NO860990L - Krompletteringsbad og fremgangsmaate til fremstilling av ikke-iriserende blank kromplettering. - Google Patents
Krompletteringsbad og fremgangsmaate til fremstilling av ikke-iriserende blank kromplettering.Info
- Publication number
- NO860990L NO860990L NO860990A NO860990A NO860990L NO 860990 L NO860990 L NO 860990L NO 860990 A NO860990 A NO 860990A NO 860990 A NO860990 A NO 860990A NO 860990 L NO860990 L NO 860990L
- Authority
- NO
- Norway
- Prior art keywords
- acid
- plating
- bath
- functional
- plating process
- Prior art date
Links
- 238000007747 plating Methods 0.000 title claims abstract description 55
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 17
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 36
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims abstract description 12
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 11
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims abstract description 11
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims abstract description 10
- 239000011696 chromium(III) sulphate Substances 0.000 claims abstract description 7
- 230000001464 adherent effect Effects 0.000 claims abstract description 5
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims abstract description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims abstract description 4
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 claims abstract description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 8
- -1 alkyl sulfonic acid Chemical compound 0.000 claims description 5
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-N sulfonic acid Chemical compound OS(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000010953 base metal Substances 0.000 claims description 4
- GRWVQDDAKZFPFI-UHFFFAOYSA-H chromium(III) sulfate Chemical compound [Cr+3].[Cr+3].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O GRWVQDDAKZFPFI-UHFFFAOYSA-H 0.000 claims description 4
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 claims description 4
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 claims description 3
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 claims description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 2
- BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N Borate Chemical compound [O-]B([O-])[O-] BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N Phosphorous acid Chemical compound OP(O)=O ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 150000003009 phosphonic acids Chemical class 0.000 abstract description 3
- KCXFHTAICRTXLI-UHFFFAOYSA-N propane-1-sulfonic acid Chemical compound CCCS(O)(=O)=O KCXFHTAICRTXLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 abstract description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 abstract description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 abstract description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 abstract 1
- AFAXGSQYZLGZPG-UHFFFAOYSA-N ethanedisulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)CCS(O)(=O)=O AFAXGSQYZLGZPG-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 150000003460 sulfonic acids Chemical class 0.000 abstract 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 4
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 4
- JOPOVCBBYLSVDA-UHFFFAOYSA-N chromium(6+) Chemical compound [Cr+6] JOPOVCBBYLSVDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001642 boronic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 2-(chloromethyl)pyridine-3-carbonitrile Chemical compound ClCC1=NC=CC=C1C#N FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XCJGLBWDZKLQCY-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropane-2-sulfonic acid Chemical compound CC(C)(C)S(O)(=O)=O XCJGLBWDZKLQCY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N Hydrogen bromide Chemical compound Br CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- CCIVGXIOQKPBKL-UHFFFAOYSA-N ethanesulfonic acid Chemical compound CCS(O)(=O)=O CCIVGXIOQKPBKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical compound I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 230000002226 simultaneous effect Effects 0.000 description 1
- 239000000779 smoke Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 229940014800 succinic anhydride Drugs 0.000 description 1
- 229910021653 sulphate ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003573 thiols Chemical class 0.000 description 1
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N triflic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/04—Electroplating: Baths therefor from solutions of chromium
- C25D3/10—Electroplating: Baths therefor from solutions of chromium characterised by the organic bath constituents used
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
- Saccharide Compounds (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Transition And Organic Metals Composition Catalysts For Addition Polymerization (AREA)
- Treatment Of Liquids With Adsorbents In General (AREA)
Description
Oppfinnelsen angår elektroplettering av krom for funksjonelle formål på underlagsmetaller fra pletteringsbad av seksverdig krom. Nærmere bestemt angår oppfinnelsen krombad som kan gi fordelaktige krpmpletteringer ved høye virkningsgrader og høye temperaturer uten etsing ved lav strømtetthet.
