NO146165B - Anvendelse av en loesningsmiddelblanding for rengjoering av loddede elektroniske komponenter - Google Patents
Anvendelse av en loesningsmiddelblanding for rengjoering av loddede elektroniske komponenter Download PDFInfo
- Publication number
- NO146165B NO146165B NO1813/73A NO181373A NO146165B NO 146165 B NO146165 B NO 146165B NO 1813/73 A NO1813/73 A NO 1813/73A NO 181373 A NO181373 A NO 181373A NO 146165 B NO146165 B NO 146165B
- Authority
- NO
- Norway
- Prior art keywords
- methyl
- perchlorethylene
- weight
- mixture
- electronic components
- Prior art date
Links
- 239000011877 solvent mixture Substances 0.000 title claims description 10
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims description 9
- CYTYCFOTNPOANT-UHFFFAOYSA-N Perchloroethylene Chemical group ClC(Cl)=C(Cl)Cl CYTYCFOTNPOANT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- 229950011008 tetrachloroethylene Drugs 0.000 claims description 21
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 238000009835 boiling Methods 0.000 claims description 10
- UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloroethane Chemical compound CC(Cl)(Cl)Cl UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical group ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N trichloroethylene Natural products ClCC(Cl)Cl UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 2
- 150000008280 chlorinated hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 claims 1
- 239000003344 environmental pollutant Substances 0.000 claims 1
- 231100000719 pollutant Toxicity 0.000 claims 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 29
- AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N N-Pentanol Chemical compound CCCCCO AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 13
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 11
- MSXVEPNJUHWQHW-UHFFFAOYSA-N 2-methylbutan-2-ol Chemical compound CCC(C)(C)O MSXVEPNJUHWQHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N butan-2-ol Chemical compound CCC(C)O BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- HNVRRHSXBLFLIG-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxy-3-methylbut-1-ene Chemical compound CC(C)(O)C=C HNVRRHSXBLFLIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- AQIXEPGDORPWBJ-UHFFFAOYSA-N pentan-3-ol Chemical compound CCC(O)CC AQIXEPGDORPWBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 5
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 5
- FRDAATYAJDYRNW-UHFFFAOYSA-N 3-methyl-3-pentanol Chemical compound CCC(C)(O)CC FRDAATYAJDYRNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- JYVLIDXNZAXMDK-UHFFFAOYSA-N pentan-2-ol Chemical compound CCCC(C)O JYVLIDXNZAXMDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 4
- BZAZNULYLRVMSW-UHFFFAOYSA-N 2-Methyl-2-buten-3-ol Natural products CC(C)=C(C)O BZAZNULYLRVMSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CEBKHWWANWSNTI-UHFFFAOYSA-N 2-methylbut-3-yn-2-ol Chemical compound CC(C)(O)C#C CEBKHWWANWSNTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N isobutanol Chemical compound CC(C)CO ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KPSSIOMAKSHJJG-UHFFFAOYSA-N neopentyl alcohol Chemical compound CC(C)(C)CO KPSSIOMAKSHJJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 3
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 3
- TZYRSLHNPKPEFV-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-1-butanol Chemical compound CCC(CC)CO TZYRSLHNPKPEFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PFNHSEQQEPMLNI-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-pentanol Chemical compound CCCC(C)CO PFNHSEQQEPMLNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WVYWICLMDOOCFB-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-2-pentanol Chemical compound CC(C)CC(C)O WVYWICLMDOOCFB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010533 azeotropic distillation Methods 0.000 description 2
- 230000001680 brushing effect Effects 0.000 description 2
- XCIXKGXIYUWCLL-UHFFFAOYSA-N cyclopentanol Chemical compound OC1CCCC1 XCIXKGXIYUWCLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 2
- 230000009931 harmful effect Effects 0.000 description 2
- ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N hexan-1-ol Chemical compound CCCCCCO ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- BOSAWIQFTJIYIS-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloro-2,2,2-trifluoroethane Chemical compound FC(F)(F)C(Cl)(Cl)Cl BOSAWIQFTJIYIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QPRQEDXDYOZYLA-UHFFFAOYSA-N 2-methylbutan-1-ol Chemical compound CCC(C)CO QPRQEDXDYOZYLA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N Abietic-Saeure Natural products C12CCC(C(C)C)=CC2=CCC2C1(C)CCCC2(C)C(O)=O RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N Rosin Natural products O(C/C=C/c1ccccc1)[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](CO)O1 KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N 0.000 description 1
