NO119659B - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
NO119659B
NO119659B NO468968A NO468968A NO119659B NO 119659 B NO119659 B NO 119659B NO 468968 A NO468968 A NO 468968A NO 468968 A NO468968 A NO 468968A NO 119659 B NO119659 B NO 119659B
Authority
NO
Norway
Prior art keywords
electrodes
gas
chamber
emitted
melting point
Prior art date
Application number
NO468968A
Other languages
English (en)
Inventor
J Wurm
M Block
Original Assignee
Euratom
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from CH1750265A external-priority patent/CH456294A/de
Application filed by Euratom filed Critical Euratom
Priority to NO468968A priority Critical patent/NO119659B/no
Publication of NO119659B publication Critical patent/NO119659B/no

Links

Landscapes

  • Chemical Vapour Deposition (AREA)

Description

Innretning til avleiring av tynne
ledende eller halvledende belegg.
Hovedpatentet nr. 116.568 går ut på en fremgangsmåte
som tjener til avleiring av tynne belegg, av ledende eller halv-
ledende materiale på overflaten av materialer som metall, keramikk eller plast, og som i fOrste rekke er karakterisert ved at over-
flaten som skal belegges, anbringes i en gassatmosfære som til sta-
dighet fornyes og holdes på et hovedsakelig konstant trykk av størrelsesordenen 10"^" til 10"? mm Hg, og at denne gass får påtrykket et elektromagnetisk felt med spenning 1500 - 3000 Volt og frekvens 2-30 MHz ved hjelp av påtrykningsorganer som er anbragt i gass-
atmosfæren og utftirt av materialet som skal avleires, eller en av dets bestanddeler, for å ionisere gassen og i det minste delvis om-
danne den til plasma, hvis partikler under virkningen av den be-vegelse som meddeles dem, rammer de nevnte påtrykningsorganer for det høyfrekvente hoyspenningsfelt.
Hovedpatentet gir også anvisning på forskjellige utførelses-former av en innretning som egner seg for gjennemførelse av denne fremgangsmåte. Felles for disse utførelser er at det høyfrekvente høyspente elektromagnetiske felt i gassatmosfæren frembringes ved induksjon ved hjelp av en eller flere selvinduksjonsviklinger.
Imidlertid lar det seg også gjore med gunstig resultat å frem-bringe det ønskede felt ved kapasitiv virkning mellem dertil egnede elektroder, og den foreliggende oppfinnelse går ut på en innretning til dette formål. Nærmere bestemt er denne innretning i første rekke karakterisert ved at den omfatter et belegningskammer med kontinuerlig tilførsel av edelgass gjennem en eller flere ledninger og tilsluttet et vakuumpumpesystem som vedlikeholder et hovedsakelig kon-
-I - Q
stant lavt trykk av 10 til 10 mm Hg i kammeret, og at der i dette er anbragt to elektroder som består av det materiale som skal avleires, og er innrettet til å påtrykke gassatmosfæren i kammeret et elektromagnetisk felt med høy spenning og høy frekvens for å ionisere gassen, samtidig som gasstilførselsledningene munner ut enten i midten av den ene eller begge elektroder eller fra siden i rommet mellem /dem.
På tilsvarende måte som selvinduksjonsviklingene ved innretningen ifølge hovedpatentet kan også disse kåpasitivt virkende elektroder ha innvendig kjøling med et sirkulerende varmetransporterende fluidum, og i tilfellet av at materialet som skal avgis, har for lavt smeltepunkt, kan elektrodene på tilsvarende måte som selvinduksjonsviklingene ved innretningen ifølge hovedpatentet dannes av en leder med høyt smeltepunkt dekket med materialet som skal avgis.
Fråsett den nye utførelse av de organer som anvendes til på-trykning av hoyf rekvensfeltet^ og den tilsvarende avpassede form for gasstilførsel kan belegningskammerets utformning og innretningens disposisjon forøvrig og likeledes driftsmåter og anvendelser være som belyst i hovedpatentets fremstilling med tegning. De medfølgende tegninger, som tjener til å anskueliggjøre utførelaesformer av innretningen ifølge den foreliggende oppfinnelse, viser derfor ikke andre detaljer enn dem som har sammenheng med de nye trekk.
Således viser fig. 1 to sylindriske elektroder 11 og 12, som
kan være utført av eller dekket med det materiale som skal avgis, og som er anbragt med aksene på linje, og hvorav den ene 12 er utformet med en aksial kanal til innføring av ioniserende gass.
Ved utførelsen ifølge fig. 2 er to plane elektroder' 13 og 14 anbragt parallelt rett overfor hverandre og aksialt på linje, og med gasstilfOrsel sentralt gjennem den ene.
Fig. 3 viser som alternativ til dette en gasstilførsel (ved 6) med særskilt utløp fra siden ved omkretsen av området mellem et par lignende elektroder og midt mellem disse.
På fig. 4 er gasstilførselen vist anordnet på tilsvarende måte som på fig. 3, mens elektrodene 15 og 16 er utført av tråd viklet til planspiral.
Alle disse utformninger i samsvar med oppfinnelsen arbeider, som det vil forstås, vesentlig'med kapasitiv virkning. Det bor be-merkes at bare elektroden med gasstilførsel varmes opp.

