NO153522B

NO153522B - Apparat for behandling av blandinger av vaeske og gass, og anvendelse av flere slike apparater i en kolonne.

Info

Publication number: NO153522B
Application number: NO813183A
Authority: NO
Inventors: Hubertus Johanna Ad Schuurmans; Andre Theo Maria Peer
Original assignee: Shell Int Research
Priority date: 1980-09-18
Filing date: 1981-09-18
Publication date: 1985-12-30
Also published as: NZ198371A; BR8105931A; EP0048508B1; AU538576B2; CA1166971A; NO813183L; KR880000800B1; IN155455B; JPS5781808A; EP0048508A2; AR226129A1; MX153756A; NO153522C; EP0048508A3; AU7527881A; DE3169551D1; KR830008534A; US4349360A; JPH0440050B2

Description

Denne oppfinnelse angår et apparat for behandling av blandinger av væske og gass, hvilket apparat er av en i og for seg kjent type omfattende en rørformet vegg som avgren-

ser et indre rom og et ytre rom, innløpsinnretninger for tilførsel av en blanding av en væske og gass til det indre rom, en hvirvelstrømfrembringende innretning inne i det indre rom for å bibringe blandingen av væske og gass en roterende bevegelse for å skille væsken fra gassen, og utløpsinnretnin-ger for separat uttagning av væsken og gassen fra det indre rom.

Apparater av denne kjente type egner seg for anvendelse i kolonner for separasjon av væske-gass-blandinger samt i kolonner hvor væsker og gasser bringes i kontakt med hverandre for å avstedkomme masseoverføring og/eller varmeover-føring mellom fasene med påfølgende separasjon av fasene.

For dette formål monteres apparatene i eller over åpninger

i en plate eller bunn anordnet i en kolonne. Oppfinnelsen angår derfor også en slik anvendelse av det nye apparat.

Betegnelsen "gass" er her ment å skulle inkludere vanndamp.

Når et apparat av ovennevnte kjente type anvendes i kolonner hvor væsker skal bringes i kontakt med gasser, er apparatet forsynt med et blandekammer med separate væske-

og gassinnløp. I blandekammeret forstøves væsken i den til-førte gasstrøm, slik at masse og/eller varme kan utveksles . mellom væsken og gassen. Blandingen av væske og gass tilføres til den hvirvelstrømfrembringende innretning for påfølgende utskillelse av væsken fra gasstrømmen.

Apparater av den omtalte type finner utstrakt anvendelse i oljeindustrien og den kjemiske industri.

Et eksempel på et slikt apparat er beskrevet i bri-

tisk patentskrift nr. 1 123 546. Dette kjente apparat omfatter en sylindrisk vegg som omslutter et indre rom. Et sett skovlplater er anordnet i det indre rom for å skille væske fra en gasstrøm. Den utskilte væske kan tas ut fra det indre rom dels gjennom utløpsåpninger for væsken i den sylindriske vegg og dels over den øvre kant av veggen.

Et annet eksempel på et apparat for behandling av

Blandinger av væske og gass er beskrevet i US patentskrift

nr. 4 015 960. Dette kjente apparat omfatter et indre rom som er avgrenset av et rør, og som er forsynt med blader for å avstedkomme rotasjonsbevegelse av en blanding av væske og gass som innføres i det indre rom via den åpne, nedre ende av røret. Væsken, som skilles fra gasstrømmen som følge av virkningen av bladene, tas så ut fra det indre rom via en åpning i rørveggen. Denne åpning er anordnet på omtrent samme nivå som bladene. Den tilbakeblivende gasstrøm tas ut fra det indre rom via et utløpsrør anordnet coaksialt med hoved-røret og med den nedre ende anordnet inne i hovedrøret.

De ovenfor omtalte kjente apparater gir tilfreds-stillende separasjon ved relativt begrensede strømningshastig-heter av blandingen som skal behandles, og ved relativt lave væskebelastninger. En økning av strømningshastigheten og/eller væskebelastningen vil imidlertid medføre en minskning av separasjonseffekten. Denne minskning skyldes det fenomen at væske på ny rives med av gasstrømmen når denne forlater behandlingsapparatets indre rom.

Formålet med den foreliggende oppfinnelse er å til-veiebringe et apparat for behandling av blandinger av væske og gass, som er mer effektivt enn de kjente apparater, selv ved store strømningshastigheter og/eller væskebelastninger.

