NL8403134A - Werkwijze voor het vervaardigen van een gerasterde laag voor een electrofotografisch element. - Google Patents

Werkwijze voor het vervaardigen van een gerasterde laag voor een electrofotografisch element. Download PDF

Info

Publication number
NL8403134A
NL8403134A NL8403134A NL8403134A NL8403134A NL 8403134 A NL8403134 A NL 8403134A NL 8403134 A NL8403134 A NL 8403134A NL 8403134 A NL8403134 A NL 8403134A NL 8403134 A NL8403134 A NL 8403134A
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
layer
manufacturing
particles
electrophotographic element
areas
Prior art date
Application number
NL8403134A
Other languages
English (en)
Original Assignee
Oce Nederland Bv
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Oce Nederland Bv filed Critical Oce Nederland Bv
Priority to NL8403134A priority Critical patent/NL8403134A/nl
Priority to EP85201652A priority patent/EP0179525B1/en
Priority to DE8585201652T priority patent/DE3563129D1/de
Priority to JP60228558A priority patent/JPS6197657A/ja
Publication of NL8403134A publication Critical patent/NL8403134A/nl
Priority to US06/885,384 priority patent/US4739591A/en

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G5/00Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
    • G03G5/02Charge-receiving layers
    • G03G5/04Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G5/00Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
    • G03G5/14Inert intermediate or cover layers for charge-receiving layers

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photoreceptors In Electrophotography (AREA)

Description

* -1-
Océ-Nederland B.V., te Venlo
Werkwijze voor het vervaardigen van een gerasterde laag voor een electrofotografisch element
De uitvinding heeft betrekking op een werkwijze voor het vervaardigen van een gerasterde laag voor een electrofotografisch element door op een voor electrofotografische toepassing geschikte drager een homogene laag aan te brengen en uit deze laag gebiedjes te verwijderen.
5 Een dergelijke werkwijze is reeds eerder voorgesteld in de niet vóórgepubliceerde Nederlandse octrooiaanvrage 8400922 waarin beschreven wordt dat uit een ladingsgenererende laag, die op een drager is aangebracht, gebiedjes volgens een stippen- of lijnenpatroon verwijderd kunnen worden met behulp van een laser. Volgens deze werkwijze kan 10 een uitstekende gerasterde laag worden vervaardigd maar de werkwijze heeft het bezwaar dat ze vrij tijdrovend is als men op grote schaal een deel, bijvoorbeeld 25i, van een laag in de vorm van gebiedjes van bijvoorbeeld 25 /urn moet verwijderen.
Er werd nu gevonden dat men dergelijke gebiedjes veel sneller 15 uit een homogene laag kan verwijderen door toepassing van een werkwijze zoals in de aanhef wordt bedoeld, waarbij de gebiedjes uit de homogene laag worden verwijderd door deze laag te stralen met deeltjes die een diameter tussen 5 en 1000 /um hebben.
Het is gebleken dat met deze deeltjes, afhankelijk van de 20 straalomstandigheden, gebiedjes met een diameter tussen omstreeks 1 en 200 /um uit de homogene laag verwijderd kunnen worden. De vorm van de deeltjes is niet kritisch. Om te vermijden dat te grote stukken uit de homogene laag kunnen worden weggeslagen worden bij voorkeur deeltjes zonder scherpe randen toegepast zoals bijvoorbeeld glasparels. Het 25 materiaal van de deeltjes is eveneens weinig kritisch. Vanzelfsprekend dienen de deeltjes te bestaan uit een materiaal dat een grotere slijtvastheid heeft dan die van de te behandelen laag. Bovendien moet rekening gehouden worden met de mogelijkheid dat kleine stukjes van de deeltjes kunnen afbreken en kunnen achterblijven in de behandelde laag.
30 Daarom is het bijvoorbeeld wenselijk electrisch isolerende deeltjes toe te passen als de behandelde laag wordt opgenomen in een electrofotografisch element, waarvan de electrofotografische eigenschappen 84G3134 -2- ongunstig beïnvloed kunnen worden door sporen van een geleidend materiaal.
In gevallen dat sporen van een electrisch isolerend materiaal de genoemde eigenschappen ongunstig beïnvloeden genieten uiteraard 5 electrisch geleidende deeltjes de voorkeur.
Het is gebleken dat de werkwijze volgens de uitvinding op allerlei soorten, in electrofotografische elementen voorkomende, lagen, zoals dunne metaallagen, polymeerlagen die al dan niet vaste stof in gedispergeerde vorm bevatten en lagen van opgedampte monomere stoffen 10 zoals seleen, ftalocyanine, peryleenkleurstoffen en andere fotoge-leidende stoffen, kan worden toegepast.
De optimale straalomstandigheden zijn van geval tot geval anders, afhankelijk van het te stralen materiaal, de dikte ervan en de grootte van de te verwijderen gebiedjes. In het algemeen kan worden volstaan 15 met glasparels met een diameter tussen 20 en 200 /um, een straaldruk van 0,2 tot 5 bar en een afstand van 10 tot 50 cm tussen de straalo-pening en de te stralen laag. De hoek tussen de straalrichting en het te stralen oppervlak is eveneens niet kritisch. Hoeken tussen omstreeks 10 en 90° zijn toepasbaar. De genoemde marges voor de omstan-20 digheden geven geen grenzen aan. Men kan gewoonlijk een van de gegeven marges zonder bezwaar overschrijden en toch een goed resultaat bereiken door een van de andere omstandigheden aan te passen. Men kan bijvoorbeeld de druk verhogen en de afstand tot het te stralen oppervlak overeenkomstig vergroten of omgekeerd de druk verlagen en de afstand 25 verkleinen. De invloed van het vergroten van de deeltjes kan men eveneens compenseren door een drukverandering.
Voorbeeld
Een ftalocyaninelaag met een dikte van 0,3 /um die op een met aluminium beklede kunststofdrager was opgedampt werd gedurende 5 seconden 30 gestraald met glasparels waarvan de diameters varieerden tussen 44 en 88 /um. De parels werden onder een hoek van 45° met perslucht op de ftalocyaninelaag geblazen met een in de handel verkrijgbaar straalap-paraat dat de parels recirculeert. De overdruk in de uitstroomopening van het straalmondstuk van het straalapparaat was 1,5 bar. De afstand 35 van de uitstroomopening tot de ftalocyaninelaag was 30 cm. Na het bestralen bleek 20¾ van het oppervlak verwijderd te zijn in de vorm van willekeurig verspreide gaatjes waarvan 95% een diameter had die 840 31 34 -3- varieerde tussen 5 en 30 /urn.
De verkregen laag kon worden voorzien van een gladde ladingstranspor-terende laag en aldus dienst doen als een electrofotografisch element met een gerasterde ladingsgenererende laag die plaatselijk geen 5 ladingen kan injecteren in de ladingstransporterende laag.
Op dezelfde wijze kunnen gaatjes met hetzelfde willekeurige patroon van verwijderde gebiedjes worden verkregen in een ftalocyaninelaag die is opgedampt op een trommel. Tijdens het stralen kan de trommel geroteerd en een straalmondstuk axiaal langs de trommel verplaatst 10 worden zodat de gehele laag op de trommel volgens een spiraalvormige baan aan het stralen wordt onderworpen.
840 31 3 4