Claims (2)

1«~"" Innretning til utførelse av en fremgangsmåte som angitt i patent nr.116.568j karakterisert ved at den omfatter et belegningskammer med kontinuerlig tilførsel av edelgass gjennem en eller flere ledninger og tilsluttet et vakuumpumpesystem som vedlikeholder et hovedsakelig konstant lavt trykk av 10 -1 til 10 J mm Hg i kammeret, og at der i dette er anbragt to elektroder som hestår av det materiale som skal avleires, og er innrettet til å påtrykke gassatmosfæren i kammeret et elektromagnetisk felt med høy spenning og høy frekvens for å ionisere gassen, samtidig som gasstilførselsledningene munner ut i midten av den ene eller begge elektroder eller fra siden i rommet mellem dem.
2. Innretning som angitt i krav 1, karakterisert
ved at elektrodene har innvendig kjøling med et sirkulerende varmetransporterende fluidum.
3» Innretning som angitt i krav 1 eller 2, karakterisert ved at elektrodene i tilfellet av at materialet som skal avgis, har for lavt smeltepunkt, dannes av en leder med høyt smeltepunkt dekket med materialet som skal avgis.
NO468968A 1965-12-17 1968-11-25 NO119659B (no)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NO468968A NO119659B (no) 1965-12-17 1968-11-25

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
BE21744 1965-12-17
CH1750265A CH456294A (de) 1965-12-17 1965-12-18 Anordnung zur Zerstäubung von Stoffen mittels einer elektrischen Niederspannungsentladung
NO164352A NO116568B (no) 1965-12-17 1966-08-18
NO468968A NO119659B (no) 1965-12-17 1968-11-25
DE19742459030 DE2459030B2 (de) 1965-12-17 1974-12-13 Sicherheitsverschluss fuer behaelter

Publications (1)

Publication Number Publication Date
NO119659B true NO119659B (no) 1970-06-15

Family

ID=27507512

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NO468968A NO119659B (no) 1965-12-17 1968-11-25

Country Status (1)

Country Link
NO (1) NO119659B (no)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN107231818B (zh) 一种基于虚拟阴极沉积(vcd)的薄膜制造工艺
NO120815B (no)
SE450539B (sv) Plasmabagapparat for paleggning av overdrag
SE310938B (no)
US3536602A (en) Glow inhibiting method for glow discharge apparatus
NO119659B (no)
US2308884A (en) High voltage generator
GB766459A (en) Improvements in or relating to high-vacuum coating devices
US2936390A (en) Magnetic blowout switch
US5012195A (en) Method for improving the electrical strength of vapor-mist dielectrics
GB1100198A (en) Improvements in or relating to cathodic sputtering
US2715186A (en) Isotope separating apparatus
RU2650650C1 (ru) Способ циркуляционного ионного азотирования изделий из металла и устройство для его осуществления
RU2692594C2 (ru) Ионный ракетный двигатель
DE19727882A1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Erzeugung hochangeregter Plasmen mittels gepulster Funkenentladung
US2724057A (en) Ionic centrifuge
RU2037559C1 (ru) Способ нанесения покрытий на изделия методом ионного распыления и устройство для его осуществления
DE1270354C2 (de) Verfahren zum vakuumaufdampfen von schichten auf elektrisch isolierende unterlagen aus glas, keramik o.dgl. durch elektronenbeschuss
US2712074A (en) Electrical control circuit
SU1116968A1 (ru) Способ получени цилиндрической плазменной оболочки
SU1447196A2 (ru) Многоканальный анализатор атомных частиц
GB728172A (en) Mass spectrometer
RU2104313C1 (ru) Способ обработки поверхности металлической заготовки дуговым разрядом в вакууме и устройство для его осуществления
GB797713A (en) Electrostatic strip-oiling method and apparatus
SU134832A1 (ru) Вакуум-установка дл металлизации изделий