Typiske pletteringsbad med seksverdig krom er beskrevet
i US-PS 2 750 337, 3 310 480, 3 311 548, 3 {S|5 097, 3 654 101, 4 234 396 , 4 406 756, 4 450 050 og 4 472 249. Disse bad er generelt beregnet på enten "dekorativ" kromplettering eller for "funksjonell" (hard) kromplettering. Dekorative krom-pletter ingsbad angår plettering over et vidt pletterings-område, slik at gjenstander med uregelmessig form kan dekkes fullstendig. Funksjonelle krompletteringsbad på den annen side angår regelmessig formede gjenstander hvor hurtig plettering ved høy strømvirkningsgrad og nyttige strømtettheter er viktig.
Funksjonelle pletteringsbad med seksverdig krom inneholdende kromsyre og -sulfat som en katalysator tillater generelt plettering av krommetall på underlagsmetallet ved katodevirkningsgrader på mellom 12 og 16% ved temperaturer mellom 52 og 68°C og strømtettheter fra ca. 30 til ca. 50 A/dm 2. Kromsyrepletteringsbad med blandet katalysator inneholdende både sulfat- og fluoridioner tillater generelt plettering av krom ved høyere hastigheter og ved katodevirkningsgrader på mellom 22 og 26%. Nærværet av fluoridion i badet bevirker imidlertid etsing av jernbaserte metaller når katodestrømtettheten er for lav til å plettere krommetall, vanligvis lavere enn 5 A/dm 2 i fluoridholdige bad. Dette fenomen er betegnet som "etsing ved lav strømtetthet". Tilsetningsmidler for krompletteringsbad for å hindre etsing ved lav strømtetthet er beskrevet i US-PS 2 750 337, 3 310 480, 3 311 548 og 3 654 101. Uheldigvis begrenser disse tilsetningsmidler i høy grad strømvirkningsgraden i prosessen.
Noen krompletteringsbad er konstruert for å meddele pletteringen en dekorativ irisering. Slike bad innbefatter seksverdig krommetallion, en første tilsetningsblanding såsom en haloalkylsulfonsyre eller haloalkylfosfonsyre, og en andre tilsetningsblanding som er en karboksylsyre. Den samtidige virkning av disse to tilsetningsstoffer i badet gir den ønskede iriserende virkning. Dette ledsages imidlertid av en betydelig reduksjon i prosessens strømvirkningsgrad for disse bad.
Andre krompletteringsbad som anvender jodid-, bromid-eller kloridioner som tilsetningsstoffer, kan drives ved høy strømvirkningsgrad, se US-PS 4 234 396, 4 450 050 og 4 472 249, men slike bad gir krompletteringer som ikke fester seg godt til underlaget og som er glansløse av utseende ved høye pletteringstemperaturer eller bare halvblanke når 'de dannes ved lave pletteringstemperaturer.
Følgelig er det en hensikt med den foreliggende opp-finnelse å skaffe et krompletteringsbad for fremstilling av ikke-iriserende, vedheftende, blanke krompletteringer ved høye katodevirkningsgrader og høye pletteringstemperaturer som er stort sett frie for etsing ved lav strømtetthet.
En annen hensikt med oppfinnelsen er å skaffe en frem-gangsmåte til fremstilling av slike fordelaktige krompletteringer under nyttige pletteringsbetingelser.
Disse og andre hensikter vil fremgå fra den følgende detaljerte beskrivelse av oppfinnelsen.
I henhold til de ovenfor angitte hensikter med oppfinnelsen er der skaffet et krompletteringsbad og en fremgangs-måte fra hvilke en ikke-iriserende, vedheftende, blank kromplettering fås ved en katodevirkningsgrad på minst 22% og en strømtetthet på 77,5 A/dm og en badtemperatur på 55 C. Fremgangsmåten ifølge oppfinnelsen er også stort sett fri
for katodisk etsing ved lav strømtetthet.
Pletteringsbadet består stort sett av kromsyre og -sulfat og en organisk sulfonsyre hvor forholdet S/C er >, 1/3, eller salter derav, som f.eks. metyl-, etyl- og propylsulfonsyre,
og metan- og 1,2-etyldisulfonsyre. Badet er stort sett fritt for skadelige karboksylsyrer, fosfonsyrer, perfluorlaverealkyl-sulfonsyrer og halogenider.