Claims (1)

  1. ·* ^ -4- Werkwijze voor het vervaardigen van een gerasterde laag voor een electrofotografisch element door op een voor electrofotografische toepassing geschikte drager een homogene laag aan te brengen en uit deze laag gebiedjes te verwijderen, met het kenmerk, dat de gebiedjes 5 uit de homogene laag worden verwijderd door deze laag te stralen met deeltjes die een diameter tussen 5 en 1000 /um hebben. 840 31 34
NL8403134A 1984-10-15 1984-10-15 Werkwijze voor het vervaardigen van een gerasterde laag voor een electrofotografisch element. NL8403134A (nl)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL8403134A NL8403134A (nl) 1984-10-15 1984-10-15 Werkwijze voor het vervaardigen van een gerasterde laag voor een electrofotografisch element.
EP85201652A EP0179525B1 (en) 1984-10-15 1985-10-10 A method for producing a screened layer for an electrophotographic element
DE8585201652T DE3563129D1 (en) 1984-10-15 1985-10-10 A method for producing a screened layer for an electrophotographic element
JP60228558A JPS6197657A (ja) 1984-10-15 1985-10-14 電子写真材料用スクリーン層の製造方法
US06/885,384 US4739591A (en) 1984-10-15 1986-07-14 Method for producing a screened layer for an electrophotographic element

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL8403134A NL8403134A (nl) 1984-10-15 1984-10-15 Werkwijze voor het vervaardigen van een gerasterde laag voor een electrofotografisch element.
NL8403134 1984-10-15

Publications (1)

Publication Number Publication Date
NL8403134A true NL8403134A (nl) 1986-05-01

Family

ID=19844614

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL8403134A NL8403134A (nl) 1984-10-15 1984-10-15 Werkwijze voor het vervaardigen van een gerasterde laag voor een electrofotografisch element.

