NL8802115A - Werkwijze voor het bereiden van silica en koolstof houdende mengsels en de toepassing ervan in de bereiding van silicium houdende materialen. - Google Patents
Werkwijze voor het bereiden van silica en koolstof houdende mengsels en de toepassing ervan in de bereiding van silicium houdende materialen. Download PDFInfo
- Publication number
- NL8802115A NL8802115A NL8802115A NL8802115A NL8802115A NL 8802115 A NL8802115 A NL 8802115A NL 8802115 A NL8802115 A NL 8802115A NL 8802115 A NL8802115 A NL 8802115A NL 8802115 A NL8802115 A NL 8802115A
- Authority
- NL
- Netherlands
- Prior art keywords
- silica
- preparation
- carbon
- carbonaceous
- mixture
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/02—Silicon
- C01B33/021—Preparation
- C01B33/023—Preparation by reduction of silica or free silica-containing material
- C01B33/025—Preparation by reduction of silica or free silica-containing material with carbon or a solid carbonaceous material, i.e. carbo-thermal process
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B21/00—Nitrogen; Compounds thereof
- C01B21/06—Binary compounds of nitrogen with metals, with silicon, or with boron, or with carbon, i.e. nitrides; Compounds of nitrogen with more than one metal, silicon or boron
- C01B21/068—Binary compounds of nitrogen with metals, with silicon, or with boron, or with carbon, i.e. nitrides; Compounds of nitrogen with more than one metal, silicon or boron with silicon
- C01B21/0685—Preparation by carboreductive nitridation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B32/00—Carbon; Compounds thereof
- C01B32/90—Carbides
- C01B32/914—Carbides of single elements
- C01B32/956—Silicon carbide
- C01B32/963—Preparation from compounds containing silicon
- C01B32/97—Preparation from SiO or SiO2
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2004/00—Particle morphology
- C01P2004/10—Particle morphology extending in one dimension, e.g. needle-like
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2004/00—Particle morphology
- C01P2004/60—Particles characterised by their size
- C01P2004/62—Submicrometer sized, i.e. from 0.1-1 micrometer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/10—Solid density
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/80—Compositional purity
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
- Carbon And Carbon Compounds (AREA)
Description
WERKWIJZE VOOR HET BEREIDEN VAN SILICA EN KOOLSTOF HOUDENDEHENGSELS EN DE TOEPASSING ERVAN IN DE BEREIDINGVAN SILICIUH HOUDENDE MATERIALEN
De uitvinding betreft een werkwijze voor het bereiden van eensilica en koolstof houdend mengsel uit koolstof en silica verkregendoor reaktie van SiF^-iónen en NH4-ionen waarbij een silica bevattendprecipitaat ontstaat en dit precipitaat wordt afgescheiden.
De bereiding van silica via reaktie van SiF^-ionen enMfy-ionen is algemeen bekend en wordt bijvoorbeeld beschreven inUS-A-2780522 en in US-A-4026997. Toevoegen van koolstof door eenvoudigmengen van de beschikbare silica deeltjes en koolstofdeeltjes leidtniet tot de gewenste homogene verdeling en kleine deeltjesgrootte. Dehomogeniteit en de deeltjesgrootte van het mengsel van silica enkoolstof kan worden verbeterd door de silicadeeltjes en de koolstof¬deeltjes te onderwerpen aan een gekombineerde maal- en mengbewerking.
Een nadeel hiervan is dat voor een dergelijke bewerking eengrote capaciteit aan maalapparatuur/ zoals bijvoorbeeld attritoren, isvereist, hetgeen gepaard gaat met omvangrijke investeringen. Bovendienis in dergelijke bewerkingen het risico van contaminatie, met alsgevolgd een nadelig effect op de produktkwaliteit, erg groot.
De uitvinding voorziet in een werkwijze waarmee het mogelijkis op eenvoudige wijze een homogeen silica-koolstof mengsel te makendat is opgebouwd uit koolstofdeeltjes en uiterst fijne silica met eendeeltjesgrootte kleiner dan 50 nm.
Dit wordt volgens de uitvinding hierdoor bereikt dat men dereaktie laat plaatsvinden in een medium dat gesuspendeerde koolstof¬deeltjes met een deeltjesgrootte kleiner dan 0.1 mm bevat.