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N cyclohexanol Chemical compound OC1CCCCC1 HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- UFLHIIWVXFIJGU-UHFFFAOYSA-N hex-3-en-1-ol Chemical compound CCC=CCCO UFLHIIWVXFIJGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011086 high cleaning Methods 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- PHTQWCKDNZKARW-UHFFFAOYSA-N isoamylol Chemical compound CC(C)CCO PHTQWCKDNZKARW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N trans-cinnamyl beta-D-glucopyranoside Natural products OC1C(O)C(O)C(CO)OC1OCC=CC1=CC=CC=C1 KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
- C11D7/50—Solvents
- C11D7/5036—Azeotropic mixtures containing halogenated solvents
- C11D7/5068—Mixtures of halogenated and non-halogenated solvents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23G—CLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
- C23G5/00—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents
- C23G5/02—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents
- C23G5/028—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents containing halogenated hydrocarbons
- C23G5/02806—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents containing halogenated hydrocarbons containing only chlorine as halogen atom
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/22—Secondary treatment of printed circuits
- H05K3/26—Cleaning or polishing of the conductive pattern
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/07—Treatments involving liquids, e.g. plating, rinsing
- H05K2203/0779—Treatments involving liquids, e.g. plating, rinsing characterised by the specific liquids involved
- H05K2203/0783—Using solvent, e.g. for cleaning; Regulating solvent content of pastes or coatings for adjusting the viscosity
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Detergent Compositions (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Description
Foreliggende oppfinnelse angår anvendelse av en løsnings-middelblanding ved rengjøring av elektroniske komponenter, f.eks. plater med trykte kretser. En trykt kretsplate består av et brett eller en kartong som er påført en elektrisk krets ved hjelp av trykke- og etseteknikk. Forskjellige elektroniske komponenter monteres så på platen og forbindes med kretsen ved lodding. Slike elektroniske komponenter kan for eksempel være transistorer og kondensatorer. Lodding av kretsplatene utfø-
res ofte i et loddeapparat. Platene bringes først til å passe-re en anordning for påføring av loddepasta på platene. Lodde-pastaens oppgave er å fjerne oksyder fra den overflate som skal loddes. Loddepastaen består ofte av treharpiks (kolofonium).
Den påføres fortrinnsvis i flytende form ved for eksempel å
bli sprøytet på platen.
Når loddepastaen er påført, bringes den trykte kretsplate
i kontakt med et bad av smeltet loddemetall. Etter loddeopera-sjonen må platen vanligvis rengjøres for fjerning av loddepastaen og andre forurensninger. Dette er nødvendig av flere grun-ner. Elektroniske komponenter produserer under bruk varme som kan øke deres temperatur til mer enn 60°C. Loddepastaen kan bli elektrisk ledende ved denne forhøyede temperatur, hvilket kan resultere i uønskede krypestrømmer. Hvis'loddepastaen in-neholder halogener, kan krypestrømmer opptre ved romtemperatur.
En annen grunn til at rengjøring er nødvendig, er at det vanligvis er ønskelig å påføre en plastfilm på den trykte krets-plate. Loddepasta, selv i små mengder, gjør det vanskelig eller umulig å påføre nevnte plast på den trykte kretsplate på grunn av at loddepastaen hindrer adhesjon av plasten til over-flaten av platen.
En annen grunn er at utilstrekkelig rengjorte elektronis-
ke komponenter blir klebrige og derfor vanskelig å håndtere samtidig som deres utseende forringes.
Det er kjent at trykte kretsplater kan rengjøres med forskjellige løsningsmiddelblandinger, slik som en blanding av etanol og metylkloroform eller en blanding av isopropanol og triklortrifluoretan. Bruken av slike blandinger har forårsaket visse ulemper, slik som dårlig rengjøringseffekt, skadelig på-virkning på de elektroniske komponenter eller brannfare på grunn av at blandingene er brennbare.
