NO127832B - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- NO127832B NO127832B NO49268A NO49268A NO127832B NO 127832 B NO127832 B NO 127832B NO 49268 A NO49268 A NO 49268A NO 49268 A NO49268 A NO 49268A NO 127832 B NO127832 B NO 127832B
- Authority
- NO
- Norway
- Prior art keywords
- phthalocyanine
- plate
- selenium
- coated
- layer
- Prior art date
Links
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 66
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 61
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 claims description 60
- 239000011669 selenium Substances 0.000 claims description 60
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 53
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 27
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims description 9
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 7
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 7
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 25
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 25
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 24
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 24
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 21
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 20
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 20
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 17
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 15
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 15
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 15
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 15
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 6
- -1 arsenic selenide Chemical class 0.000 description 6
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 6
- QLNFINLXAKOTJB-UHFFFAOYSA-N [As].[Se] Chemical compound [As].[Se] QLNFINLXAKOTJB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 4
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 4
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 4
- 239000006223 plastic coating Substances 0.000 description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 4
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 4
- SXNLZNGQJWKPAM-UHFFFAOYSA-N 2,9,16,23-tetraphenyl-29h,31h-phthalocyanine Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=C(C=2N=C3NC(C4=CC=C(C=C43)C=3C=CC=CC=3)=NC=3NC([C]4C=CC(=CC4=3)C=3C=CC=CC=3)=NC=3N=C([C]4C=CC(=CC4=3)C=3C=CC=CC=3)N=C3N=2)C3=C1 SXNLZNGQJWKPAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 3
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 3
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 3
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 3
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 3
- RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N heliogen blue Chemical compound [Cu].[N-]1C2=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=NC([N-]1)=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=N2 RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 3
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 3
- PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N tellurium atom Chemical compound [Te] PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 3
- ZSLUVFAKFWKJRC-IGMARMGPSA-N 232Th Chemical compound [232Th] ZSLUVFAKFWKJRC-IGMARMGPSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 2
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N Furan Chemical compound C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 2
- NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N Piperidine Chemical compound C1CCNCC1 NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001370 Se alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052776 Thorium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052775 Thulium Inorganic materials 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052770 Uranium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052769 Ytterbium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000013019 agitation Methods 0.000 description 2
- MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N anthracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C21 MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 2
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001317 arsoryl group Chemical group *[As](*)(*)=O 0.000 description 2
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 2
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 description 2
- ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N beryllium atom Chemical compound [Be] ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 2
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 2
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 2
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 2
- LKKPNUDVOYAOBB-UHFFFAOYSA-N naphthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC4=CC=CC=C4C=C3C(N=C3C4=CC5=CC=CC=C5C=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=C2C(C=CC=C2)=C2)C2=C1N=C1C2=CC3=CC=CC=C3C=C2C4=N1 LKKPNUDVOYAOBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N neodymium atom Chemical compound [Nd] QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 2
- SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N osmium atom Chemical compound [Os] SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011505 plaster Substances 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- JFALSRSLKYAFGM-UHFFFAOYSA-N uranium(0) Chemical compound [U] JFALSRSLKYAFGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 2
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium atom Chemical compound [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NAWDYIZEMPQZHO-UHFFFAOYSA-N ytterbium Chemical compound [Yb] NAWDYIZEMPQZHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YLGQLQSDQXOIBI-UHFFFAOYSA-N (29h,31h-phthalocyaninato(2-)-n29,n30,n31,n32)platinum Chemical compound [Pt+2].[N-]1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)[N-]3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 YLGQLQSDQXOIBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VLDPXPPHXDGHEW-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-2-dichlorophosphoryloxybenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1OP(Cl)(Cl)=O VLDPXPPHXDGHEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KUBDPQJOLOUJRM-UHFFFAOYSA-N 2-(chloromethyl)oxirane;4-[2-(4-hydroxyphenyl)propan-2-yl]phenol Chemical compound ClCC1CO1.C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 KUBDPQJOLOUJRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- 101710178035 Chorismate synthase 2 Proteins 0.000 description 1
- 101710152694 Cysteine synthase 2 Proteins 0.000 description 1
- YZCKVEUIGOORGS-OUBTZVSYSA-N Deuterium Chemical compound [2H] YZCKVEUIGOORGS-OUBTZVSYSA-N 0.000 description 1
- RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N Diethylenetriamine Chemical compound NCCNCCN RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052692 Dysprosium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052691 Erbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052693 Europium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052688 Gadolinium Inorganic materials 0.000 description 1
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052689 Holmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052765 Lutetium Inorganic materials 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002292 Nylon 6 Polymers 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000538 Poly[(phenyl isocyanate)-co-formaldehyde] Polymers 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000297 Rayon Polymers 0.000 description 1
- 229910052772 Samarium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005864 Sulphur Substances 0.000 description 1
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 1
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 1
- 150000003973 alkyl amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 description 1
- HUVXQFBFIFIDDU-UHFFFAOYSA-N aluminum phthalocyanine Chemical compound [Al+3].C12=CC=CC=C2C(N=C2[N-]C(C3=CC=CC=C32)=N2)=NC1=NC([C]1C=CC=CC1=1)=NC=1N=C1[C]3C=CC=CC3=C2[N-]1 HUVXQFBFIFIDDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003180 amino resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004760 aramid Substances 0.000 description 1
- 229920003235 aromatic polyamide Polymers 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- WDEQGLDWZMIMJM-UHFFFAOYSA-N benzyl 4-hydroxy-2-(hydroxymethyl)pyrrolidine-1-carboxylate Chemical compound OCC1CC(O)CN1C(=O)OCC1=CC=CC=C1 WDEQGLDWZMIMJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229940106691 bisphenol a Drugs 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- UHYPYGJEEGLRJD-UHFFFAOYSA-N cadmium(2+);selenium(2-) Chemical compound [Se-2].[Cd+2] UHYPYGJEEGLRJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007942 carboxylates Chemical class 0.000 description 1
- GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce] GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- MPMSMUBQXQALQI-UHFFFAOYSA-N cobalt phthalocyanine Chemical compound [Co+2].C12=CC=CC=C2C(N=C2[N-]C(C3=CC=CC=C32)=N2)=NC1=NC([C]1C=CC=CC1=1)=NC=1N=C1[C]3C=CC=CC3=C2[N-]1 MPMSMUBQXQALQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 1
- 230000001143 conditioned effect Effects 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- PGWFQHBXMJMAPN-UHFFFAOYSA-N ctk4b5078 Chemical compound [Cd].OS(=O)(=O)[Se]S(O)(=O)=O PGWFQHBXMJMAPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052805 deuterium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 1
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- KBQHZAAAGSGFKK-UHFFFAOYSA-N dysprosium atom Chemical compound [Dy] KBQHZAAAGSGFKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 1
- UYAHIZSMUZPPFV-UHFFFAOYSA-N erbium Chemical compound [Er] UYAHIZSMUZPPFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OGPBJKLSAFTDLK-UHFFFAOYSA-N europium atom Chemical compound [Eu] OGPBJKLSAFTDLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- IVJISJACKSSFGE-UHFFFAOYSA-N formaldehyde;1,3,5-triazine-2,4,6-triamine Chemical compound O=C.NC1=NC(N)=NC(N)=N1 IVJISJACKSSFGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLGWESQGEUXWJQ-UHFFFAOYSA-N formaldehyde;phenol Chemical compound O=C.OC1=CC=CC=C1 SLGWESQGEUXWJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIWYJDYFSGRHKR-UHFFFAOYSA-N gadolinium atom Chemical compound [Gd] UIWYJDYFSGRHKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007429 general method Methods 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PQAXGPJSVFSKAI-UHFFFAOYSA-N hexadecachlorophthalocyanine Chemical compound C12=C(Cl)C(Cl)=C(Cl)C(Cl)=C2C(N=C2NC(C3=C(Cl)C(Cl)=C(Cl)C(Cl)=C32)=N2)=NC1=NC([C]1C(Cl)=C(Cl)C(Cl)=C(Cl)C1=1)=NC=1N=C1[C]3C(Cl)=C(Cl)C(Cl)=C(Cl)C3=C2N1 PQAXGPJSVFSKAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJZYNXUDTRRSPN-UHFFFAOYSA-N holmium atom Chemical compound [Ho] KJZYNXUDTRRSPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000904 isoindolyl group Chemical group C=1(NC=C2C=CC=CC12)* 0.000 description 1
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 1
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- OHSVLFRHMCKCQY-UHFFFAOYSA-N lutetium atom Chemical compound [Lu] OHSVLFRHMCKCQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- LBAIJNRSTQHDMR-UHFFFAOYSA-N magnesium phthalocyanine Chemical compound [Mg].C12=CC=CC=C2C(N=C2NC(C3=CC=CC=C32)=N2)=NC1=NC([C]1C=CC=CC1=1)=NC=1N=C1[C]3C=CC=CC3=C2N1 LBAIJNRSTQHDMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 1
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000000386 microscopy Methods 0.000 description 1
- MCTALTNNXRUUBZ-UHFFFAOYSA-N molport-000-691-724 Chemical compound [Pd+2].C12=CC=CC=C2C(N=C2[N-]C(C3=CC=CC=C32)=N2)=NC1=NC([C]1C=CC=CC1=1)=NC=1N=C1[C]3C=CC=CC3=C2[N-]1 MCTALTNNXRUUBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMWJMNRNTMMKBX-UHFFFAOYSA-N nickel rhodium Chemical compound [Ni].[Ni].[Ni].[Rh] ZMWJMNRNTMMKBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 238000010422 painting Methods 0.000 description 1
- 230000002165 photosensitisation Effects 0.000 description 1
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920003227 poly(N-vinyl carbazole) Polymers 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- ODGAOXROABLFNM-UHFFFAOYSA-N polynoxylin Chemical compound O=C.NC(N)=O ODGAOXROABLFNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 239000011527 polyurethane coating Substances 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 230000002035 prolonged effect Effects 0.000 description 1
- 238000007763 reverse roll coating Methods 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KZUNJOHGWZRPMI-UHFFFAOYSA-N samarium atom Chemical compound [Sm] KZUNJOHGWZRPMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- 238000006748 scratching Methods 0.000 description 1
- 230000002393 scratching effect Effects 0.000 description 1
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 description 1
- JACPFCQFVIAGDN-UHFFFAOYSA-M sipc iv Chemical compound [OH-].[Si+4].CN(C)CCC[Si](C)(C)[O-].C=1C=CC=C(C(N=C2[N-]C(C3=CC=CC=C32)=N2)=N3)C=1C3=CC([C]1C=CC=CC1=1)=NC=1N=C1[C]3C=CC=CC3=C2[N-]1 JACPFCQFVIAGDN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 150000000000 tetracarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- FRNOGLGSGLTDKL-UHFFFAOYSA-N thulium atom Chemical compound [Tm] FRNOGLGSGLTDKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 239000013638 trimer Substances 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001959 vinylidene polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000001429 visible spectrum Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/05—Organic bonding materials; Methods for coating a substrate with a photoconductive layer; Inert supplements for use in photoconductive layers
- G03G5/0528—Macromolecular bonding materials
- G03G5/0557—Macromolecular bonding materials obtained otherwise than by reactions only involving carbon-to-carbon unsatured bonds
- G03G5/0582—Polycondensates comprising sulfur atoms in the main chain
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/043—Photoconductive layers characterised by having two or more layers or characterised by their composite structure
- G03G5/0436—Photoconductive layers characterised by having two or more layers or characterised by their composite structure combining organic and inorganic layers
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/05—Organic bonding materials; Methods for coating a substrate with a photoconductive layer; Inert supplements for use in photoconductive layers
- G03G5/0528—Macromolecular bonding materials
- G03G5/0532—Macromolecular bonding materials obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsatured bonds
- G03G5/0535—Polyolefins; Polystyrenes; Waxes
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/05—Organic bonding materials; Methods for coating a substrate with a photoconductive layer; Inert supplements for use in photoconductive layers
- G03G5/0528—Macromolecular bonding materials
- G03G5/0532—Macromolecular bonding materials obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsatured bonds
- G03G5/0539—Halogenated polymers
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/05—Organic bonding materials; Methods for coating a substrate with a photoconductive layer; Inert supplements for use in photoconductive layers
- G03G5/0528—Macromolecular bonding materials
- G03G5/0557—Macromolecular bonding materials obtained otherwise than by reactions only involving carbon-to-carbon unsatured bonds
- G03G5/0567—Other polycondensates comprising oxygen atoms in the main chain; Phenol resins
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/05—Organic bonding materials; Methods for coating a substrate with a photoconductive layer; Inert supplements for use in photoconductive layers
- G03G5/0528—Macromolecular bonding materials
- G03G5/0557—Macromolecular bonding materials obtained otherwise than by reactions only involving carbon-to-carbon unsatured bonds
- G03G5/0571—Polyamides; Polyimides
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/05—Organic bonding materials; Methods for coating a substrate with a photoconductive layer; Inert supplements for use in photoconductive layers
- G03G5/0528—Macromolecular bonding materials
- G03G5/0557—Macromolecular bonding materials obtained otherwise than by reactions only involving carbon-to-carbon unsatured bonds
- G03G5/0575—Other polycondensates comprising nitrogen atoms with or without oxygen atoms in the main chain
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/05—Organic bonding materials; Methods for coating a substrate with a photoconductive layer; Inert supplements for use in photoconductive layers
- G03G5/0528—Macromolecular bonding materials
- G03G5/0557—Macromolecular bonding materials obtained otherwise than by reactions only involving carbon-to-carbon unsatured bonds
- G03G5/0585—Cellulose and derivatives
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/06—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being organic
- G03G5/0664—Dyes
- G03G5/0696—Phthalocyanines
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Description
Xerografisk plate.
