typu kompensacyjnego. Koniec odzlacania stwierdza sie na drodze obserwacji optycznej lub
przez ustalenie sie wartosci SEM ogniwa pomiarowego. Siatke po odzloceniu zanurza sie na 2,5 minuty do
roztworu 17% HC1 o temperaturze 45°C, a nastepnie plucze woda destylowana, po czym moze byc prowadzone
ponowne zlocenie lub pokrycie innymi metalami lub stopami.
Przyklad V. W pojemniku szklanym lub metalowym z wykladzina polichlorku winylu umieszcza sie
47,5 g zwiazku zawierajacego 48,96% wagowych CN", 50 g nitrozwiazku zawierajacego 6,22% wagowych N, 5 g
wodorotlenku sodowego, 15 g glukonianu sodowego, 0,25 g alfenolu oraz 0,05 g laurylosiarczanu sodowego104580 3
i dodaje wody destylowanej tak, aby objetosc roztworu wynosila 1 1, po czym mieszajac, ogrzewa sie zawartosc
pojemnika do temperatury 70°C. Nastepnie do tak przygotowanego roztworu zanurza sie pret niklowy pokryty
stopem Au-Co o zawartosci 0,1% wagowych kobaltu i grubosci 3 jum oraz nasycona elektrode kalomelowa
i podlacza obie elektrody do miernika napiecia typu kompensacyjnego. Koniec odzlacania stwierdza sie na
drodze obserwacji optycznej lub przez ustalenie sie wartosci SEM ogniwa pomiarowego. Pret po odzloceniu
zanurza sie na 1,5 minuty do roztworu 15% H2S04 o temperaturze 50°C, a nastepnie plucze woda destylowana,
po czym moze byc prowadzone ponowne zlocenie lub pokrycie innymi metalami lub stopami.
Claims (3)
1. Sposób usuwania pokryc ze zlota i jego stopów, znajdujacych sie na przedmiotach wykonanych z róznych materialów, a zwlaszcza z metali, polegajacy na tym, ze przedmioty te zanurza sie w kapieli roztwarza¬ jacej zloto i jego stopy, bedacej roztworem wodnym o temperaturze 50-100°C zawierajacym zwiazki cyjankowe rozpuszczajace zloto, w ilosci 5—100 g/l, zwiazki utleniajace zloto typu nitrozwiazków aromatycznych w ilosci 1—50 g/l oraz odpowiednie wodorotlenki sodowy lub potasowy, lub amonowy w ilosci 1—20 g/l, z n a m i e n - n y t y m , ze stosuje sie kapiel roztwarzajaca zawierajaca substancje katalizujace reakcje rozpuszczania zlota i jego stopów w ilosci 5—50 g/l oraz substancje powierzchniowo-czynne w ilosci 0,05—0,5 g/l.
2. Sposób wedlug zastrz. 1, z n atn ienny tym, ze jako substancje katalizujace reakcje rozpuszczania zlota i jego stopów stosuje sie hydroksykwasy alifatyczne takie, jak cytrynowy, winowy, glukonowy, jablkowy, glikolowy, mlekowy lub sole alkaliczne tych kwasów.
3. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze jako zwiazki powierzchniowo-czynne stosuje sie pochodne polietoksyfenolu, laurylosiarczan sodowy i ich mieszaniny.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL18291175A PL104580B1 (pl) | 1975-08-25 | 1975-08-25 | Sposob usuwania pokryc ze zlota i jego stopow |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL18291175A PL104580B1 (pl) | 1975-08-25 | 1975-08-25 | Sposob usuwania pokryc ze zlota i jego stopow |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL104580B1 true PL104580B1 (pl) | 1979-08-31 |
Family
ID=19973360
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL18291175A PL104580B1 (pl) | 1975-08-25 | 1975-08-25 | Sposob usuwania pokryc ze zlota i jego stopow |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| PL (1) | PL104580B1 (pl) |
-
1975
- 1975-08-25 PL PL18291175A patent/PL104580B1/pl unknown
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US3682786A (en) | Method of treating plastic substrates and process for plating thereon | |
| JP3054746B2 (ja) | 非導電性材料への電気めっき方法 | |
| DE69009973T2 (de) | Verfahren zur Behandlung einer Polyimidoberfläche im Hinblick auf eine anschliessend darauf aufzubringende Plattierung. | |
| CN107922992B (zh) | 使用包括含有硝酸根离子的流体的酸性流体的贵金属的选择性移出 | |
| JP2017506702A (ja) | スクラップからの金および/または銀の回収 | |
| CA1137396A (en) | Composition and process for chemically stripping metallic deposits | |
| US4929422A (en) | Process for the adhesive metallization of synthetic materials | |
| US3616280A (en) | Nonaqueous electroplating solutions and processing | |
| TWI591206B (zh) | 銀於石墨上之無電電鍍 | |
| US4483887A (en) | Metal plating iron-containing substrates | |
| US3935005A (en) | Composition and method for stripping gold and silver | |
| US3698939A (en) | Method and composition of platinum plating | |
| PL104580B1 (pl) | Sposob usuwania pokryc ze zlota i jego stopow | |
| CA1211691A (en) | Thallium-containing composition for stripping palladium | |
| Warwick et al. | The autocatalytic deposition of tin | |
| JP2018523756A (ja) | 無電解銀めっき浴及びその使用方法 | |
| JPH0250991B2 (pl) | ||
| KR100321205B1 (ko) | 구리또는구리합금의변색방지액및변색방지방법 | |
| JPS5983775A (ja) | 金属表面の化成処理方法 | |
| JPS6353266B2 (pl) | ||
| JPS6190497A (ja) | プラスチツク層を確実に腐食しならびに亀裂のないように粗面化する方法 | |
| US3164464A (en) | Method of introducing magnesium into galvanizing baths | |
| JP3260432B2 (ja) | 酸化触媒とその製造方法 | |
| US2836526A (en) | Aluminum surfacing | |
| SU1763434A1 (ru) | Способ обработки поверхности диэлектриков перед химическим меднением |