I henhold til oppfinnelsen tilveiebringes der således

et apparat for behandling av blandinger av væske og gass, omfattende en rørformet vegg .som avgrenser et indre rom og et ytre rom, en øvre v^egg som er anordnet i en viss avstand over rørveggen og som oventil avgrenser det indre såvel som det ytre rom, en innløpsinnretning for tilførsel av en blanding av en væske og en gass til det indre rom, en hvirvel-strømf rembringende innretning inne i det indre rom for å bibringe blandingen av væske og gass en roterende bevegelse for å skille væsken og gassen fra hverandre, utløps innretninger for separat uttagning av væsken og gassen fra det indre rom, hvilke utløpsinnretninger omfatter (a) et primært gassut-løpsrør, som er anordnet coaksialt med det indre rom, som fører gjennom den øvre vegg og som har sin nedre ende anord-

net inne i det indre rom, under den øvre ende av den rør-formede vegg, og (b) minst én utløpsåpning for væske, anordnet i den rørformede vegg. Apparatet er særpreget ved at det ytterligere omfatter minst ett sekundært gassutløpsrør for uttagning av gass fra det ytre rom, hvilket sekundære gass-utløpsrør passerer gjennom den øvre vegg og har sin nedre ende anordnet inne i det ytre rom.

I henhold til oppfinnelsen kan videre et flertall apparater ifølge oppfinnelsen anvendes innsatt i én eller flere bunner i en kolonne for behandling av blandinger av væske og gass.

Noen utførelsesformer av apparatet ifølge oppfinnelsen skal nu som eksempler beskrives mer detaljert under henvisning til de vedføyede tegninger, hvor fig. 1 viser et vertikalsnitt gjennom en første utførelse av apparatet, fig. 2 viser et tverrsnitt etter linjen II - II gjennom apparatet vist på fig. 1, fig. 3 viser et vertikalsnitt gjennom en kolonne utstyrt med apparater i henhold til en andre utførelses-form av oppfinnelsen, fig. 4 viser detalj IV ifølge fig. 3

i større målestokk, fig. 5 er et planriss, sett ovenfra,av apparatet vist på fig. 4, fig. 6 viser et vertikalsnitt gjennom en kolonneplate utstyrt med apparater ifølge en tredje utførelsesform av oppfinnelsen, og fig. 7 viser et tverrsnitt VII - VII gjennom kolonneplaten vist på fig. 6.

Skjønt der på tegningene er vist spesifikke utløps-innretninger for væske sammen med spesifikke utløpsinnret-ninger for gass, og disse innretninger er anordnet i visse spesifikke utformninger og relative plasseringer, vil det forståes at disse bare er ment som illustrasjoner, og at de forskjellige trekk hver for seg kan anvendes også i mange andre utførelser.

Figurene 1 og 2 viser et apparat i henhold til oppfinnelsen for behandling av blandinger av væske og gass. Dette apparat omtales i fortsettelsen også ved uttrykket "hvirvelstrøms-rør" .

Hvirvelstrømsrøret 1 omfatter en sylindrisk vegg 2 som omslutter et indre rom eller separasjonsrom 3. Den sylindriske vegg 2, som er montert på en bunnplate 4, er omgitt av en

omhyllende vegg 5. Mellom veggen 2 og den omhyllende vegg 5

er der et ytre rom eller væskeuttagningsrom 6, som nedentil er avgrenset av bunnplaten 4 og oventil av en øvre vegg 7.

Den øvre vegg 7 er anordnet i en viss avstand over den sylindriske vegg 2, slik at det fåes en fluidumpassasje 8 mellom det indre rom 3 og det ytre rom 6. Gjennom åpningen 9 i hvirvel-strømsrøret 1 kan en gass-væske-blanding tilføres til et sett skovlblader 10 bestående av et antall blader 11, anordnet i det indre rom 3. Den sylindriske vegg 2 er forsynt med et antall langsgående væskeutløpsåpninger 12 anordnet rundt veggens 2 periferi.

Et primært gassutløpsrør 13, som passerer gjennom den øvre vegg 7, har sin nedre ende 14 anordnet under den øvre ende 15 av veggen 2 og strekker seg derved inn i separasjonsrommet 3. Utløpsrøret 13, settet av skovlblader 10 og separasjonsrommet 3 er anordnet hovedsakelig coaksialt i forhold til hverandre.