Den foreliggende oppfinnelse vedrører en xerografisk plate
som omfatter a) et fotoledende lag som inneholder selen og b).et beskyttende lag som inneholder en isolerende harpiks og et fotoledende materiale som er følsomt overfor rødt lys.
Det er kjent at bilder kan dannes og fremkalles på overflaten av visse fotoledende materialer på elektrostatisk måte.
Den grunnleggende elektrofotografiske prosess som beskrevet i
U.S. patentskrift nr. 2.297.691, omfatter jevn lading av et fotoledende, isolerende lag og etterfølgende eksponering av laget til et lys- og skyggebilde som forbruker ladningen på de partier av laget som er eksponert for lys. Det elektrostatiske, latente bilde dannet på laget svarer til formen av lys- og skyggebildet. Alterna-tivtS.kån 'e-t. latent, elektrostatisk bilde dannes på platen ved lading av platen i form av et bilde. Dette bilde gjøres synlig ved å påføre på billedlaget et findelt fremkallingsmateriale omfattende et fargestoff som kalles en toner og en tonerbærer. Det pulver-formige fremkallingsmaterialet vil bli tiltrukket av de partier av "laget som har i behold en ladning, hvorved dannes et pulverbilde svarende til det latente, elektrostatiske bilde. Dette pulverbilde kan så overføres til papir eller andre mottakerflater. Papiret vil nå bære pulverbildet som deretter kan gjøres permanent ved oppvarming, eller annen egnet festemåte. Ovennevnte generelle fremgangsmåte er også beskrevet i U.S.patenter nr. 2357-809, 2.891.011 og 3.079.3^2.
At de forskjellige fotoledende, isolerende materialene kan brukes ved fremstilling av elektrofotografiske plater, er kjent, Egnete fotoledende, isolerende materialer som antracen, svovel, selen eller blandinger av disse, er beskrevet i U.S. patentskrift 2.297.691. Disse materialene er generelt følsomme i det blå og det nærmestliggende ultrafiolette område og alle med unntakelse av selen har en ytterligere begrensning ved at de er lite foto-følsomme. På grunn av selenets større følsomhet har det vært det mest kommersielt aksepterte materiale for bruk i elektrofotografiske plater. Selv om selenglass i de fleste henseender er det mest foretrukne, så lider det imidlertid av visse alvorlige be-grensninger ved at dets spektralfølsomhet er sterkt begrenset til de ultrafiolette, blå og grønne områdene av spektret. Dessuten er overflaten av selen utsatt for forvitring når det utsettes for varme og visse organiske løsningsmidler. Selenglassoverflaten kan forvitres under dannelse av den uønskete krystallinske formen. Mens selenglassoverflaten er ganske bestandig mot slitasje, vil det etter lengre tids bruk opptre forvitring på grunn av slitasje og overflateskrammer. Mens forsøk har vært gjort for å beskytte selenplatens overflate ved belegning med et tynt lag organisk plastmateriale, så har forsøkene ikke vært bare gunstige, idet disse beleggene har en tendens til å holde på en restladning, det vil si at en belagt plate ikke fullstendig utlades når den treffes av lys, slik at det blir igjen en restladning i bakgrunnsområdene som kan tiltrekke seg en del tonerpartikler under dannelse av et bilde med uønsket sterk bakgrunn. Por å hindre overdreven restladning, må disse beleggene være meget tynne, av størrelsesorden 0,1 mikron, og må ha en middels motstand for å muliggjøre for-tæring av ladningen ved eksponering. Disse materialene lider av kraftig stikkledningsevne og gir følgelig dårlig billedoppløsning ved høy fuktighet. De er også ofte for tynne og myke til å kunne vare under gjentatt bruk. Som følge av disse, økonomiske og kom-mersielle betraktningene har det tidligere vært gjort mange for-søk på å utvikle andre fotoledende, isolerende materialer enn selen og å forbedre selenplatene for bruk i .elektrofotografien.
Forskjellige to-komponentsmaterialer har vært foreslått for bruk i fotoledende, isolerende lag som brukes i elektrofotografiske plater. Eksempelvis er bruken av fotoledende pigmenter dispergert i et egnet bindemiddelmateriale for dannelse av fotoledende, isolerende lag kjent-. Det har dessuten blitt vist at organiske, fotoledende, isolerende fargestoffer og en lang rekke polysykliske forbindelser kan brukes sammen med egnete plastmaterialer Tor dannelse av fotoledende, isolerende lag som er anvendbare i plater av bindemiddelt^pen. Også polymere med iboende fotoledende evne har vært brukt i elektrofotografiske plater, hyppig i kombinasjon med fotofølsomtgjørende fargestoffer eller Lewis-syrer under dannelse av fotoledende, isolerende lag. De tidligere organiske, fotoledende platene av polymer- og bindemiddeltypene er i seg selv meget kostbare å fremstille, er sprø og oppviser dårlig adhesjon til de bærende underlagene. Flere av disse lysledende, isolerende lagene har dårlige.temperaturformendringsegenskaper som gjør dem uønsket i automatiske elektrofotografiske^parater som ofte inneholder kraftige lamper og oppvarmingsinnretninger som har tendens til å varme opp den elektrofotografiske platen.' Generelt-har disse materialene begrenset spektralfølsomhet, idet de bare reagerer på bestråling innenfor et smalt bølgelengdebånd.
Fra U. S.-patentskrift 2. 80~3. 5^1 er det kjent å anbringe et ytterligere lag for en xerografisk plate. Ifølge patentskriftet anvendes det i. det ytterligere lag en blanding-av selen og.tellur. Det anvendes altså ikke organiske -fotoledere.
Formålet med den 'foreliggende oppfinnelse er xerografisk plate som er følsom overfor -hele det synlige spektret," og som har høy' mot-standsevne mot slitasje og avskraping-. Dette oppnås ifølge oppfinnelsen med en plate som kjennetegnes ved at det fotoledende materiale er ftalocyanin og er dispergert i harpiksen i en mengde av 4 15 vektdeler harpiks pr. vektdel fotoledende materiale slik
.at det beskyttende lag kan utlades helt ved lyse^sponering.
Denne platen har generelt tilnærmet pankromatisk spektralfølsomhet siden det selenholdige laget hovedsakelig er følsomt overfor lys i de blå, grønne og ultrafiolette områdene, mens fotolederen i det beskyttende laget hovedsakelig er fdtofølsom i spektrets røde område. Bindemiddelplasten for det beskyttende laget kan velges' slik at den yter'optimal motstand mot slitasje, fuktighet eller løsningsmidler som kan forvitre selenet. Da det beskyttende laget er fotofølsomt og fotoinjiserende er også problemet med restladning som blir igjen på platen "i eksponerte områder, hvilket opptrer ved isolerende plastbelegg, tilnærmet eliminert.-Platen kan ha et ledende underlag som kan omfatte hvilket som helst egnet materiale som har evne til å tjene som bæreflate for en elektrofotografisk plate. Typisk ledende materialer omfatter metaller som aluminium, messing, rustfritt stål, kobber, nikkel og sink,ledende belagt glass som tinnoksyd-, indiumoksyd,-eller aluminiumbelagt glass, liknende belegg på plastunderlag, eller papir gjort ledende ved lnneslutning av et egnet kjemikalium eller kondisjonert i fuktig atmosfære for å sikre nærvær av tilstrekkelig vann i papiret til at det, blir elektrisk ledende.