I de foretrukne utførelsesformer av oppfinnelsen er forholdet mellom konsentrasjonen av kromsyre og -sulfat ca. 25-200, fortrinnsvis 60-150, og mellom kromsyre og sulfonsyren 25-450, fortrinnsvis 40-125.
Borsyre eller borater kan innlemmes i badet. De fremmer blankhet av pletteringen uten å virke inn på de grunnleggende fordelaktige egenskaper av badene.
Et typisk krom-elektropletteringsbad i henhold til oppfinnelsen har de følgende bestanddeler angitt i g/l.
Virkningen på pletteringsvirkningsgraden av å anvende forskjellige organiske sulfonsyrer er vist nedenunder.
Krombadene ifølge oppfinnelsen gir meget blanke, harde (KN1qq>900) vedheftende, ikke-iriserende krompletteringer på underlagsmetaller hvor pletteringsvirkningsgraden i fremgangsmåten er større enn 22% ved 77,5 A/dm 2 og ved en pletter-ingstemperatur på 55°C, med stort sett ingen ledsagende etsing ved lav strømtetthet.
De foretrukne badsammensetninger ifølge oppfinnelsen
er dem i hvilke den organiske sulfonsyre er metylsulfonsyre
og som skaffer pletteringsvirkningsgrader i området 24-28%. Når etylsulfonsyre substitueres for metylsulfonsyre, er pletteringsvirkningsgraden fortsatt 26%, mens den for propylsulfonsyre er 23%. Bruken av alkylsulfonsyrer som har et S/C-forhold på mindre enn det ønskede 1/3, f.eks. t-butylsulfon-syre, S/C-forhold på 1/4, gir imidlertid en betydelig redusert virkningsgrad på bare 20%. En lignende lav virkningsgrad fås også med en perfluorlaverealkyl-sulfonsyre med mindre enn fire karbonatomer, f.eks. trifluormetylsulfonsyre.
Skjønt visse sulfonsyrer eller deres salter her er- beskrevet, skal det forstås at reduserte forløperformer derav såsom de tilsvarende tioler, også kan brukes, da disse for-bindelser vil oksidere i nærværet av kromsyre til den ønskede sulfonsyre.
Borsyre eller borater kan valgfritt inkluderes i badene ifølge oppfinnelsen, da de fremmer blankhet uten å virke inn på virkningsgraden.
De ingredienser som normalt settes til elektropletteringsbad for spesielle formål, kan innlemmes, f.eks. røkunder-trykkende midler.
Forholdet mellom konsentrasjonen av kromsyre og -sulfonat i badet ifølge oppfinnelsen ligger passende i området 25-
450, fortrinnsvis 40-125, og optimalt ca. 70.
Forholdet mellom konsentrasjonen av kromsyre og -sulfat ligger passende i området 25-200, fortrinnsvis 60-150, og optimalt ca. 100.
Badet ifølge oppfinnelsen er stort sett fritt for skadelige ioner. For eksempel fører innlemmelsen i badet av selv små mengder, f.eks. 10 g/l av en karboksylsyre såsom eddiksyre eller ravsyreanhydrid, til en grå og/eller grov plettering, hvilket er uakseptabelt. Videre bør halogen i form av et halogenidion såsom Br eller I i mengder på 1 g/l eller mer utelukkes, da de gir en grov plettering og reduserte katodevirkningsgrader. F og Cl bør også ekskluderes fordi de bevirker etsing ved lav strømtetthet. Fosfonsyrer påvirker også i høy grad strømvirkningsgradene til uakseptable nivåer.
Claims (9)
1. Funksjonell krompletteringsprosess for fremstilling av en ikke-iriserende, vedheftende, blank kromplettering på et underlagsmetall ved en katodevirkningsgrad på minst 22% ved en strømtetthet pa 77,5 A/dm 2 og en pletterings-temperatur på 55°C, hvilken plettering er stort sett fri for grå eller grove avleiringer eller etsing ved lav strøm-tetthet, karakterisert ved
elektroplettering av krom på det nevnte metall ved en temperatur på 45-70°C fra et krompletteringsbad bestående stort sett av kromsyre og -sulfat og en ikke-substituert alkylsulfonsyre eller saltet derav, hvor forholdet S/C er
>, 1/3.