I henhold til foreliggende oppfinnelse anvendes for ren-gjøring av loddede elektroniske komponenter en løsningsmiddel-blanding som består av minst én alkohol inneholdende 4-6 karbonatomer i molekylet, i en mengde av 3-50 vekt%, og et klorert hydrokarbon valgt blant perkloretylen, trikloretylen og metylkloroform, i en mengde av 50-97 vekt%. Med den nevnte løs-ningsmiddelblanding fjernes således loddepasta og andre forurensninger.
Alkoholen som inngår i løsningsmiddelblandingen kan ha alifatisk eller cyklisk karakter. Det er funnet at pentanol er en spesielt brukbar alkohol for dette formål, spesielt når den brukes i kombinasjon med perkloretylen. Det foretrekkes å bruke en blanding inneholdende 10-20 vekt% metanol og 80-90 vekt% perkloretylen. Denne blanding er ikke brennbar, den har et lavt damptrykk som resulterer i lite tap av løsnings-middel ved fordampning, og den kan lett gjenvinnes ved azeotrop destillasjon. Blant pentanol-isomerene foretrekkes det å bruke 1-pentanol.
Det foretrekkes å bruke blandinger inneholdende perkloretylen på-grunn av at slike blandinger synes å ha minst skadelig virkning på de elektroniske komponenter. Slike komponenter er vanligvis belagt med en plastfilm og er vanligvis merket med maling av forskjellige kulører. Blandinger inneholdende perkloretylen kombinerer et lavt angrep på slike plast-filmer og merker med en høy rengjøringseffekt overfor lodde-pastaer og andre forurensninger. I blandinger basert på perkloretylen foretrekkes det å bruke alkoholer som har et kokepunkt på 115-150°C. Et foretrukket innhold av slike alkoholer er 5-32 vekt%. Alkoholer som foretrekkes brukt i kombinasjon med perkloretylen, er 3-pentanol (kokepunkt 116°C), 1-butanol (k.p. 118°C), 2-pentanol (k.p. 119°C), 3-metyl-l-pentin-3-ol (k.p. 121°C), 3-metyl-3-pentanol (k.p. 122°C), 2-metyl-l-butanol (k.p. 128°C), 3-metyl-l-butanol (k.p. 130°C), 4-metyl-2-pentanol (k.p. 133°C), l-heksen-3-ol (k.p. 134°C), blandede isomere av primær amylalkohol (k.p. 127-139°C), 1-pentanol (k.p. 138°C), 3-etyl-l-pentin-3-ol (k.p. 138°C), cyklopentanol (k.p. 141°C), 2-etyl-1-butanol (k.p. 146°C) og 2-metyl-1-pentanol (k.p. 148°C). Andre brukbare alkoholer for bruk i kombinasjon med perkloretylen er 2-metyl-3-buten-2-ol (k.p. 99°C), 2-butanol (k.p. 99°C), 2-metyl-2-butanol (k.p. 102°C), 2-metyl-3-butin-2-ol (k.p. 104°C), 2-metyl-l-propanol (k.p. 108°C), 2,2-dimetyl-l-propanol (k.p. 114°C), 3-heksen-l-ol (k.p. 156°C), 1-heksanol (k.p. 158°C) og cykloheksanol (k.p.161°C).
I blandinger basert på trikloretylen foretrekkes det å bruke alkoholer som har et kokepunkt på 90-115°C. Et foretrukket innhold av slike alkoholer er 5-20 vekt%. Fore-
trukne alkoholer for bruk i kombinasjon med trikloretylen er 2-metyl-3-buten-2-ol (k.p. 99°C), 2-butanol (k.p. 99°C), 2-metyl-2-butanol (k.p. 102°C), 2-metyl-3-butin-2-ol (k.p. 104°C), 2-metyl-l-propanol (k.p. 108°C), 2,2-dimetyl-l-propanol (k.p. 114°C) og 3-pentanol (k.p. 116°C). Andre brukbare alkoholer for bruk i kombinasjon med trikloretylen er 1-butanol (k.p. 118°C), 2-pentanol (k.p. 119°C), 3-metyl-l-pentin-3-ol (k.p. 121°C) og 3-metyl-3-pentanol (k.p. 122°C).