Gebleken is dat bij carbothermische reduktieprocessen eenbijzonder hoge conversiegraad kan worden bereikt bij relatief lage temperatuur wanneer men het silica-koolstof mengsel bereidt doorsilica te laten precipiteren in een koolstofhoudend medium, waaraanSiF^"" en ammoniak of ammoniumhydroxide wordt toegevoegd. Het op dezewijze gevormde mengsel heeft een zeer homogene verdeling van koolstofen fijne silica deeltjes « 50 nm).
Hengsels van silica en koolstof worden toegepast bij car-bothermische reduktieprocessen. Aangezien de reakties die in derge¬lijke processen plaatsvinden vaste stof reakties zijn is voor hetverkrijgen van een snelle synthese een goede menging en kleine deel¬tjesgrootte van de reaktanten noodzakelijk. Daarnaast is het gewenstdat inmenging van ongewenste onzuiverheden in het reaktiemengsel wordtvermeden. Bij de toepassing van met de werkwijze volgens de uitvindingverkregen mengsels in carbothermische reduktieprocessen bleek een hogeconversiegraad realiseerbaar bij reLatief lage temperatuur.
De uitvinding heeft dan ook tevens betrekking op detoepassing van de silica en koolstof houdende mengsels verkregen metde werkwijze volgens de uitvinding in de bereiding van silicium-houdende materialen via carbothermische reduktieprocessen.
Uit de Japanse octrooipublicatie no. 86-26485 is een werk¬wijze bekend waarbij een suspensie van koolstof en bijvoorbeeld SfCI4wordt opgenomen in water, waardoor een laagje silica op de koolstof-deeltjes wordt afgezet.
Uit experimenten is echter gebleken dat het mogelijk isuitgaande van silica en koolstof houdende mengsels verkregen volgensde uitvinding op basis van SiF^”" keramisch materiaal te bereiden meteen lager zuurstofgehalte dan bij genoemde mengsels op basis vanSiCt4, hetgeen erop wijst dat de hoofdreaktie verloopt volgens eenander mechanisme. Daarnaast wordt een hogere conversiegraad bereikt.Bovendien is gebleken dat optimale resultaten werden verkregen bijlagere synthesetemperatuur.
Als SiF^-” -bron kan men in de praktijk geschikt uitgaan vaneen als afvalprodukt vrijkomende H2SiF6-oplossing. Een dergelijkeoplossing kan men verkrijgen door verdunnen of concentreren vanindustriële H2$iF6-oplossingen, in het bijzonder oplossingen die zijnverkregen door scrubben van silicium en fluor bevattende afgassen van een fosfaatontsluiting en/of indampsectie van een nat fosforzuur pro¬ces. Dergelijke oplossingen kunnen eenvoudig worden gezuiverd bijvoor¬beeld door destillatie/ behandeling met adsorptiemiddelen en/of preci-pitatie door toevoeging van bepaalde chemicaliën. De oplossing kanbovendien gedeeltelijk geammonieerd zijn.
De te gebruiken koolstofbron bleek weinig kritisch. Men kanbijvoorbeeld uitgaan van aktieve kooldeeltjes kleiner dan 0.1 mm. Ookroetdeeltjes kunnen geschikt als koolstofbron worden toegepast. Dekoolstof kan vooraf worden gemalen (gedesagglomereerd) tot een deel¬tjesgrootte kleiner dan 50 nm. In het algemeen wordt een suspensievan koolstofdeeltjes in water toegepast met een concentratie van dekoolstof tussen 2 en 7 gew.%. Wanneer tevens oppervlakte aktieve stof¬fen worden toegevoegd zijn ook hogere koolstofconcentraties mogelijk.Dit kan bijvoorbeeld uiterst snel worden uitgevoerd in een ultra-turrax (collo'id-molen). Eventueel kan het malen van de kool tijdens deprecipitatie plaatsvinden. De reaktie tussen SiF$ en ammonium-hydroxide kan worden uitgevoerd door één van beide reaktanten toe tevoegen aan de andere of door beide reaktanten tegelijk te doseren.
