NL7505454A - Toestel voor het aanbrengen van patronen op een fotogevoelige laag. - Google Patents

Toestel voor het aanbrengen van patronen op een fotogevoelige laag.

Info

Publication number
NL7505454A
NL7505454A NL7505454A NL7505454A NL7505454A NL 7505454 A NL7505454 A NL 7505454A NL 7505454 A NL7505454 A NL 7505454A NL 7505454 A NL7505454 A NL 7505454A NL 7505454 A NL7505454 A NL 7505454A
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
photo
sensitive layer
applying patterns
patterns
applying
Prior art date
Application number
NL7505454A
Other languages
English (en)
Dutch (nl)
Original Assignee
Commissariat Energie Atomique
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Commissariat Energie Atomique filed Critical Commissariat Energie Atomique
Publication of NL7505454A publication Critical patent/NL7505454A/xx

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70383—Direct write, i.e. pattern is written directly without the use of a mask by one or multiple beams
    • G03F7/704—Scanned exposure beam, e.g. raster-, rotary- and vector scanning

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Mounting And Adjusting Of Optical Elements (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
NL7505454A 1974-05-10 1975-05-09 Toestel voor het aanbrengen van patronen op een fotogevoelige laag. NL7505454A (nl)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR7416288A FR2270616B1 (xx) 1974-05-10 1974-05-10

Publications (1)

Publication Number Publication Date
NL7505454A true NL7505454A (nl) 1975-11-12

Family

ID=9138697

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL7505454A NL7505454A (nl) 1974-05-10 1975-05-09 Toestel voor het aanbrengen van patronen op een fotogevoelige laag.

Country Status (7)

Country Link
JP (1) JPS50159677A (xx)
BE (1) BE828336A (xx)
DE (1) DE2520809A1 (xx)
FR (1) FR2270616B1 (xx)
GB (1) GB1489005A (xx)
IT (1) IT1032842B (xx)
NL (1) NL7505454A (xx)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58108745A (ja) * 1981-12-23 1983-06-28 Canon Inc 転写装置
JPS60173550A (ja) * 1984-02-20 1985-09-06 Canon Inc 半導体焼付装置
DE4133037C2 (de) * 1990-10-05 1999-07-22 Canon Kk Belichtungsvorrichtung
JPH07105337B2 (ja) * 1994-04-22 1995-11-13 株式会社日立製作所 パターン刻印装置

Also Published As

Publication number Publication date
FR2270616B1 (xx) 1978-06-02
DE2520809A1 (de) 1975-11-20
GB1489005A (en) 1977-10-19
FR2270616A1 (xx) 1975-12-05
BE828336A (fr) 1975-08-18
JPS50159677A (xx) 1975-12-24
IT1032842B (it) 1979-06-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL183125C (nl) Inrichting voor het aanbrengen van een deklaag op voorwerpen.
NL7704529A (nl) Werkwijze voor het aanbrengen van een fotopoly- meriseerbaar preparaat op een substraat.
NL7514287A (nl) Inrichting voor het positioneren van een loper.
NL175718C (nl) Werkwijze voor het aanbrengen van een tindioxidelaag op een glasoppervlak.
NL168737C (nl) Inrichting voor het met behulp van een laser verwijderen van materiaal.
NL7514801A (nl) Werkwijze voor het aanbrengen van fluidums op een oppervlak alsmede inrichting voor het uitvoeren van de werkwijze.
NL187283C (nl) Werkwijze voor het behandelen van een stralingsgevoelige plaat.
NL184444C (nl) Werkwijze voor het vormen van een patroon in een laag.
NL7713063A (nl) Werkwijze voor het opbrengen van een foto- resistfoelie op een vooraf van een beeld voorzien ondermateriaal.
NL7511714A (nl) Werkwijze voor het op een oppervlak met verhoogde gebieden opbrengen van een fotoresist vormende laag.
NL7405317A (nl) Inrichting voor het aanbrengen van een epitaxiale laag op ondermaterialen.
NL7608397A (nl) Werkwijze voor het aanbrengen van een polyurethanlaag op een substraat.
NL7509107A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een druk- plaat voor diepdrukken en volgens deze werkwijze vervaardigde diepdrukplaat.
NL7509464A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een half- geleiderinrichting.
NL7511873A (nl) Inrichting voor het vormen van een dunne laag.
NL7505134A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een half- geleiderinrichting.
NL7510636A (nl) Inrichting voor het verbinden van een zeilmast met een zeilplank.
NL169094C (nl) Werkwijze en inrichting voor het opbrengen van kleurstoffen op een materiaal.
NL7508380A (nl) Machine voor het monteren van een schuif en het aanbrengen van een aanslag.
NL7505454A (nl) Toestel voor het aanbrengen van patronen op een fotogevoelige laag.
NL184885C (nl) Inrichting voor het aanbrengen van scheurstroken op een verpakkingsbaan.
NL164494C (nl) Werkwijze voor het aanbrengen van een deklaag op een werkstukoppervlak.
NL7515269A (nl) Inrichting voor het aanbrengen van verstijvings- materiaal op een werkstuk.
NL7407256A (nl) Werkwijze voor het bekleden van een substraat.
NL180600C (nl) Werkwijze voor het aanbrengen van een deklaag op een voorwerp.

Legal Events

Date Code Title Description
BA A request for search or an international-type search has been filed
BV The patent application has lapsed
BB A search report has been drawn up
BC A request for examination has been filed
A85 Still pending on 85-01-01
BV The patent application has lapsed