I blandinger basert på metylkloroform foretrekkes det å bruke alkoholer med et kokepunkt på 82-l07°C. Et foretrukket innhold av slike alkoholer er 5-15 vekt%. Foretrukne alkoholer for bruk i kombinasjon med metylkloroform er 2-metyl-2- propanol (k.p. 83°C), 2-metyl-3-buten-2-ol (k.p. 99°C), 2-butanol (k.p. 99°C), 2-metyl-2-butanol (k.p. 102°C) og 2-metyl-3- butin-2-ol (k.p. 104°C). Andre brukbare alkoholer for bruk i kombinasjon med metylkloroform er 2-metyl-l-propanol (k.p. 108°C), 2,2-dimetyl-l-propanol (k.p. 114°C), 3-pentanol (k.p. 116°C) og 1-butanol (k.p. 118°C).
Eksemplene nedenfor angir noen få spesielt brukbare blandinger. Alle prosenter er vekt%.
Løsn ingsmidde lb landingen som anvendes ifølge oppfinnelsen kan i visse tilfeller frembringe en fullkommen rensevirkning på en trykt krets-plate uten noen som helst mekanisk behandling av platen. Hvis for eksempel den trykte krets-plate er blitt loddet under anvendelse av loddepastaene "Zeva", type ^ 2p' ^ra det tyske firma Zevatron GmbH, kan loddepastaen fjernes ved bare å dyppe platen ved normaltemperatur i en blanding bestående av 13,5 vekt% 1-pentanol og 86,5 vekt% perkloretylen.
I andre tilfeller kan det være ønskelig å forbedre rénse-virkningen ved å behandle platen ved høyere temperatur, eller ved samtidig å utsette platen for en mekanisk behandling slik som børsting. En børsteoperasjon fjerner også uløselige forurensninger. Det foretrekkes derfor å behandle de trykte kretsplater i et apparat hvori platene utsettes for samtidig på-virkning av løsningsmiddel og børster. Temperaturen av løsningsmidlet er fortrinnsvis 20-50°C. Løsningsmidlet føres fortrinnsvis gjennom apparatet i motstrøm til platene. Det brukte løsningsmiddel som forlater apparatet, gjenvinnes fortrinnsvis ved destillasjon, og det således rensede løsningsmiddel mates på ny inn i apparatet. Rensingen av løsningsmidlet ved destillasjon lettes hvis det har en sammensetning så nær lik den azeotrope blanding som mulig. En blanding av 1-pentanol og perkloretylen har en azeotrop sammensetning ved omtrent 15 vekt% 1-pentanol og 85 vekt% perkloretylen, som koker ved 119°C. Det skal imidlertid bemerkes at der skjer et tap av løsningsmiddel i rengjøringsapparatet på grunri av fordampning. Komponenten som har det laveste kokepunkt fordamper lettest. I en blanding av 15 vékt% 1-peritanol og 85 vekt% perkloretylen vil fordampningsforholdet mellom de to komponenter ved en temperatur på 20-50°C være ulikt det azeotrope forhold, hvilket vil resultere i at løsningsmiddelblandingen i apparatet vil bli uttynnet med hensyn på perkloretylen. Derfor bør nytt løsningsmiddel som tilsettes til apparatet for å erstatte tapet ved fordampning ha et forhøyet prosentvis innhold av perkloretylen. Hvis det for eksempel ønskes en blanding inneholdende 85 % perkloretylen i apparatet, bør det nye løsningsmiddel eksempelvis inneholde 90 eller 95 % perkloretylen, avhengig av apparatets utformning.