Et antall sekundære gassutløpsrør 16 passerer gjennom

en øvre vegg 7 og strekker seg inn i det ytre rom 6. Disse sekundære gassutløpsrør 16 danner fluidumkommunikasjon mellom den øvre del av det ytre rom 6 og det indre av det primære gassutløpsrør 13. Sluttelig omfatter hvirvelstrømsrøret 1

et utløpsrør 17 som har sin ene ende anordnet i en åpning i den nedre del av den omhyllende vegg 5, for uttagning av væske fra det ytre rom 6.

Under drift blir en blanding av små væskedråper og

gass innført i hvirvelstrømsrørets 1 separasjonsrom 3 via åpningen 9. I separasjonsrommet 3 ledes gass-væske-blandingen gjennom settet av skovlrør 10, som bibringer gass-væske-blandingen en roterende bevegelse. Som følge av rotasjons-bevegelsen slynges gass-væske-blandingens væskedråper utad, slik at de støter mot og flyter sammen på den innvendige overflate av den sylindriske vegg 2. Det således dannede væske-skikt på den innvendige overflate av veggen 2 føres dels gjennom de langsgående væskeutløpsåpninger 12 i veggen 2 og dels over den øvre kant 15 av veggen 2. Den utskilte væske oppsamles i den nedre del av væskeutløpsrommet 6 og tas til-slutt ut fra rommet 6 via utløpsrør 17.

Størstedelen av gasskomponentene av gass-væske-blandingen som har passert skovlbladmontasjen 10, tas ut fra separasjonsrommet 3 via det primære gassutløpsrør .13. For å unngå at væskeskiktet som er blitt dannet på den innvendige overflate av veggen 2 som følge av virkningen av skovlblad-settet 10, rives med av gasstrømmen når denne forlater separasjonsrommet 3, er gassutløpsrørets 13 tverrsnittsareal vesent-lig mindre enn tverrsnittsarealet av separasjonsrommet 3.

Et egnet tverrsnittsareal av gassutløpsrøret 13 kan være fra 15 til 65% av tverrsnittsarealet av rommet 3. I dette område for forholdet mellom tverrsnittsarealene kan det oppnåes en effektiv utskillelse av væske fra en gasstrøm, uten at det opp-står noe: utillatelig trykktap i gasstrømmen som behandles i hvirvelstrømsrøret 1.

Væsken som skilles ut fra gasstrømmen, og som strømmer inn i det ytre rom 6, kan inneholde mindre mengder gass. Denne gass tas ut fra det ytre rom 6 via de sekundære gassutløpsrør 16. Under uttagningen av væske fra separasjonsrommet 3 over den øvre ende av den sylindriske vegg 2 vil en væskefilm dannes på den øvre vegg 7. Ved å anbringe de nedre ender av gassutløpsrørene 16 under den øvre vegg 7 unngåes det at gass-strømmen river med seg denne væskefilm når gasstrømmen forlater hvirvelstrømsrøret 1 via utløpsrørene 16.

For å redusere til et minimum medrivningen av væske som samler seg på den innvendige overflate av veggen 2, med gasstrømmen som forlater hvirvelstrømsrøret 1 via det primære gassutløpsrør 13, er den nedre ende 14 av utløpsrøret 13 anordnet under den øvre ende av væskeutløpsåpningene 12. Dette arrangement gjør det mulig for væsken som samler seg på den innvendige overflate av veggen over åpningene 12 å forlate det indre rom 3 langs to utløpsveier, nemlig nedad gjennom åpningene 12 og oppad gjennom fluidumpassasjen 8 over den øvre ende 15 av veggen 2 - uten å strømme nedover og derved passere den nedre ende 14 av gassutløpsrøret 13 og følgelig bli utsatt for gasstrømmens medrivende virkning.

Det henvises nu til fig. 3, som viser en kolonne 20,

i hvilken væsker bringes i kontakt med gasser for utveksling av masse og/eller varme mellom fasene, f.eks. for separasjon

av hydrocarbonblandinger ved destillasjon eller for absorp-sjon av en gass eller en komponent fra en blanding av gasser ved hjelp av en væske. Kolonnen 20, som har en kolonnevegg 21, er utstyrt med innretninger for tilførsel av fluider til dens indre og for uttagning av fluider. Disse innretninger utgjøres av et gassinnløpsrør 22, et gassutløpsrør 23, et væskeinnløps-rør 24 og et væskeutløpsrør 25. Et antall parallelle plater eller bunner 26 er anordnet i kolonnens 20 indre, og hver av disse bunner er utstyrt med et antall apparater 27 for behandling av væsken og gassen som tilføres kolonnen 20. Disse apparater 27, som er montert i åpninger 30 i bunnene 26, vil bli beskrevet nærmere nedenfor under henvisning til figurene 4 og 5. Parallelt med hver av bunnene 26 er det anordnet to parallelle vegger 28 og 29. Hver vegg 28 er forsynt med et antall åpninger 31 for uttagning av gass fra en bunn 26 i retning oppad. Rommet mellom hvert par av vegger 28 og 29

som hører til en felles bunn 26, som ikke er den nederste bunn, fluidumkommuniserer ved hjelp av et rør 32 med rommet mellom den nærmeste bunn 26 på nedsiden og dennes vegg 29.