2. Funksjonell krompletteringsprosess som angitt i krav 1, karakterisert ved at badet er stort sett fritt for en karboksylsyre, en dikarboksylsyre, en fosfon-syre, en perfluorlaverealkyl-sulfonsyre og et halogenid.
3. Funksjonell krompletteringsprosess som angitt i krav 1, karakterisert ved at pletteringen utføres ved en temperatur på 50-60°C.
4. Funksjonell krompletteringsprosess som angitt i krav 1, karakterisert ved at forholdet mellom konsentrasjonen av kromsyre og -sulfat er 25-200.
5. Funksjonell krompletteringsprosess som angitt i krav 4, karakterisert ved at forholdet er 60-150.
6. Funksjonell krompletteringsprosess som angitt i krav 1, karakterisert ved at forholdet mellom konsentrasjonen av kromsyre og sulfonsyre er 25-450.
7. Funksjonell krompletteringsprosess som angitt i krav 1, karakterisert ved at pletteringen utføres ved en strømtetthet pa 11,6-230 A/dm 2.
8. Funksjonell krompletteringsprosess som angitt i krav 7, karakterisert ved at strømtettheten er 30-100 A/dm <2> .
9. Funksjonell krompletteringsprosess som angitt i krav 1, karakterisert ved at badet også innbefatter borsyre eller et borat i en konsentrasjon på 4-40 g/l.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US06/716,062 US4588481A (en) | 1985-03-26 | 1985-03-26 | Chromium plating bath for producing non-iridescent, adherent, bright chromium deposits at high efficiencies and substantially free of cathodic low current density etching |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| NO860990L true NO860990L (no) | 1986-09-29 |
Family
ID=24876569
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| NO860990A NO860990L (no) | 1985-03-26 | 1986-03-14 | Krompletteringsbad og fremgangsmaate til fremstilling av ikke-iriserende blank kromplettering. |
Country Status (12)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4588481A (no) |
| EP (1) | EP0196053B1 (no) |
| JP (1) | JPS61235593A (no) |
| AT (1) | ATE44054T1 (no) |
| AU (1) | AU565137B2 (no) |
| BR (1) | BR8601274A (no) |
| CA (1) | CA1292093C (no) |
| DE (1) | DE3663958D1 (no) |
| ES (1) | ES8705931A1 (no) |
| HK (1) | HK63294A (no) |
| MX (1) | MX163866B (no) |
| NO (1) | NO860990L (no) |
Families Citing this family (27)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4755263A (en) * | 1986-09-17 | 1988-07-05 | M&T Chemicals Inc. | Process of electroplating an adherent chromium electrodeposit on a chromium substrate |
| US4828656A (en) * | 1987-02-09 | 1989-05-09 | M&T Chemicals Inc. | High performance electrodeposited chromium layers |
| US4786378A (en) * | 1987-09-01 | 1988-11-22 | M&T Chemicals Inc. | Chromium electroplating baths having reduced weight loss of lead and lead alloy anodes |
| US4810337A (en) * | 1988-04-12 | 1989-03-07 | M&T Chemicals Inc. | Method of treating a chromium electroplating bath which contains an alkyl sulfonic acid to prevent heavy lead dioxide scale build-up on lead or lead alloy anodes used therein |
| US5176813A (en) * | 1989-11-06 | 1993-01-05 | Elf Atochem North America, Inc. | Protection of lead-containing anodes during chromium electroplating |
| WO1991006693A1 (en) * | 1989-11-06 | 1991-05-16 | Atochem North America, Inc. | Protection of lead-containing anodes during chromium electroplating |
| US5196108A (en) * | 1991-04-24 | 1993-03-23 | Scot Industries, Inc. | Sucker rod oil well pump |
| JPH0628411U (ja) * | 1992-09-10 | 1994-04-15 | 東京電子工業株式会社 | ケーブル制御装置のプーリ構造 |