Gebleken is dat in alle gevallen Si02 en C bevattende agglo¬meraten worden gevormd met een deeltjesgrootte ruwweg tussen 4 en40 μ. Deze agglomeraten zijn weer opgebouwd uit zeer kleine Si02 en Cdeeltjes met een deeltjesgrootte kleiner dan 50 nm. Het BET oppervlakvan het precipitaat varieert tussen ± 10 en ± 200 m^/g. De verhoudingSiO2 tot C aanwezig in het mengsel is binnen brede grenzen vrij tekiezen/ en wordt onder andere bepaald door de toepassing van hetmengsel.
De volgens de uitvinding verkregen silica en koolstofhoudende mengsels worden met voordeel toegepast in de bereiding vansilicium houdende materialen via carbothermische reductieprocessen. Inde bereiding van SÏ3N4 via een dergelijk proces ligt de temperatuurwaarbij de omzetting van SiO2 en koolstof in een stikstof en/of ammo¬niak houdende atmosfeer plaatsvindt tussen 1400«C en 1550nc, bijvoorkeur tussen 1450«C en 1500«C. De beste resultaten zijn verkregenbij een reaktietemperatuur van ongeveer 1475nc. De stoechiometrischegewichstverhouding SiO2 tot koolstof voor een dergelijk proces isSi02 : C = 1 : 0.4.
Voor de bereiding van SiC wordt een temperatuur tussen 1550en 1900nc, bij voorkeur tussen 1600 en 1700nc toegepast en een sto-ecbiometrische gewichtsverhouding Si02 : C = 1 : 0,6. De siLica enkoolstof houdende mengsels kunnen eveneens met voordeel worden toege¬past in de carbothermische bereiding van silicium. De reaktietenrperatuur ligt dan tussen 1500 en 2500QC, bij voorkeur tussen 1700 en2100HC. De stoechiometrische gewichtsverhouding Si02 tot koolstof ishier Si02 : C = 1 : 0,4.
Wanneer men uitgaat van silica en koolstofhoudende mengselsmet een lage gewichtsverhouding C : Si02 bijvoorbeeld kleiner dan 0,1,is het mogelijk om bij een temperatuur tussen 1300 en 1400*»c inNHj-atmosfeer, SÏ20N2 en tussen 1200 en 1300**C Si*3N4 te bereiden.Gebleken is namelijk dat zelfs bij de lage concentraties koolstof diegebruikt worden bij de bereiding van silica en koolstof houdendemengsels met een dergelijke C/Si(>2 verhouding ook zeer fijne silica-deeltjes worden geprecipiteerd, wanneer een C/Si02 verhouding > 0,04wordt aangehouden.
Het met de werkwijze volgens de uitvinding verkregen silica-kool mengsel bleek na filtratie, uitwassen en drogen goed te ver¬dichten. Het materiaal bleek gemakkelijk te vormen tot deeltjes meteen specifieke dichtheid ten behoeve van de gewenste vorm van heteindprodukt : voor de bereiding van whiskers tot deeltjes met eendichtheid kleiner dan 0,2 g/cm3 en voor de bereiding van poeders totdeeltjes met een dichtheid groter dan 0,8 g/cm3.
De uitvinding zal verder worden toegelicht aan de hand van devolgende voorbeelden zonder daartoe te worden beperkt.
Voorbeeld I
Si02/C-mengsels voor SijN^synthese
In een glazen reactor met een volume van 2 l, voorzien vaneen turbineroerder, keerschotten en een koelmantel werd een suspensievan gemalen kool in water voorgelegd. De gebruikte kool had een deel¬tjesgrootte: 100 % < 1,2 μ, en een toegankelijk oppervlak van 100-140 m^/g. De concentratie van de kool in de suspensie was 2-5 gew.% en hetvolume van de suspensie ± 500 ml.
De voorgelegde suspensie werd met behulp van NH4OH (25 gew.% NH3 inwater) op pH - 9 gebracht.
Vervolgens werd onder roeren gelijktijdig een oplossing vanH2SiFó in water (6,6 gew.% H2SiF6> en NH4OH (25 gew.% NH3 in water) inde reactor gepompt zodanig dat de pH van de reactorinhoud niet veran¬derde en constant op 9 blijft, de temperatuur 60nc bleef en de neutra¬lisatie in 30 min afgelopen was.