Country Status (5)

Country Link
US (1) US4739591A (nl)
EP (1) EP0179525B1 (nl)
JP (1) JPS6197657A (nl)
DE (1) DE3563129D1 (nl)
NL (1) NL8403134A (nl)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6327846A (ja) * 1986-07-21 1988-02-05 Hitachi Chem Co Ltd 電子写真感光体の製造法
JPS63128351A (ja) * 1986-11-19 1988-05-31 Hitachi Chem Co Ltd 電子写真感光体の製造法
JPH0715589B2 (ja) * 1988-09-26 1995-02-22 富士ゼロックス株式会社 電子写真感光体、その基体の処理方法および電子写真感光体の製造方法
US5325637A (en) * 1991-10-31 1994-07-05 Konica Corporation Developing apparatus with an improved sleeve
US5403627A (en) * 1993-06-04 1995-04-04 Xerox Corporation Process and apparatus for treating a photoreceptor coating
US5418349A (en) * 1993-06-04 1995-05-23 Xerox Corporation Process for reducing thickness of a polymeric photoconductive coating on a photoreceptor with laser
JP2917989B1 (ja) * 1998-03-16 1999-07-12 日本電気株式会社 多孔状感光体及びその作製法
US7167615B1 (en) 1999-11-05 2007-01-23 Board Of Regents, The University Of Texas System Resonant waveguide-grating filters and sensors and methods for making and using same

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2666008A (en) * 1950-08-03 1954-01-12 Stromberg Carlson Co Methods and apparatus for making conductive patterns of predetermined configuration
US2777256A (en) * 1954-12-20 1957-01-15 Cline Electric Mfg Co Apparatus for graining surfaces
US3435560A (en) * 1965-10-18 1969-04-01 Us Navy Apparatus for producing small holes
US3579368A (en) * 1968-07-01 1971-05-18 Metaframe Corp Simulated slate and method for making the same
US3702042A (en) * 1970-11-25 1972-11-07 Ibm Abrading apparatus
DE2502961A1 (de) * 1975-01-24 1976-07-29 Precitec Gmbh Vorrichtung zum abgleich des widerstands-werts einer elektrisch leitfaehigen schicht
JPS5330337A (en) * 1976-09-01 1978-03-22 Canon Inc Screen photosensitive body
US4027323A (en) * 1976-09-07 1977-05-31 Honeywell Inc. Photodetector array delineation method
US4232059A (en) * 1979-06-06 1980-11-04 E-Systems, Inc. Process of defining film patterns on microelectronic substrates by air abrading
NL7906728A (nl) * 1979-09-10 1981-03-12 Philips Nv Optische registratieschijf.
ZA829118B (en) * 1982-03-08 1983-09-28 Kennecott Corp Impact blasting system for etching metal surfaces

Also Published As

Publication number Publication date
DE3563129D1 (en) 1988-07-07
US4739591A (en) 1988-04-26
JPS6197657A (ja) 1986-05-16
EP0179525A1 (en) 1986-04-30
EP0179525B1 (en) 1988-06-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL8403134A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een gerasterde laag voor een electrofotografisch element.
DE69711213T2 (de) Verfahren und vorrichtung zum synchronisierten prallzerkleinern von material
RU93051214A (ru) Процесс изготовления крупных частиц эмульсионного полимера, продукта полимера и их использование
WO2001024935A3 (en) High pressure mill and method of creating ultra-fine particles of materials using the same
EP1998929A1 (de) Prozesskammer und verfahren für die bearbeitung eines werkstoffs mit einem gerichteten strahl elektromagnetischer strahlung, insbesondere für eine lasersintervorrichtung
DE10392403T5 (de) Elektrostatischer Hochspannungsklassierer und Separator und damit verbundenes Verfahren
WO2003049865A1 (fr) Procede de traitement d'un graphite nucleaire contamine
EP0267948A1 (en) Separation method and apparatus
US4254878A (en) Screen for separating objects by shape
EP1217088A2 (de) Beschichtungsverfahren
DE4428791C1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Verdichtung und Verfestigung von metallischen Bauteiloberflächen
Dehghani et al. Evaluating the Nakajima et al. model for rectangular-aperture screens
EP0964748B1 (de) Verfahren und vorrichtung zur zerkleinerung von schüttgütern
EP0171779B1 (de) Vorrichtung zur Oberflächenbearbeitung von Kälteversprödbaren Werkstücken
DE19502187A1 (de) Anlage zur Niederdruck-Plasmabehandlung und Plasmabeschichtung von Pulvern
DE19628437C2 (de) Einrichtung und Verfahren zur Klassierung und knautschenden Verringerung von Partikelgrößen eines Granulatgemisches
DE19755577A1 (de) Verfahren zum Granulieren oder Verpulvern
Motohiro et al. Characteristic erosion of silica by oblique argon ion beam bombardment
EP1337340A1 (de) Verfahren und vorrichtung zum zerkleinern von partikeln
Wentworth et al. Calcium carbonate in Nakhla: further evidence for pre-terrestrial secondary minerals in SNC meteorites
DE10045172A1 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Zerkleinern von Partikeln
SU900875A1 (ru) Устройство дл сортировки частиц
DE9408334U1 (de) Vorrichtung zum Entsorgen von Elementen mit beschichteter Oberfläche
DE4417704C2 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Entsorgen von Elementen mit beschichteter Oberfläche
Matthewson et al. An oblique impact anomaly in high-velocity liquid impact on glass

Legal Events

Date Code Title Description
A1B A search report has been drawn up
BV The patent application has lapsed