Hvor det er ønskelig, kan det .fotoledende, isolerende laget formes som et selvbærende ark som har et relativt tykt selenholdig lag. En slik selvbærende elektrofotografisk plate kan så lades ved
■koronautladning på hver side, slik som beskrevet i U.S.-patentskrift 2.885-556. Den selvbærende platen kan så eksponeres og fremkalles på den belagte siden på hvilken som helst vanlig måte.
Det selenholdige laget kan omfatte amorf selen eller hvilken som helst egnet selenlegering eller blandinger av.andre materialer med selen. Typiske selenlegeringer eller selenholdige blandinger omfatter kadmiumselenid, kadmiumsulfoselenid, blandinger av svovel og selen, slik som beskrevet i U.S.-patentskrift 2.297-691, blandinger av arsen'og selen", slik som beskrevet i U. S.-patentskrifter 2.822.300 og 2.803.222,' blandinger av selen <p>g tellur som beskrevet i U.S. patentskrift 2.803-5^1, arsenselenid, tellurselenid,
og blandinger av disse. Det selenholdige laget kan ha hvilken som helst passende tykkelse. Hvor det fotoledende laget skal være selvbærende vil selenlaget bli relativt tykt for å oppnå mekanisk styrke. Hvor det selenholdige lager er belagt på et ledende under-' lag, er det foretrukket at laget har en tykkelse'på fra omkring 5. til omkring 100 mikron for optimal fotofølsomhet og termisk og
mekanisk adhesjon. Hvor det er ønskelig å herde plastbélegget ved en temperatur som ville krystallisere selenglasset, er det foretrukket at det fotoledende laget omfatter en blanding av arsen og selen, for eksempel en blanding av omkring 17 vektsprosentarsen og omkring 83 vektsprosent' selen.- Slike arsen-selenlag er meget mot-standsdyktige mot krystallisasjon og vil muliggjøre herdning av plastbélegget ved relativt høye temperaturer, typisk 100-200°C.
Generelt foretrekkes organiske fotoledere og ladningsover-førende kompleksforbindelser fremfor de uorganiske fotoledere på grunn av lettheten ved belegning og beleggets jevnhet og på grunn av at de bedre kan resykleres i ladnings-eksponerings-sykluser. Av de organiske fotoledende materialene foretrekkes ftalocyaninene på grunn av den høyeste fotofølsomhet og mest foretrukne spektral-følsomhet. Ftalocyaninene er først og fremst følsomme overfor rødt lys og utfyller derfor den blå, grønne og fiolette fotoføl-somheten til selenholdige lag. Belegningslaget kan omfatte hvilken som helst egnet ftalocyanin dispergert i et isolerende bindemiddel. Beta- og "x"-polymorfe former av metallfrie ftalocyaniner er funnet-å gi den høyeste fotofølsomhet sammen med den laveste mørke ut-stråling og er derfor de foretrukne ftalocyaniner for anvendelse i' platene i henhold til foreliggende oppfinnelse. De "x"-polymorfe formene av metallfrie ftalocyaniner er detaljert beskrevet i fransk patentskrift 1.508.173-
Hvilket som helst- ftalocyanin kan brukes for fremstilling av helegningslaget i henhold til oppfinnelsen. Det anvendte ftalocyanin kan ha hvilken som helst passende krystallform. Det kan være substituert eller ikke-substituert både i ringen og de rette kjededelene. Ftalocyaniner er kjent for å eksistere i forskjellige krystallformer. Disse formene er detaljert beskrevet i en bok med tittelen "Phthalocyanine Compounds" av F.H. Moser og A.L. Thomas, utgitt av Reinhold Publishing Company, 1963-utgaven. Hvilket som helst egnet ftalocyanin beskrevet i. denne boken kan brukes i foreliggende oppfinnelseFtalocyaniner som omfattes av foreliggende oppfinnelse, kan beskrives som forbindelser som har fire iso-indolgrupper leddforbundet med fire nitrogenatomer på en slik måte at det dannes en konjugert kjede, hvilken forbindelse har den generelle formelen (CgH^N2)j^R^, hvor R er valgt fra gruppen hydro-gen, deuterium, litium, natrium, kalium, kobber, sølv, beryllium, magnesium, kalsium, sink, kadmium, barium, kvikksølv, aluminium, gallium, iridium, lantan, neodym, samarium, europium, gadolinium, dysprosium, holmium, erbium, tulium, ytterbium, lutesium, titan, tinn, hafnium,, bly, torium, vanadium, antimon, krom, molybden, uran, mangang, jern., kobolt, nikkel rodium, palladium, osmium og" platina, og n er en verdi større en 0 og lik eller mindre enn 2.