| EP0860519A1 (en) * | 1997-02-12 | 1998-08-26 | LUIGI STOPPANI S.p.A. | Chromium plating from baths catalyzed with alkanedisulfonic-alkanesulfonic compounds with inhibitors such as aminoalkanesulfonic acids and heterocyclic bases |
| DE19828545C1 (de) * | 1998-06-26 | 1999-08-12 | Cromotec Oberflaechentechnik G | Galvanisches Bad, Verfahren zur Erzeugung strukturierter Hartchromschichten und Verwendung |
| JP3918142B2 (ja) | 1998-11-06 | 2007-05-23 | 株式会社日立製作所 | クロムめっき部品、クロムめっき方法およびクロムめっき部品の製造方法 |
| USRE40386E1 (en) * | 1998-11-06 | 2008-06-17 | Hitachi Ltd. | Chrome plated parts and chrome plating method |
| US6738073B2 (en) * | 1999-05-12 | 2004-05-18 | Imove, Inc. | Camera system with both a wide angle view and a high resolution view |
| DK1205582T3 (da) * | 2000-11-11 | 2008-11-24 | Enthone | Fremgangsmåde til elektrolytisk udskillelse fra en chromholdig oplösning |
| DE10255853A1 (de) * | 2002-11-29 | 2004-06-17 | Federal-Mogul Burscheid Gmbh | Herstellung strukturierter Hartchromschichten |
| US20070068821A1 (en) * | 2005-09-27 | 2007-03-29 | Takahisa Hirasawa | Method of manufacturing chromium plated article and chromium plating apparatus |
| US20050081936A1 (en) * | 2003-10-17 | 2005-04-21 | Wilmeth Steven L. | Piping for concrete pump systems |
| US20050081937A1 (en) * | 2003-10-17 | 2005-04-21 | Wilmeth Steven L. | Piping for abrasive slurry transport systems |
| DE102004019370B3 (de) * | 2004-04-21 | 2005-09-01 | Federal-Mogul Burscheid Gmbh | Herstellung einer strukturierten Hartchromschicht und Herstellung einer Beschichtung |
| US20060155142A1 (en) * | 2005-01-12 | 2006-07-13 | Honeywell International Inc. | Low pressure process for the preparation of methanedisulfonic acid alkali metal salts |
| US20060225605A1 (en) * | 2005-04-11 | 2006-10-12 | Kloeckener James R | Aqueous coating compositions and process for treating metal plated substrates |
| DE102005059367B4 (de) * | 2005-12-13 | 2014-04-03 | Enthone Inc. | Elektrolytzusammensetzung und Verfahren zur Abscheidung rissfreier, korrosionsbeständiger und harter Chrom- und Chromlegierungsschichten |
| JP2007291423A (ja) * | 2006-04-21 | 2007-11-08 | Mazda Motor Corp | 摺動部材 |
| US7909978B2 (en) * | 2007-04-19 | 2011-03-22 | Infineon Technologies Ag | Method of making an integrated circuit including electrodeposition of metallic chromium |
| JP2010535893A (ja) * | 2007-08-07 | 2010-11-25 | アーケマ・インコーポレイテッド | ポリスルホン酸を含有する硬質表面用クリーナー |
| DE102008017270B3 (de) * | 2008-04-04 | 2009-06-04 | Federal-Mogul Burscheid Gmbh | Strukturierte Chrom-Feststoffpartikel-Schicht und Verfahren zu deren Herstellung sowie beschichtetes Maschinenelement |
| PL2792770T3 (pl) * | 2013-04-17 | 2015-11-30 | Atotech Deutschland Gmbh | Funkcjonalna warstwa chromu z ulepszoną odpornością korozyjną |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE1034945B (de) * | 1956-05-15 | 1958-07-24 | Riedel & Co | Glaettungsmittel und Bad zur elektrolytischen Verchromung aus einer waessrigen sechswertigen Chromsaeureloesung |
| US3311548A (en) * | 1964-02-20 | 1967-03-28 | Udylite Corp | Electrodeposition of chromium |
| US3745097A (en) * | 1969-05-26 | 1973-07-10 | M & T Chemicals Inc | Electrodeposition of an iridescent chromium coating |
| US3758390A (en) * | 1971-06-18 | 1973-09-11 | M & T Chemicals Inc | Novel cromium plating compositions |