Som vist på fig. 4 omfatter hvert apparat 27 et blandekammer 40 og et indre rom som danner separasjonskammeret 41. Begge kammere omgis av en sylindrisk vegg 42 og er skilt fra hverandre ved hjelp av et skovlplatearrangement 44. Blandekammeret 40 er forsynt med et antall væsketilførsels-åpninger 43 anordnet i den nedre del av veggen 42. Et antall sirkelrunde væskeutløpsåpninger 45 er anordnet i den øvre del av den sylindriske vegg 42. Som vist på fig. 4 er veggen 28 montert i en viss avstand over den øvre ende 5o av den sylindriske vegg 42, slik at der dannes en fluidumpassasje

46 mellom separasjonskammeret 41 og et ytre rom (også be-tegnet væskeutløpsrom) 47. Det ytre rom 47 er avgrenset i sideretningen av kolonneveggen 21, som vist på fig. 3. Et antall konisk utformede primære gassutløpsrør 48 kommuniserer gjennom deres øvre ender med åpningene 31 i veggen 28. Den nedre ende 49 av hvert primære gassutløpsrør 4 8 er anordnet inne i et separasjonskammer 41 under den øvre ende 50 av en vegg 42. Apparatene 27 omfatter videre et antall felles sekundære gassutløpsrør 51 anordnet i åpninger i veggen 28 (se også

fig. 5) .

Driften av kolonnen 20 (se fig. 3) skal nu beskrives under henvisning til figurene 3 og 4. Via gassinnløpsrør 22

og væskeinnløpsrør 24 tilføres gass og væske til det indre av kolonnen 20. Etter kort tid er det indre av kolonnen fylt med væske og gass.

Gassen og væsken strømmer samtidig inn i hvert av blandekamrene 40 på en bunn 26 via åpninger henholdsvis 30

og 43. I hvert blandekammer forstøves så væsken i den til-førte gasstrøm, og der dannes en blanding av væskedråper og gass som muliggjør utveksling av masse og/eller varme mellom væsken og gassen. Denne blanding blir så tvunget til å passere den hvirvelstrømfrembringende innretning 44, og en sentrifugal-kraft påtvinges blandingen. Som følge av denne sentrifugal-kraft slynges væskedråpene utover, og de støter an mot og flyter sammen på den innvendige overflate av den sylindriske vegg 42 av hvert separasjonskammer 41. Størstedelen av gass-strømmen tas ut fra separasjonskamrene 41 via hovedgassut-løpsrørene 48. Væsken som skilles ut fra gasstrømmen, og som samler seg på veggene 42, tas ut fra separasjonskamrene 41 dels via åpningene 45 i veggene 42 og dels over de øvre kanter 50 av veggene 42.

Væsken som tas ut fra separasjonskamrene 41, oppsamles deretter på veggen 49 tilhørende en bunn 26. Væsken på bunnen 29 tvinges til å strømme gjennom rørene 32 til bunnen 26 umiddelbart nedenfor Por dette formål passerer rørene 32 gjennom en bunn 26 og veggene 28 og 29 som tilhører den neste bunn 26 nedenfor. Væsken som er oppsamlet på den nærmeste nedenforliggende bunn 26, behandles deretter i apparater 27

på denne nedenforliggende bunn 26, på den ovenfor beskrevne måte. Når væsken har nådd den nederste bunn 26 i kolonnen 20, og er blitt behandlet i apparatene 2 7 på denne nederste bunn 26, tas væsken ut fra det indre av kolonnen 20 gjennom væske-utløpsrøret 25.