Hvilke som helst andre egnete ftalocyaniner som ring-eller alifatisk-substituerte, metalliske og/eller.ikke-metalliske ftalocyaniner kan også brukes hvis de er egnet. Typiske ftalocyaniner omfatter aluminiumftalo.cyanin, aliminiumpolyklorftalo-cyanin, antimonftalocyanin, bariumftalocyanin, berylliumftalo-cyaninj kadmiumheksadecaklorftalocyanin, kadmiumftalocyanin, kalsiumftalocyanin,.ceriumftalocyanin, kromftalocyanin, kobolt-ftalocyanin, koboltklorftalocyanin, kobber-4--ftalocyanin, kobber-4-nitroftalocyanin, kobberftalocyanin, kobberpolyklorftalocyanin, deuteriumftalocyanin, dysprosiumftaæocyanin, erb-iumftalocyanin, europiumftalocyanin, gadoliniumftalocyanin, galliumftalocyanin, germaniumftalocyanin, hafniumftalocyanin, halogen-substituerte ftalocyaniner, holmiumftalocyanin, indiumftalocyanin, jernftalo-cyanin, jernpolyhalogenftalocyanin, lantanftalocyanin, blyftalo-cyanin, blypolyklorftalocyanin, koboltheksafenylftalocyanin, kobberpentafenylftalocyanin, litiumftalocyanin, lutesiumftalo-syanin, magnisiumftalocyanin, manganftalocyanin, molybdenftalo-cyanin, naftalocyanin, neodymftalocyanin, nikkelftalocyanin, nikkelpolyhalogenftalocyanin, osmiumftalocyanin, palladiumftalo-cyanin, palladiumklorftalocyanin, alkoksyftalocyanin, alkylamin-ftalocyanin, alkylmerkaptoftalocyanin, aralkylaminoftalocyanin, aryloksyftalocyanin, arylmerkaptoftalocyanin, kobberftalocyanin-piperidin, sykloalkylaminoftalocyanin, dialkylaminoftalocyanin, diaralkylaminoftalocyanin, disykloalkylaminoftalocyanin, heksa-desahydroftalocyanin, imidometylftalocyanin, 1,2-naftalocyanin, 2,3-naftalocyanin, octaazoftalocyanin, svovelftalocyanin, tetra-azoftalocyanin, tetra-4-acetylaminoftalocyanin, tetra-4-amino-benzoylftalocyanin, tetra-4-aminoftalocyanin, tetraklormetylftalo-cyanin, tetradiazoftalocyanin, tetra-44-dimetyloctaazaftalocyanin, tetra-1) ,5-difenylendioksydftalocyanin, tetra-4 ,5-difenyloctaaza-ftalocyanin, tetra-(6-metylbenzotiazoyl)ftalocyanin, tetra-p-metylfenylaminoftalocyanin, tetrametylftalocyanin, tet.ranafto- . triazolylftalocyanin, tetra-4-naftylftalocyanin, tetre-4-nitro-ftalocyanin- tetra-peri-naftyl.en-4 ,5-octaazaftalocyanin, tetra-2,3-fenylenoksydftalocyanin, tetra-4-fenyloetaazoftalocyanin, tetra-fenylftalocyanin, tetrafenylocyanintetrakarboksylsyre, tetrafe-nylftalocyanintetrabariumkarboksylat, tetrafenylftalocyanintetra-kalsiumkarboksylat, tetrapyridyftalpcyanin, tetra-4-trifluormetyl-merkaptoftalocyanin, platinaftalocyanin, kalimftalocyanin, tetra-4-trifluormetylftalocyanin,4,5-tionaftenoctaazoftalocyanin, rhodium-ftalocyanin, amariumftalocyanin, sølvftalocyanin, silisiumftalo-cyanin, natriumftalocyanin, sulfonert ftalocyanin,toriumftalocy-anin, tuliumftalocyanin, tinnklorftalocyanin, tinnftalocyanin, titanftalocyanin, uranftalocyanin, vanadiumftalocyanin, ytter-biumftalocyaninj sinkklorftalocyanin, sinkftalocyanin. Sammen med eller istedetfor de ovennevnte ftalosyaniner kan hvilken som helst blanding, dimer, trimer, obligomer, polymer,■sampolymer eller blandinger derav av ftalocyaniner brukes.
Ftalocyaninet kan dispergeres i findelt pulverform i bindemiddelmaterialet i hvilket som helst passende forhold av fotoledende materiale til bindemiddel. På en ftalocyaninpigment/tørket-bindemiddelvektbasis strekker det anvendbare området seg fra omkring 1:4 til 1:15. Optimale resultater er oppnådd når forholdene fra omkring 1:6 til omkring 1:12 har vært brukt, og følgelig er dette området det foretrukne. Ftalocyaninpigmentene kan innlemmes i det oppløste eller smeltede bindemiddel på hvilken som, helst
egnet måte, slik som kraftig skjærkraftomrøring, fortrinnsvis under samtidig maiing. Disse metoder omfatter kulemøllemaling,
valsemøllemaling, sandmaling, ultralydomrøring,, hurtigblanding cg hvilken som helst ønsket kombinasjon av disse metodene. I tillegg til å tilsette ftalocyaninpigment til det oppløste eller smeltede bindemiddelmaterialet, kan det også tilsettes og blandes med en tørr eller slamaktig form av bindemiddelmaterialet før det opp-varmes eller løses for å gjøre det filmdannende.
Det beskyttede laget kan ha hvilken som helst passende tykkelse. Utmerkete resultater er oppnådd med tykkelser på opp til omkring 2 mikron. For optimal fotofølsomhet av det totale fotoledende, isolerende laget er det foretrukket at det beskyt--tende laget har en tykkelse på fra omkring 0,5 til 1 mikron.
Bindemiddelmaterialet i belegningslaget kan omfatte hvilken som helst egnet., tilnærmet isolerende, f ilmdannende, organisk plast. Det foretrekkes at bindemidlet har god adhesj-on til selen, og blandinger inneholdende selen samt har en jevn, hard, glans-full overflate som er meget motstandsdyktig mot slitasje.
Typiske filmdannende, isolerende bindemidler omfatter polyole-
finer som polyetylen og polypropylen, vinyl- og vinylidenpolymere som polyvinylklorid, polyvinylkarbazol, polystyren, polyamider sompolycaprolactam, polyestere som polyetylentereftalat; polysul-foner; polykarbonateri cellulosepolymere som viskose, celluloseacetat; fenolplaster som fenolformaldehyd; aminoplaster som mela-minformaldehyd; alkydplaster; alkylplaster; furanplaster og blandinger og kopolymere av disse.
Pigment-bindemiddel-oppløsningsmiddel-oppslemmingen (eller pigment-bindemiddel-smelten) kan påføres det selenholdige laget
på hvilke som helst kjente male- eller belegningsmåter, omfat-
tende sprøyting, flytebelegning, påføring med skraper, elektro-belegning. "Mayer Bar"-trekking, dyppebelegning, reversert rulle-belegning, eller hvilken som helst ønsket kombinasjon av disse metodene. Plasten kan dessuten herdes eller tverrbindes for å
øke hardheten.
Fordelene ved den elektrofotografiske platen i henhold
til foreliggende oppfinnelse vil ytterligere kunne forstås under henvisning til medfølgende tegninger, hvori: Fig. 1 viser sammenliknende fotoutladningskurver for en selen-glassplate med et ftalocyanin-bindemiddelbelegg for rødt og hvitt lys.
Fig. 2 viser spektralfølsomhetskurvene for en selenglass-
plate med et ftalocyanin-bindemiddelbelegg.
Fig. 3 viser sammenliknende fotoutladningskurver for arsen-selenplater med og uten et ftalocyanin-bindemiddelbelegg.
I fig. 1 representerer den vertikale skala elektrostatisk ladning eller spenning på platen i volt. Den horisontale skala representerer tiden i sekunder. I hvert tilfelle eksponeres pla-
ten for en lyskilde etter ladning, og potensial som blir igjen på platens overflate måles kontinuerlig over flere sekunder.
Den første platen består av et aluminiumsunderlag belagt med selenglass. Den andre platen er lik den første, men med et ytterligere belegg av ftalocyaninpartikler dispergert i et bindemiddel. Disse platene er behandlet og prøvet som beskrevet i eksempel 1 nedenfor. Kurven A representerer platen med det ytterligere belegg når den er eksponert for hvitt lys. Kurven B representerer lik eksponering av platen som bare er belagt med selenglass. Som det vil sees har den ytterligere belagte platen høyere følsomhet og lavere restladning etter eksponering. Den påfallende økte følsom-het til plater belagt med et ftalocyaninplastlag for rødt lys er vist ved kurvene C og D. Kurven C representerer' den ytterligere belagte platen eksponert for rødt lys. Kurven D representerer den ikks-belagte selenplaten eksponert for rødt lys. Som det vil sees av disse kurvene, har den ikke-belagte platen ingen følsom-UC u i-J \/ U i, J- O i' i jiJub _L,y'o. L/O tv j 1/ wLi ligjOi'^ tj C! X <J. 0 p _L cl L- t.' 11 i i eti' Cil i 1/>J følsomhet for rødt lys som vist ved kurven C.