Gewichten, concentraties, volumina en pompsnelheden werden zogekozen dat de uiteindelijke C/$i(>2“molverhouding in het precipitaat2.3 mol/mol was.
Deze gegevens zijn voor de beschreven werkwijze aangegeven inbijgaande tabel 1.
Na reactie werden aan de precipitaat-slurry de voor deuiteindelijke Si3N4-synthese benodigde Si3N4“kiemen toegevoegd(dso <1.2 μ; ±3 gew.% berekend op gevormd Si02) en gedurende ± 5 mindoorgeroerd. Tevens werd aan de slurry 1.5-3 gew.% polyvinylalcoholtoegevoegd (berekend op vaste-stof-gehalte) ter verbetering van defiItreerbaarheid en de tabletteerbaarheid.
(Het kan voordelig voor de synthese zijn de kiemen reeds vóór de pre-cipitatie gelijktijdig met de kool voor te leggen.)
Vervolgens werd de verkregen precipitaat-slurry afgetapt,afgefiltreerd en uitgewassen met zeer zuiver gedestilleerd water,zodanig dat het F-gehalte in het precipitaat < 100 ppm en bij voorkeur< 50 ppm was.
Het precipitaat werd vervolgens gedroogd bij 120nc en hetverkregen poeder werd getabletteerd tot tabletten met een diameter van5 mm en een dikte van 4 mm.
Deze tabletten werden vervolgens in een buisoven omgezet tot Si3N4 ineen N2"Stroom. De resultaten zijn weergegeven in tabel 2.
Vergelijkingsvoorbeeld A
Het Si(>2-precipitaat uit H2SiFó, zoals beschreven in Voor¬beeld I, doch zonder aanwezigheid van C, werd met de juiste hoeveelheid koolstof nat gemalen en gemengd tot d5Q < 0,5 pm. Hetmengsel werd afgefiltreerd en vervolgens gedroogd bij 120t»c. Hetverkregen poeder werd getabletteerd als in voorbeeld I.
Deze tabletten worden vervolgens in een buisoven omgezet tot Si3N4 ineen Ng-stroom. De resultaten zijn weergegeven in tabel 2.
Vergelijkingsvoorbeeld B
Geheel analoog aan bovenstaande werkwijze met dien verstandedat de H2SiF£-oplossing vervangen werd door inleiden van een equiva¬lente hoeveelheid SiF4-gas. De resultaten zijn weergegeven in tabel 2.
Vergelijkingsvoorbeeld C
Geheel analoog aan de werkwijze onder 1 met dien verstandedat de H2SiF£-oplossing vervangen werd door bijpompen of toedruppelenvan een equivalente hoeveelheid SiCI4· De resultaten zijn weergegevenin tabel 2.
Voorbeeld XI
SiO2/C-mengsels t.b.v. SiC bereiding
Identiek aan voorbeeld I, doch met instellingen en toevoerzodanig, dat C/Si02“molverhouding 3.1 mol/mol was. Bij de SiC-syntheseuit Si02/C-tabletten, géén N2~atmosfeer. Eventueel kan Ar of He wordeningezet. Synthesetemperatuur was hoger dan bij SÏ3N4.
De syntheseresultaten zijn weergegeven in tabel 2.
Vergelijkingsvoorbeeld D
Identiek aan voorbeid II werd uitgaande van Si02/C mengselbereid analoog aan voorbeeld A, SiC bereid. De syntheseresultaten zijnweergegeven in tabel 2.
TABEL 1
I, A B C
procescondities H2SiF6 conc 6,6 gew.% vol 985 ml
SiF4 - 11,7 NI.