Gass som følger med væsken idet væsken forlater separasjonskamrene 41, tas ut fra det ytre rom 47 som omgir kamrene 41, gjennom de sekundære gassutløpsrør 51. Gassen som forlater separasjonskamrene 41 via de primære gassutløpsrør 48, og gassen som forlater det ytre rom 47 via de sekundære gassutløps-rør 51, strømmer oppad og vil føres inn i apparatene 2 7 på

den neste bunn 26 overfor. Når gassen ankommer til denne neste bunn 26 ovenfor, blandes den først med væske, hvoretter den skilles fra væsken på den måte som er beskrevet ovenfor. Når gassen har passert gjennom apparatene 2 7 på den øverste bunn 26 i kolonnen 20, tas gassen ut fra det indre av kolonnen 20 via gassutløpsrør 23.

Det henvises nu til figurene 6 og 7, som viser en kolonnebunn 60 utstyrt med apparater 61 for separasjon av gass-væske-blandinger. Kolonnebunnen 60 er anordnet i en kolonne for separasjon av gass-væske-blandinger. En del av kolonneveggen, som er angitt ved henvisningstall 62, er vist på

fig. 6. Kolonnen er utstyrt med egnede, ikke viste innretninger for tilførsel av gass-væske-blandinger til kolonnens indre og for separat uttagning av væske og gass fra kolonnen. Som vist på fig. 6 viser hvert apparat 61 et indre rom (også benevnt separasjonskammer) 63 som omsluttes av en sylindrisk vegg 64. I en viss avstand over de øvre ender av veggene 64

er det anordnet en vegg 65 parallelt med bunnen 60. Innretninger 66 for å frembringe en rotasjonsbevegelse i gass-væske-blandingene i det indre rom 63 er vist skjematisk. De deler av veggene 64 som er anordnet på nedstrømssiden av den hvirvelstrømfrembringende innretning 66 er utstyrt med langsgående tangensielle åpninger 67, utformet ved lokalt å kutte opp og bøye veggene 64. For uttagningen av gass fra separasjonskamrene 6 3 er det anordnet gassutløpsrør 68 i åpninger i veggen 65. Veggen 65 er dessuten utstyrt med sekundære gassutløpsrør 69. Disse sekundære gassutløpsrør 69 danner en passasje for gass som oppsamles i det ytre rom 70 som omgir apparatene 61. Som vist på fig. 6 er det ytre rom i sideretningen avgrenset av kolonneveggen 62. For uttagning av væske fra det ytre rom 70 er det anordnet et rør 71 i en åpning i bunnen 60.

Under drift vil en gass-væske-blanding som tilføres det indre av kolonnen, strømme i retning oppad og passere gjennom separasjonskamrene 63 på bunnen 60. Som følge av

virkningen av den hvirvelstrømfrembringende innretning 6 6

vil væsken skilles ut fra gasstrømmen og tvinges til å forlate separasjonskamrene dels gjennom åpningene 67 og dels over de øvre ender av de sylindriske vegger 64. For å for-hindre at væske som tas ut fra et separasjonskammer 63, skal hemme uttagningen av væske fra et tilstøtende separasjonskammer 63, er det anordnet skjermer 72 mellom tilstøtende kammere 63. Skjermene 72 er festet til veggen 65 og har sine nedre ender anordnet i det minste under de nedre ender av de langsgående åpninger 67 i de sylindriske vegger 64. Som vist på fig. 7 kan skjermene danne en omhyllende vegg med kvadratisk tverrsnitt.

Væsken som tas ut fra separasjonskamrene 63, oppsamles

i det ytre rom 70. Gjennom røret 71 passerer så væsken til kolonnens bunnseksjon, hvor væsken fjernes fra kolonnens indre ved hjelp av væskeutløpsinnretninger ( ikke vist) .

Størstedelen av gasstrømmene som har passert de hvirvelstrømfrembringende innretninger 66, strømmer i retning oppad gjennom de primære gassutløpsrør 68. Gass som følger med væsken når denne forlater separasjonskamrene 63, vil strømme i retning oppad gjennom de sekundære gassutløpsrør 69. Gassen fra utløpsrørene 68 og 69 tas ut fra det indre av kolonnen ved tijelp av gassutløpsinnretninger (ikke vist) anordndet på nedstrømssiden av veggen 65.

Det vil forståes at man i stedet for ett enkelt væske-utløpsrør 71 kan anvende flere rør for å føre væske fra det ytre rom 70 mot kolonnens bunnseksjon.

Oppfinnelsen er ikke begrenset til behandlingsapparater med sylindrisk utformede vegger 2, 42 og 64. En hvilken som helst type rørformet vegg kan med fordel anvendes, f.eks. rektangulært utformede rørvegger. Dessuten behøver ikke tverrsnittsarealet være konstant over hele rørveggens lengde.