| US3943040A (en) * | 1974-09-20 | 1976-03-09 | The Harshaw Chemical Company | Microcracked chromium from a bath using an organic sulfur compound |
| DE3402554A1 (de) * | 1984-01-26 | 1985-08-08 | LPW-Chemie GmbH, 4040 Neuss | Abscheidung von hartchrom auf einer metallegierung aus einem waessrigen, chromsaeure und schwefelsaeure enthaltenden elektrolyten |
-
1985
- 1985-03-26 US US06/716,062 patent/US4588481A/en not_active Expired - Lifetime
-
1986
- 1986-03-07 MX MX1790A patent/MX163866B/es unknown
- 1986-03-14 NO NO860990A patent/NO860990L/no unknown
- 1986-03-21 BR BR8601274A patent/BR8601274A/pt not_active IP Right Cessation
- 1986-03-24 JP JP61065554A patent/JPS61235593A/ja active Granted
- 1986-03-25 AU AU55251/86A patent/AU565137B2/en not_active Expired
- 1986-03-25 ES ES553393A patent/ES8705931A1/es not_active Expired
- 1986-03-25 EP EP86104058A patent/EP0196053B1/en not_active Expired
- 1986-03-25 CA CA000505007A patent/CA1292093C/en not_active Expired - Lifetime
- 1986-03-25 DE DE8686104058T patent/DE3663958D1/de not_active Expired
- 1986-03-25 AT AT86104058T patent/ATE44054T1/de not_active IP Right Cessation
-
1994
- 1994-06-30 HK HK63294A patent/HK63294A/xx not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0196053B1 (en) | 1989-06-14 |
| ATE44054T1 (de) | 1989-06-15 |
| DE3663958D1 (en) | 1989-07-20 |
| BR8601274A (pt) | 1986-12-02 |
| CA1292093C (en) | 1991-11-12 |
| HK63294A (en) | 1994-07-01 |
| MX163866B (es) | 1992-06-29 |
| JPS6332874B2 (no) | 1988-07-01 |
| AU5525186A (en) | 1986-07-03 |
| JPS61235593A (ja) | 1986-10-20 |
| US4588481A (en) | 1986-05-13 |
| AU565137B2 (en) | 1987-09-03 |
| EP0196053A2 (en) | 1986-10-01 |
| ES8705931A1 (es) | 1987-05-16 |
| EP0196053A3 (en) | 1987-03-25 |
| ES553393A0 (es) | 1987-05-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| NO860990L (no) | Krompletteringsbad og fremgangsmaate til fremstilling av ikke-iriserende blank kromplettering. | |
| US10006135B2 (en) | Electroplating bath and method for producing dark chromium layers | |
| US3745097A (en) | Electrodeposition of an iridescent chromium coating | |
| US2750334A (en) | Electrodeposition of chromium | |
| EP0073568A1 (en) | Bright chromium plating baths | |
| CA1075191A (en) | Tin-gold electroplating bath and process | |
| US4234396A (en) | Chromium plating | |
| GB2062009A (en) | Electroplacting Bath and Process | |
| US4207150A (en) | Electroplating bath and process | |
| EP0348043B1 (en) | Electroplating bath and process for depositing functional chromium | |
| US2112818A (en) | Electrodeposition of metals | |
| JPH0445598B2 (no) | ||
| US3711384A (en) | Electrodeposition of nickel | |
| US3514380A (en) | Chromium plating from a fluosilicate type bath containing sodium,ammonium and/or magnesium ions | |
| US3287236A (en) | Electrodeposition of copper and solutions therefor | |
| EP1086262A1 (en) | Electroplating baths | |
| US2228991A (en) | Production of bright nickel deposit | |
| WO2023164992A1 (zh) | 一种抗病毒环保复合镀层及其制备方法和抗病毒环保产品 | |
| CA2280127A1 (en) | Chromium plating from baths catalyzed with alkanedisulfonic-alkanesulfonic compounds with inhibitors such as aminealkanesulfonic and heterocyclic bases | |
| US3778358A (en) | Zinc plating solution | |
| JPH06128789A (ja) | 光沢コバルトめっき液 | |
| US2114006A (en) | Electrodeposition of metals | |
| EP0492790A2 (en) | Electroplating composition and process | |
| JPS5838519B2 (ja) | 黒色光沢錫↓−ニツケル合金電解メツキ液 | |
| JPH029115B2 (no) |