Tar man i betraktning tapet ved fordampning og den ønskede azeotrope destillasjon, foretrekkes det å gi løsnings-midlet et prosentvis innhold av alkohol som avhenger av alkoholens kokepunkt som illustrert på den medfølgende tegning, hvor figur 1 angår en blanding av en alkohol og perkloretylen, fi-
gur 2 angår en blanding av en alkohol og metylkloroform og figur 3 angår en blanding av en alkohol og trikloretylen. I
hver av figurene angir abscissen kokepunktet for alkoholen i Celsius-grader, og ordinaten angir vekt% alkohol i blandingen. Den foretrukne blanding ligger innenfor det område som angis
av diagrammene. Eksempelvis kan det utledes fra figur 1 at det prosentvise innhold av 1-pentanol (k.p. 138°C) i blanding med perkloretylen er 5-20 vekt%. Det foretrukne prosentvise innhold av cyklopentanol (k.p. 141°C) er 5-18 vekt%. Det foretrukne prosentvise innhold av 4-metyl-2-pentanol (k.p. 133°C)
er 7-24 vekt%. Det foretrukne prosentvise innhold av 2-etyl-l-butanol (k.p. 146°C) er 5-13 vekt%. Det er en spesiell fordel ved oppfinnelsen at de fleste løsningsmiddelblandinger som anvendes, har et høyt flammepunkt, hvilket reduserer brannfare. Alkoholene som har et høyt kokepunkt, frembringer azeotrope blandinger som ikke har noe flammepunkt. Eksempelvis har den azeotrope blanding av 1-pentanol og perkloretylen ikke noe flammepunkt ved noen temperatur opp til blandingens kokepunkt som er 119°C.
Claims (2)
1. Anvendelse av en løsningsmiddelblanding bestående av 3-50 vekt% av minst én alkohol inneholdende 4-6 karbonatomer og 50-97 vekt% av minst ett klorert hydrokarbon valgt blant perkloretylen, trikloretylen og metylkloroform, for rengjøring av loddede elektroniske komponenter for loddepasta og andre forurensninger.
2. Anvendelse som angitt i krav 1, hvor løsningsmiddel-blandingen består av perkloretylen og en alkohol som har kokepunkt på 115-150°C, hvorved prosentinnholdet av alkoholen fal-ler innenfor det område som er angitt i diagrammet i fig. 1.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SE05847/72A SE367847B (no) | 1972-05-03 | 1972-05-03 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
NO146165B true NO146165B (no) | 1982-05-03 |
NO146165C NO146165C (no) | 1982-08-11 |
Family
ID=20267364
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
NO1813/73A NO146165C (no) | 1972-05-03 | 1973-05-02 | Anvendelse av en loesningsmiddelblanding for rengjoering av loddede elektroniske komponenter |
Country Status (10)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5715160B2 (no) |
CH (1) | CH582233A5 (no) |
DE (1) | DE2321880C2 (no) |
DK (1) | DK151234C (no) |
FR (1) | FR2183221B1 (no) |
GB (1) | GB1405692A (no) |
IT (1) | IT1053733B (no) |
NL (1) | NL183559C (no) |
NO (1) | NO146165C (no) |
SE (2) | SE367847B (no) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1442393A (en) * | 1973-02-02 | 1976-07-14 | Ici Ltd | Solvent compositions for cleaning |
US4524011A (en) * | 1982-11-08 | 1985-06-18 | The Dow Chemical Company | Flux removal solvent blend |
JPS6137767U (ja) * | 1984-08-10 | 1986-03-08 | 株式会社 田窪工業所 | 温室のカ−テン装置 |
JP4743111B2 (ja) * | 2006-12-25 | 2011-08-10 | パナソニック電工株式会社 | 埋込型照明器具 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB472342A (en) * | 1935-05-22 | 1937-09-22 | Ici Ltd | Improvements in or relating to the cleaning and degreasing of materials |
NL204775A (no) * | 1955-02-24 | |||
US3000978A (en) * | 1959-11-12 | 1961-09-19 | Pittsburgh Plate Glass Co | Novel composition |