Fig. 2 viser en spektralfølsomhetskurve for en plate bestående av selen belagt med ftalocyanin i et bindemiddel. Kurven representerer spektralfølsomheten til en plate i henhold til foreliggende oppfinnelse, det vil si en plate som har et selenlag belagt med et isolerende plastbindemiddel inneholdende et ftalocy-CJ.11_L.14. l>C-llll^ ^ XUl/cll ^ ± 105- - OV-/1U kJtoni C VC U CiVU C IIILJ^ J.
I fig. 2 angir den vertikale akse relativ fotofølsomhet i volt pr. sokund, mens den horiscntalc akse representerer bølge-lengden i Ångstrøm av lys for hvilket platen er eksponert. To plater fremstilles som beskrevet i eksempel I. Den første består
av et selenglass på et aluminiumunderlag, mens den andre er lik den første med unntakelse av at selenglasslaget er belagt med et belegg av ftalosyanin i et plastbindemiddel. Kurvene fremkommer ved ladning av platene til et jevnt potensial, eksponering av platene for monokromatisk lys av forskjellige bølgelengder. Den rela-tive fotofølsomhet til hver plate ved hver av disse bølgelengdene er avsatt på diagrammet og en kurve er trukket som forbinder under-søkelsespunktene.. Som det vil sees fra kurve A, har den belagte platen tilnærmet pankromatisk spektralfølsomhet, det vil si at den er følsom både for rødt og blått- lys. Kurve B representerer spek-tralfølsomheten til den ikke-belagte selenplaten. Som antydet ved kurvene, har selenplaten følsomhet overfor synlig lys bare i de blå og grønne områder av spektret, mens den belagte platen har en ytterligere følsomhet overfor rødt lys. Som kjent, er.ftalocyanin først og fremst følsomt -overfor rødt lys, mens' selenglass hovedsakelig er- følsomt overfor blått og ultrafiolett lys.
Fig. 3 viser sammenliknende fotoutladningskurver for arsen-selenplater både ikke-belagt og belagt med et ftaloeyanin-bindemiddel plastlag eksponert for både rødt og hvitt lys-. Detaljer ved fremstillingen av .disse platene og ved eksponeringen er gitt i eksempel II. Kurvene A og B representerer følsomheten av en ikke-
belagt arsenselenplate eksponert for henholdsvis rødt og hvitt lys,
Som det vil sees fra kurvene, har arsenselenplaten ingen følsomhet overfor rødt lys, men er sterkt følsom overfor hvitt lys. Kurvene C og D representerer følsomheten til en arsen-selenplate belagt med
et ftalocyanin-bindemiddelplastlag etter å ha vært utsatt for henholdsvis rødt og hvitt lys. Som det vil sees av disse kurvene,- har den belagte platen utmerket følsomhet både for rødt og hvitt lys. Restladningen som blir igjen på platen etter eksponering, er be-traktelig lavere ved den belagte platen.
De følgende eksempler illustrerer ytterligere den nye elektrofotografiske platen og fremgangsmåten i henhold til oppfinnelsen. Deler og prosenter er på basis av vekt hvis ikke annet er angitt. Eksemplene er ment å belyse forskjellige foretrukne ut-førelsesformer av platen og fremgangsmåten i henhold til oppfinnelsen .
Eksempel I.
Den xerografiske platen ble fremstilt ved vakuumpådampning
av selenglass på et aluminiumunderlag til en tykkelse av omkring 50 mikron, slik som beskrevet i US-patentskrift 2.970.906. Denne platen ble så delt i to deler.
En belegningsoppløsning ble fremstilt ved å løse ca. 35
deler "Epon-1007" (en epoksyplast), ca. 20 deler "Methylon 75201"
(en fenolplast) og ca. 4 deler "Uformite F-240" (en urea-formalde-hydplast) i en blanding av omkring 30 deler metylisobutylketon og 10 deler metyletylketon. Til denne oppløsningen ble tilsatt fin-
delt alfa-form av metallfri ftalocyanin i forhold ca. 1 del ftalocyanin til ca. 6 deler tørr plast. Denne opplsøningen ble flytebelagt på selenoverflaten av en av platene til en tørr tykkelse på omkring 0,5 mikron. Den belagte platen ble herdet ved ca. 50°C i omkring 48 timer for delvis herding av plasten.
Hver av de to således fremstilte deler ble så la.det elektrostatisk i mørke til et positivt potensial på ca. 800-950 volt ved koronautladning, slik som beskrevet i US-patentskrift 2.588.699. Hver platedel ble så eksponert av hvitt lys, ca. 0,0003 int. lumen
pr. cm , ved hjelp av en wolfram-tråd-lampe. Fotofølsomheten til
hver platedel ble målt ved hjelp av et elektrometer koblet til et
måleinstrument som viste elektrisk ladning med tiden. Fotolad-ningskurvene for disse platedelene er gitt i fig. 1. Kurve A representerer fotoutladningsegenskapene for den belagte platen overfor hvitt lys, mens kurven C representerer fotoutladningsegenskapene for den ikke-belagte selenplaten overfor hvitt lys. Som det vil sees så har den belagte platen meget høyere fotoføl-somhet og lavere restladning etter eksponering.
Hver av disse platedelene ble så ladet påny og eksponert som ovenfor beskrevet, med unntakelse av at i dette tilfelle ble det brukt et "CS 2 63"-sperrefilter som overførte ca. 87 % av det synlige lys ved bølgelengder over 630 millimikron, men mindre enn 1 % under 58O millimikron, og som var plassert mellom lyskilden og platen. Platene ble således bare eksponert av rødt lys. På ny ble fotofølsomheten for hver platedel etter eksponeringen målt.
I fig. 1 representerer kurvene C og D lysfølsomheten til henholdsvis den belagte og den ikke-belagte platen etter eksponering av rødt lys. Som det vil sees av figuren, har den ikke-belagte platen i virkeligheten ingen følsomhet overfor rødt lys, mens den belagte platen har utmerket lysfølsomhet når den eksponeres av rødt lys.
Eksempel II
To plater ble fremstilt som følger:
a) Et lag omfattende ca. 17 vektprosent arsen og ca. 83 vektprosent selen ble utformet på et aluminiumunderlag til en tykkelse
av omkring 50 mikron ved fremgangsmåten beskrevet i US-patentskrift 2.803.542.
b) Et andre lag arsen-selen ble fremstilt som ovenfor og ble belagt med et 0,5 mikrons lag bestående av findelt ftalocyanin
dispergert i en' epoksylfenolplast som beskrevet i eksempel I. Belegget ble herdet her ved 100°C i ca. 3 timer.