SiCI4 conc 99 gew.% vol - - 68 ml NH4OH conc 25 gew. % 25 gew.% 25 gew.% vol 275 ml 270 ml 290 ml C 12,5 g 10,9 g 14,3 g suspensie 500 ml 500 ml 500 ml
Si3M4 1,56 g 1,37 g 1,79 g
Tprec 60«C 60nc 60nc tprec 30 min 30 min 30 min pHprec ^ ^ ^ produktanalyse opbrengst 37,1 g 37,9 g 47,2 g rendement 93,6 % 89,9 % 94,4 % d5Q (agglomeraat) 11,0 μ 10,8 μ 14,6 μ
Sggj 37 m2/g 35 m2/g 50 m2/g C/Si02 (mol) 2,30 2,36 2,29 TABEL 2
Si*3N4 bereiding
SiC-bereiding
SÏ3N4, SiC, O geven het gew.% Si3N4, SiC en O aanwezig in het eind¬produkt, α/β resp. β/α geven het percentage crSi3N4 resp. β-SiC ten opzichtevan de totale hoeveelheid S13N4 resp. SiC in het eindprodukt.
T = synthesetemperatuur t = synthesetijd ^50 - gemiddelde deeltjesgrootte
Claims (16)
1. Werkwijze voor het bereiden van een silica en koolstof houdendmengsel uit koolstof en silica verkregen door reaktie vanSiF^-ionen en NH4-ionen waarbij een silica bevattend precipitaatontstaat en dit precipitaat wordt afgescheiden, met het kenmerk,dat men de reaktie laat plaatsvinden in een medium dat gesuspen¬deerde koolstofdeeltjes met een deeltjesgrootte kleiner dan 0,1 mmbevat.
2. Werkwijze volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat SiF^-ionen inde vorm van een HgSiF^-oplossing worden toegepast.
3. Werkwijze volgens conclusie 1 of 2, met het kenmerk, dat het naprecipitatie en afscheiding verkregen silica en koolstofhoudendmengsel wordt verdicht tot deeltjes met een dichtheid groter dan0,8 g/cm^.
4. Werkwijze volgens conclusie 1 of 2, met het kenmerk, dat het naprecipitatie en afscheiding verkregen silica en koolstofhoudendmengsel wordt verdicht tot deeltjes met een dichtheid kleiner dan0,2 g/cm^.
5. Werkwijze voor het via carbothermische reduktie van silicabereiden van siliciumhoudende materialen door een silica enkoolstof bevattend mengsel bij verhoogde temperatuur om te zetten,met het kenmerk, dat als silica en koolstof bevattend mengsel, eenmengsel verkregen volgens een der conclusies 1-4 wordt toegepast.
6. Werkwijze voor de bereiding van Si3N4 volgens conclusie 5, met hetkenmerk, dat het silica en koolstof houdend mengsel in en stikstofen/of ammoniak houdende atmosfeer wordt omgezet bij een tem¬peratuur tussen 1450 en 15Q0nc.
7. Werkwijze voor de bereiding van SiC volgens conclusie 5, met hetkenmerk, dat het silica en koolstof houdend mengsel wordt omgezetbij een temperatuur tussen 1600 en 1700«C.
8. Werkwijze voor de bereiding van silicium volgens conclusie 5, methet kenmerk, dat het silica en koolstof houdend mengsel in eeninerte atmosfeer wordt omgezet bij een temperatuur tussen 1700 en2100BC.
9. Toepassing van een silica en koolstof houdend mengsel verkregenvolgens een der conclusies 1-4, in de bereiding van siliciumhoudende materialen via carbothermische reduktie van silica.
10. Toepassing van een silica en koolstof houdend mengsel verkregenvolgens een der conclusies 1-4, in de bereiding van S13N4 via car¬bothermische reduktie van silica.
11. Toepassing van een silica en koolstof houdend mengsel verkregenvolgens een der conclusies 1-4, in de bereiding van SiC via carbo¬thermische reduktie van silica.
12. Toepassing van een silica en koolstof houdend mengsel verkregenvolgens een der conclusies 1-4, in de bereiding van silicium viacarbothermische reduktie van silica.
13. Silica en koolstofhoudende mengsels verkregen volgens een derconclusies 1-4.
14. Werkwijze voor de bereiding van silica en koolstofhoudendemengsels zoals beschreven en toegelicht aan de hand van de voor¬beelden.