GB1206662A (en) * | 1968-04-16 | 1970-09-30 | Ici Ltd | Solvent composition for cleaning |
DE1958875C3 (de) * | 1969-11-24 | 1978-04-13 | Licentia Patent-Verwaltungs-Gmbh, 6000 Frankfurt | Waschflüssigkeit zur Reinigung der Oberfläche gedruckter Schaltungen |
-
1972
- 1972-05-03 SE SE05847/72A patent/SE367847B/xx unknown
-
1973
- 1973-04-30 DE DE2321880A patent/DE2321880C2/de not_active Expired
- 1973-05-01 GB GB2069273A patent/GB1405692A/en not_active Expired
- 1973-05-02 DK DK239673A patent/DK151234C/da not_active IP Right Cessation
- 1973-05-02 NL NLAANVRAGE7306119,A patent/NL183559C/xx not_active IP Right Cessation
- 1973-05-02 NO NO1813/73A patent/NO146165C/no unknown
- 1973-05-02 JP JP4860573A patent/JPS5715160B2/ja not_active Expired
- 1973-05-03 FR FR7315903A patent/FR2183221B1/fr not_active Expired
- 1973-05-03 CH CH630773A patent/CH582233A5/xx not_active IP Right Cessation
- 1973-05-29 IT IT7324772A patent/IT1053733B/it active
- 1973-07-23 SE SE7310240A patent/SE414408B/xx unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FR2183221B1 (no) | 1977-12-30 |
IT1053733B (it) | 1981-10-10 |
GB1405692A (en) | 1975-09-10 |
SE414408B (sv) | 1980-07-28 |
FR2183221A1 (no) | 1973-12-14 |
NO146165C (no) | 1982-08-11 |
JPS49115983A (no) | 1974-11-06 |
SE367847B (no) | 1974-06-10 |
CH582233A5 (no) | 1976-11-30 |
DE2321880A1 (de) | 1973-11-15 |
NL183559C (nl) | 1988-11-16 |
DK151234B (da) | 1987-11-16 |
DE2321880C2 (de) | 1983-06-01 |
DK151234C (da) | 1988-07-18 |
JPS5715160B2 (no) | 1982-03-29 |
NL183559B (nl) | 1988-06-16 |
NL7306119A (no) | 1973-11-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US2999817A (en) | Azeotropic composition | |
US2999815A (en) | Azeotropic composition | |
US5464557A (en) | Compositions for cleaning articles with 2-ethylhexanol and p-cymene | |
AU601927B2 (en) | An azeotrope or azeotrope-like composition of trichlorotrifluoroethane, methanol and 1, 2-dichloroethylene | |
US5445757A (en) | Compositions comprising pentafluorobutane and use of these compositions | |
DE2133852A1 (de) | Lösungsmittelzusammensetzungen | |
EP0450855A2 (en) | Solvent cleaning of articles | |
AU608405B2 (en) | Azeotropic compositions of 1,1-dichloro-1-fluoroethane and methanol/ethanol | |
US4055507A (en) | Methylpentane/CClF2 CH2 Cl azeotropic mixtures | |
US3671444A (en) | Azeotropic composition | |
JP2812369B2 (ja) | 新規の共沸型溶剤混合物およびこれを使用した電子部品の洗浄方法 | |
US3455835A (en) | Azeotropic composition | |
JPH02150499A (ja) | 安定化した共沸若しくは共沸様組成物 | |
NO146165B (no) | Anvendelse av en loesningsmiddelblanding for rengjoering av loddede elektroniske komponenter | |
US3607767A (en) | Azeothropic composition of 1,1,2-trifluoroethane,methylene chloride,and cyclopentane | |
US3733218A (en) | Removal of solder flux with azeotropic solvent mixtures | |
JPH03181431A (ja) | 2,3―ジクロロ―1,1,1,3,3―ペンタフルオロプロパン及びメタノールの二成分共沸組成物 | |
US4045366A (en) | Azeotrope-like compositions of trichlorotrifluoroethane, nitromethane and acetone | |
US3737389A (en) | Azeotropic composition | |
US4052328A (en) | Azeotrope-like compositions of trichlorotrifluoroethane, ethanol, isopropanol and nitromethane | |
AU657500B2 (en) | Composition containing c7-c10 organic polar compound, and method of cleaning articles using the same | |
EP0475596B1 (en) | Methods for cleaning articles | |
JPH02500036A (ja) | トリクロロトリフルオロエタン、メタノール、ニトロメタン、アセトンおよび酢酸メチルの共沸混合物様組成物 | |
GB1574211A (en) | Azeotropic compositions containing trichlorotrifluoroethane | |
EP0389133A1 (en) | Azeotropic composition of 2,2-dichloro-1,1,1-trifluoroethane and methanol |