Skjønt apparatenes rørvegger på figurene 3, 4 og

6 er montert i åpninger i en bunn, kan rørveggene ha en dia-meter som er mindre enn de tilsvarende åpninger i bunnen og være montert over disse åpninger.

Oppfinnelsen er ikke begrenset til den spesielle type hvirvelstrømfrembringende innretning som er vist på figurene 1 og 3, og som er angitt ved henvisningstall henholdsvis 10

og 44.

Videre er oppfinnelsen ikke begrenset til rørformede vegger'med væskeutløpsåpninger av den type som er vist på tegningene. I stedet kan væskeutløpsåpningene f.eks. utformes ved kutting og utstrekking av en del av en rørformet vegg til et nettverk.

Det er videre å merke at oppfinnelsen ikke er begrenset til apparater utstyrt med omhyllende vegger av de utformninger som er vist på figurene 1, 2 og 6. Eksempelvis kan det med fordel også anvendes omhyllende vegger med hexagonal ut-formning .

Det er å merke at det totale tverrsnittsareal av de sekundære gassutløpsrør 16, 51, 69 fra hvert apparat fortrinns-vis utgjør minst 6% av det totale tverrsnittsareal av de primære gassutløpsrør, henholdsvis 13, 48 og 68. Hva gass-utløpsrørene 48 angår forståes med tverrsnitssarealet det minste tverrsnittsareal.

Sluttelig er arealet av.fluidumpassasjene 8 og 46 for-trinnsvis høyst 30% av det areal som opptas av væskeutløps-åpninger henholdsvis 12 og 45.

i

Claims

1. Apparat for behandling av blandinger av væske og gass, omfattende en rørformet vegg (2) som avgrenser et indre rom (3) og et ytre rom (6), en øvre vegg (7) som er anordnet i en viss avstand over rørveggen (2) og som oventil avgrenser det indre såvel som det ytre rom, en innløpsinnretning (9) for tilførsel av en blanding av en væske og en gass til det indre rom (3), en hvirvelstrømfrembringende innretning (11) inne i det indre rom for å bibringe blandingen av væske og gass en roterende bevegelse for å skille væsken og gassen fra hverandre, utløpsinnretninger (12,13,15) for separat uttagning av væsken og gassen fra det indre rom, hvilke utløpsinnretninger omfatter (a) et primært gassutløpsrør (13), som er anordnet coaksialt med det indre rom (3), som fører gjennom den øvre vegg (7) og som har sin nedre ende (14) anordnet inne i det indre rom, under den øvre ende (15) av den rørformede vegg (2), og (b) minst én utløpsåpning (12) for væske, anordnet i den rørformede vegg, karakterisert ved at det ytterligere omfatter minst ett sekundært gassutløpsrør (16) for uttagning av gass fra det ytre rom (6), hvilket sekundære gassutløpsrør passerer gjennom den øvre vegg (7) og har sin nedre ende anordnet inne i det ytre rom.

2. Apparat ifølge krav 1, karakterisert ved at den nedre ende av det sekundære gassutløpsrør (16) er anordnet under den øvre ende (15) av den rørformede vegg (2).

3. Apparat ifølge krav 1 eller 2, karakterisert ved at det ytre rom (70) er i det minste delvis avgrenset i sideretningen ved hjelp av en skjerm (72) .

4. Apparat ifølge krav 3, karakterisert ved at skjermen (72) danner en omhyllende vegg som er forbundet med den øvre vegg (65).

5. Apparat ifølge krav 4, karakterisert ved at den nedre ende av skjermen (72) er anordnet under den nedre ende av utløpsåp-ningen (67) for væske.

6. Apparat ifølge krav 1-5, karakterisert ved at den nedre ende (14) av det primære gassutløpsrør (13) strekker seg lenger ned enn den øvre ende av utløpsåpningen(e) (12) for væske.

7. Apparat ifølge krav 1-6, karakterisert ved at det omfatter flere, i hovedsakelig lik avstand fra hverandre anordnede sekundære gassutløpsrør (16).

8. Apparat ifølge krav 1-7, karakterisert ved at tverrsnittarealet av det eller de sekundære gassutløpsrør (16) er minst 6% av tverrsnittsarealet av det primære gassutløpsrør (13).

9. Anvendelse av et flertall apparater ifølge krav 1—8, innsatt i én eller flere bunner i en kolonne for behandling av blandinger av væske og gass.