Hver av platene ble så tilnærmet jevn elektrostatisk ladet ved koronautladning. Den belagte platen ble ladet til et positivt potensial på omkring 550 volt og den ikke-belagte platen til et positivt potensial på omkring 450 volt. Hver plate ble så eksponert av hvitt lys som hadde en intensitet på 0,0003 int. lumen pr. cm 2. Fotofølsomheten til hver plate ble målt ved hjelp av et elektrometer koblet til et måleinstrument som viste elektrisk ladning med tiden. Fotoutladningskurvene for disse platene er gitt i fig. 3. Som det vil sees av figuren, er den belagte platen meget mer følsom enn den ikke-belagte platen. Hver av de to platene ble så ladet på ny til et positivt potensial og eksponert. I
dette tilfelle traff imidlertid lyset platene gjennom et "CS 2-63" sperrefilter som ovenfor beskrevet. Flatene ble derved bare eksponert av rødt lys. Fotoutladningskurvene fremgår,av fig. 3, og det vil sees at den ikke—oelagtt. p±aten har ingen i^-LoOiTuiet overfor rødt lys, mens den belagte platen har en betydelig fotofølsom-het overfor rødt.
Eksempel III.
En xerografisk plate ble fremstilt som følger:
Et aluminiumunderlag ble belagt ved vakuumpådampning med
ot ca. 60 mikrons selenlag. En epoksyfenoiplastoppløsning ble fren.— stilt som i eksempel I. Til denne oppløsningen ble tilsatt 10
deler findelt alfa-form av metallfri ftalocyanin. Den selenbe-lagte aluminiumplaten ble delt i 5 deler. Den første delen ble ikke belagt. Den andre delen ble belagt med ftalocyaninbelegg-oppløsningen til en tørr plasttykkelse av ca. 0,1 mikron, beregnet ved interferensmikroskopi. Den tredje delen ble belagt med ftalo-cyaninoppløsning til en tørr tykkelse på ca. 0,2 mikron. Den fjerde delen ble belagt med ftalocyaninoppløsningen til en tørr tykkelse på ca. 1 mikron. Dem femte delen ble belagt med ftalocyaninopp-løsningen til en tørr tykkelse på ca. 3 mikron. I hvert tilfelle ble plasten herdet ved omkring 4-0°C i omkring 10 timer. Hver av platene ble ladet elektrostatisk, eksponert for lys og -målt.
Platen som hadde 0,2 mikrons belegg ble funnet å -ha den høyeste fotofølsomhet. Platene med tykkere plastbelegg viste høyere rest-ladninger etter eksponering. Hver plate ble så kontaktet med noen få dråper dietylentriamin. Selenet i de behandlete områdene i den belagte platen ble funnet å ha -krystallisert og til ikke lenger å være i stand til å holde en ladning- En viss krystallisasjon kunne iakttas i de behandlete områder på platen som hadde 0,1 mikrons belegget. Ingen krystallisering fant sted-på platene som hadde tykkere belegg.
Eksempel IV
En xerografisk plate ble fremstilt som følger:
Et aluminiumunderlag ble belagt med et 60 mikrons lag av amorf selen ved vakuumpådampning. En blanding omfattende 6 deler epoksyfenoiplastoppløsning som beskrevet i eksempel I, og 1 del findelt alfa-form av metallfri ftalocyanin ble flytebelagt på selenoverflaten til en tørr plasttykkelse på ca. 0,6 mikron. Plasten ble herdet ved 40°C i 40 timer. Platen ble ladet jevnt til en potensial på ca. 600 volt ved koronautladning. Deretter ble platen eksponert av et sort-hvitt-bilde ved hjelp av en film i et "0mega-D-2"-forstørrelsesapparat. Totaleksponeringen er
2
ca. 0,0005 mt. lumen pr. cm . Det resulterende latente, elektrostatiske bildet ble fremkalt ved kaskadefremkalling med en blanding av bærekuler og tonerpartikler som beskrevet i U.S.-patentskrift 2.618.551. Det fremkom et pulverbilde på platen, hvilket bilde var konformt med originalen. Pulverbildet ble overført til et papirmottakningsark ved fremgangsmåten beskrevet i U.S.-patentskrift 2.576.047. Mottakningsarket ble oppvarmet til tonerpartik-lenes smeltepunkt for å smelte bildet fast til papiret. Det ble oppnådd et utmerket bilde svarende til oroginalen.
Eksempel V.
Et lag omfattende ca. 90% selen og 10% tellur ble vakuum-pådampet på et 0,13 mm messingunderlag til en tykkelse av ca. 70 mikron. Dette laget ble belagt med en blanding omfattende ca. 6 deler av epoksyfenoloppløsningen beskrevet i eksempel I, og ca. 1 del findelt alfa-form av metallfri ftalocyanin. Plasten ble herdet ved 50°C i omkring 30 timer. Belegget hadde en tykkelse på ca. 0,6 mikron. Platen ble ladet, eksponert og fremkalt som i eksempel IV og resulterte i et utmerket bilde av originalen.
Eksempel VI.
En xerografisk plate ble fremstilt ved vakuumpådampning
av et 60 mikrons lag selenglass på et aluminiumunderlag. En belegningsoppløsning ble fremstilt ved å løse 1 del "SR-82" (en silikonplast) i 6 deler xylen. Til denne oppløsningen ble tilsatt 0,1 del av x-formen av metallfri ftalocyanin. Oppløsningen ble belagt på selenoverflaten og herdet ved 40°C i en time. Dette belegget hadde en tørr tykkelse på ca. 1 mikron. Platen ble ladet, eksponert og fremkalt som i eksempel IV, og resulterte i et godt bilde av originalen.
Eksempel VII.
Det ble fremstilt en plate som hadde et lag bestående av 85% selen og 15% arsen samt ca. 1000 deler pr. million jod på et aluminiumunderlag. En belegningsoppløsning ble fremstilt ved å løse 5 deler "Pyre ML-RK-692" (ved 12$ faststoffinnhold) (en aromatisk polyamidplast fremstilt ved å omsette pyromelittisk dianhydrid med et diamin) i 6 deler dimetylformamid. Til denne oppløsningen ble tilsatt 0,1 del "Cyan Green 15-31000" (et klo-rinert kobberftalocyanin). Blandingen ble belagt på den selenholdige flaten til en tørr tykkelse av ca. 0,8 mikron. Platen ble herdet ved 200°C i 3 timer. Den belagte platen ble ladet, eksponert og fremkalt som i eksempel IV og ga et godt bilde svarende til originalen.
Eksempel VIII.
En xerografisk plate bestående av et lag selenglass på aluminiumunderlag ble fremstilt som i eksempel VI. En polyuretan-belegningsoppløsning ble fremstilt ved å omsette 3 deler poly-metylenpolyfenylisocyanat med 2,5 deler bisfenol-A i 80 deler toluen. Til denne oppløsningen ble ca. 1 del av x-formen av metallfri ftalocyanin tilsatt. Blandingen ble belagt på selenoverflaten til en tørr tykkelse av ca. 0,7 mikron. Den belagte platen ble ladet, eksponert og fremkalt som i eksempel IV og ga et godt bilde svarende til originalen.