15. Toepassing van silica en koolstof houdende mengsels zoals beschre¬ven en toegelicht aan de hand van de voorbeelden.
16. Silicium houdende materialen verkregen volgens een der conclusies5-12.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
NL8802115A NL8802115A (nl) | 1988-08-27 | 1988-08-27 | Werkwijze voor het bereiden van silica en koolstof houdende mengsels en de toepassing ervan in de bereiding van silicium houdende materialen. |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
NL8802115A NL8802115A (nl) | 1988-08-27 | 1988-08-27 | Werkwijze voor het bereiden van silica en koolstof houdende mengsels en de toepassing ervan in de bereiding van silicium houdende materialen. |
NL8802115 | 1988-08-27 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
NL8802115A true NL8802115A (nl) | 1990-03-16 |
Family
ID=19852810
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
NL8802115A NL8802115A (nl) | 1988-08-27 | 1988-08-27 | Werkwijze voor het bereiden van silica en koolstof houdende mengsels en de toepassing ervan in de bereiding van silicium houdende materialen. |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
NL (1) | NL8802115A (nl) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0477830A1 (de) * | 1990-09-26 | 1992-04-01 | H.C. Starck GmbH & Co. KG | Verfahren zur Herstellung von alpha-Siliciumnitridpulver |
EP2125663A2 (en) * | 2007-02-22 | 2009-12-02 | Boron Compounds Ltd. | Method for the preparation of ceramic materials |
-
1988
- 1988-08-27 NL NL8802115A patent/NL8802115A/nl not_active Application Discontinuation
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0477830A1 (de) * | 1990-09-26 | 1992-04-01 | H.C. Starck GmbH & Co. KG | Verfahren zur Herstellung von alpha-Siliciumnitridpulver |
EP2125663A2 (en) * | 2007-02-22 | 2009-12-02 | Boron Compounds Ltd. | Method for the preparation of ceramic materials |
EP2125663A4 (en) * | 2007-02-22 | 2012-05-23 | Boron Compounds Ltd | PROCESS FOR PRODUCING CERAMIC MATERIALS |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4849196A (en) | Process for producing silicon carbide whiskers | |
KR101143130B1 (ko) | 발열성 이산화규소 분말 및 그의 분산물 | |
JP3816141B2 (ja) | 硫化リチウムの製造方法 | |
US6328944B1 (en) | Doped, pyrogenically prepared oxides | |
JPH0465006B2 (nl) | ||
CA2739052A1 (en) | Production of solar-grade silicon from silicon dioxide | |
EP1741672A1 (en) | Process for producing hydrophobic silica powder | |
DE69810094T2 (de) | Verfahren zur herstellung von metalloxid und organische metalloxid zusammensetzungen | |
CA2363701A1 (en) | High-structure precipitated silicas | |
CN100372905C (zh) | 一种用于化学机械抛光的二氧化铈细颗粒浓缩物及其制备方法 | |
JP3837754B2 (ja) | 結晶性酸化第二セリウムの製造方法 | |
JP2000247625A (ja) | 高純度シリカゾル及びその製造方法 | |
NL8802115A (nl) | Werkwijze voor het bereiden van silica en koolstof houdende mengsels en de toepassing ervan in de bereiding van silicium houdende materialen. | |
US3591518A (en) | Silica aquasols and powders | |
JP2021151942A (ja) | 多孔質シリカアルミナ粒子およびその製造方法 | |
US5248490A (en) | Process for the preparation of silicon nitride having a small crystallite size | |
JP3950691B2 (ja) | セリウムiiiを含有するセリウム化合物のコロイド分散液、その製造法及びその使用 | |
Jiang et al. | Preparation of titanium diboride from titanium alkoxides and boron powder | |
SE462160B (sv) | Kontinuerligt foerfarande foer framstaellning av pulverformig urandioxid av utanylnitrat | |
JPS6227316A (ja) | 高純度炭化珪素微粉末の製造方法 | |
US4582696A (en) | Method of making a special purity silicon nitride powder | |
Ishihara et al. | Synthesis of silicon carbide powders from fumed silica powder and phenolic resin | |
US4473539A (en) | Process for preparing pure silicon dioxide having high mechanical strength as well as silicon dioxide obtained by applying this process | |
RU2674801C1 (ru) | Способ получения алюмосиликатного клея-связки | |
AU648108B2 (en) | A proces for the preparation of alpha-silicon nitride powder |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A1B | A search report has been drawn up | ||
BV | The patent application has lapsed |