Eksempel IX.
En xerografisk plate bestående av et selenglasslag.på et aluminiumunderlag ble fremstilt som i eksempel VI. En belegnings-oppløsning ble fremstilt ved å blande 100 deler celluloseacetat (ca. 10$ faststoff i aceton) og 100 deler metyletylketon.. Til denne oppløsningen ble 1 del av x-formen av metallfri ftalocyanin tilsatt. Selenoverflaten ble belagt med denne blandingen til en tørr tykkelse på ca. 0,5 mikron. Den belagte platen ble ladet, eksponert og fremkalt som i eksempel IV og ga et godt bilde svarende til originalen.
Skjønt spesielle komponenter og forhold e-r blitt beskrevet i ovennevnte eksempler, kan andre materialer enn dem som er angitt ovenfor, brukes hvor dette måtte passe og med samme resul-tat. Dessuten kan andre materialer tilsettes til det selenholdige laget og/eller til laget bestående av ftalocyanin og binde-middelplas-t for å synergisere, forbedre eller på annen måte modifisere deres' egenskaper. Eksempelvis kan forskjellige elektrisk- eller spektralfølsomtgjørende midler tilsettes til lagene, Plerlagsplaten i henhold til foreliggende oppfinnelse kan brukes for andre anvendelsesformål som krever fotomottakere med en bred spektralfølsomhet, for eksempel vidikonsystemer.
Claims (3)
1 Xerografisk plate som omfatter a) et fotoledende lag som inneholder selen og b) et beskyttende lag som ligger over det fotoledende lag og som inneholder en isolerende harpiks og et fotoledende materiale som er følsomt overfor rødt, karakterisert ved at det fotoledende materiale er ftalocyanin og er dispergert i harpiksen i en mengde av 4 - 15 vekt - deler harpiks pr. vektdel fotoledende materiale slik at det beskyttende lag kan utlades helt ved lyseksponering.
2. Xerografisk plate i samsvar med krav 1,karakterisert ved at det beskyttende lag har en tykkelse på opp til 2 mikron, fortrinnsvis 0,5 - 1 mikron.
3. Xerografisk plate i samsvar med krav 1, karakterisert ved at ftalocyaninet er et metallfritt ftalocyanin.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US61510867A | 1967-02-10 | 1967-02-10 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
NO127832B true NO127832B (no) | 1973-08-20 |
Family
ID=24464012
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
NO49268A NO127832B (no) | 1967-02-10 | 1968-02-08 |
Country Status (11)
Country | Link |
---|---|
AT (1) | AT283114B (no) |
BE (1) | BE710350A (no) |
CH (1) | CH506813A (no) |
DE (1) | DE1622367B2 (no) |
ES (1) | ES350220A1 (no) |
FR (1) | FR1554290A (no) |
GB (1) | GB1214182A (no) |
LU (1) | LU55412A1 (no) |
NL (1) | NL6801765A (no) |
NO (1) | NO127832B (no) |
SE (1) | SE347365B (no) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4311775A (en) * | 1980-10-06 | 1982-01-19 | Eastman Kodak Company | Novel phthalocyanine pigments and electrophotographic uses thereof |
JPS6373259A (ja) * | 1986-09-16 | 1988-04-02 | Minolta Camera Co Ltd | 感光体 |
-
1968
- 1968-02-05 LU LU55412D patent/LU55412A1/xx unknown
- 1968-02-05 BE BE710350D patent/BE710350A/xx unknown
- 1968-02-06 SE SE151468A patent/SE347365B/xx unknown
- 1968-02-06 DE DE1968R0047952 patent/DE1622367B2/de active Granted
- 1968-02-06 ES ES350220A patent/ES350220A1/es not_active Expired
- 1968-02-08 NO NO49268A patent/NO127832B/no unknown
- 1968-02-08 AT AT122268A patent/AT283114B/de not_active IP Right Cessation
- 1968-02-08 GB GB625568A patent/GB1214182A/en not_active Expired
- 1968-02-08 NL NL6801765A patent/NL6801765A/xx unknown
- 1968-02-09 CH CH195568A patent/CH506813A/de not_active IP Right Cessation
- 1968-02-09 FR FR1554290D patent/FR1554290A/fr not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CH506813A (de) | 1971-04-30 |
ES350220A1 (es) | 1969-05-01 |
AT283114B (de) | 1970-07-27 |
GB1214182A (en) | 1970-12-02 |
SE347365B (no) | 1972-07-31 |
FR1554290A (no) | 1969-01-17 |
BE710350A (no) | 1968-08-05 |
DE1622367B2 (de) | 1976-11-18 |
NL6801765A (no) | 1968-08-12 |
DE1622367A1 (de) | 1971-01-07 |
LU55412A1 (no) | 1969-09-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CA1264978A (en) | Dual layer photoreceptor for use in electrophotography | |
US4665000A (en) | Photoresponsive devices containing aromatic ether hole transport layers | |
JPH05140472A (ja) | 新規なジクロロスズフタロシアニン結晶の製造方法及びその結晶を用いた電子写真感光体 | |
GB2255980A (en) | Hydroxygallium phthocyanine | |
NO158469B (no) | Innretning for gjenfylling av groefter. | |
US5283145A (en) | Crystals of dichlorotin phthalocyanine, method of preparing the crystal, and electrophotographic photoreceptor comprising the crystal | |
EP1172700B1 (en) | Photoconductive imaging members | |
JPH0246467A (ja) | 電子写真に使用するのに好適な感光性記録材料 | |
US6322941B1 (en) | Imaging members | |
US3617265A (en) | Method for preparing a resin overcoated electrophotographic plate | |
US5876887A (en) | Charge generation layers comprising pigment mixtures | |
US4106935A (en) | Xerographic plate having an phthalocyanine pigment interface barrier layer | |
US6645687B1 (en) | Imaging members | |
US4229510A (en) | Photoconductive polymer material of N-alkylphenothiazine and formaldehyde | |
JPH05194523A (ja) | クロロガリウムフタロシアニンの新規な結晶の製造方法及びその結晶を用いた電子写真感光体 | |
CA2004493C (en) | Electrostatographic imaging members | |
NO127832B (no) | ||
EP0470729B1 (en) | Photosensitive materials for electrophotography and method for making the same | |
US3982937A (en) | Electrophotographic recording material | |
US4908289A (en) | Photoreceptor for electrophotography | |
US5496672A (en) | Coating solution for charge generation layer and electrophotographic photoreceptor using same | |
US5055615A (en) | Novel Squarium compounds, a process for preparing them and electrophotographic photoreceptors containing them | |
JP3190175B2 (ja) | 電荷発生層用塗液及びこれを用いた電子写真感光体 | |
JPS60258553A (ja) | 電子写真用感光体 | |
JPS5921021B2 (ja) | 電子写真感光体 |