NL7502625A - Werkwijze en inrichting voor het meten van laagdikten en/of afscheidingssnelheden bij stroomloze en galvanische afscheidingsprocessen. - Google Patents

Werkwijze en inrichting voor het meten van laagdikten en/of afscheidingssnelheden bij stroomloze en galvanische afscheidingsprocessen.

Info

Publication number
NL7502625A
NL7502625A NL7502625A NL7502625A NL7502625A NL 7502625 A NL7502625 A NL 7502625A NL 7502625 A NL7502625 A NL 7502625A NL 7502625 A NL7502625 A NL 7502625A NL 7502625 A NL7502625 A NL 7502625A
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
separation
current
layer thicknesses
speeds
measuring layer
Prior art date
Application number
NL7502625A
Other languages
English (en)
Original Assignee
Kollmorgen Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kollmorgen Corp filed Critical Kollmorgen Corp
Publication of NL7502625A publication Critical patent/NL7502625A/nl

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B15/00—Measuring arrangements characterised by the use of electromagnetic waves or particle radiation, e.g. by the use of microwaves, X-rays, gamma rays or electrons
    • G01B15/02—Measuring arrangements characterised by the use of electromagnetic waves or particle radiation, e.g. by the use of microwaves, X-rays, gamma rays or electrons for measuring thickness
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
    • G01N23/20—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by using diffraction of the radiation by the materials, e.g. for investigating crystal structure; by using scattering of the radiation by the materials, e.g. for investigating non-crystalline materials; by using reflection of the radiation by the materials
    • G01N23/203—Measuring back scattering

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Chemically Coating (AREA)
  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
  • Length-Measuring Devices Using Wave Or Particle Radiation (AREA)
  • Investigating And Analyzing Materials By Characteristic Methods (AREA)
NL7502625A 1974-03-05 1975-03-05 Werkwijze en inrichting voor het meten van laagdikten en/of afscheidingssnelheden bij stroomloze en galvanische afscheidingsprocessen. NL7502625A (nl)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE2410927A DE2410927C3 (de) 1974-03-05 1974-03-05 Meßsonde für Schichtdickenmessungen und Verfahren zur Messung der Schichtdicke bzw. der Abscheidungsgeschwindigkeit mittels dieser Sonde

Publications (1)

Publication Number Publication Date
NL7502625A true NL7502625A (nl) 1975-09-09

Family

ID=5909389

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL7502625A NL7502625A (nl) 1974-03-05 1975-03-05 Werkwijze en inrichting voor het meten van laagdikten en/of afscheidingssnelheden bij stroomloze en galvanische afscheidingsprocessen.

Country Status (14)

Country Link
US (1) US4073964A (nl)
JP (1) JPS5831521B2 (nl)
AT (1) AT358292B (nl)
AU (1) AU504747B2 (nl)
CA (1) CA1022279A (nl)
CH (1) CH615502A5 (nl)
DE (1) DE2410927C3 (nl)
ES (2) ES435290A1 (nl)
FR (1) FR2263494B1 (nl)
GB (1) GB1471121A (nl)
IT (1) IT1045537B (nl)
NL (1) NL7502625A (nl)
SE (1) SE7502246L (nl)
ZA (1) ZA75712B (nl)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4141780A (en) * 1977-12-19 1979-02-27 Rca Corporation Optically monitoring the thickness of a depositing layer
CA1096145A (en) * 1978-06-09 1981-02-24 Brian H. Henshaw Button construction
US4477484A (en) * 1982-12-10 1984-10-16 International Business Machines Corporation Electroless plating monitor
JPS62259009A (ja) * 1985-12-12 1987-11-11 Mitsubishi Heavy Ind Ltd 放射性物質の除去状態測定方法
JPH02504529A (ja) * 1987-05-27 1990-12-20 コモンウェルス サイエンティフィック アンド インダストリアル リサーチ オーガニゼーション 金属類の電解回収の制御方法
DE3737489A1 (de) * 1987-11-02 1989-05-18 Schering Ag Verfahren zur kontrolle und/oder steuerung von metallisierungsprozessen und vorrichtung hierfuer
US4886552A (en) * 1988-09-09 1989-12-12 United Technologies Corporation Method for monitoring the removal of a metallic contaminant from the surface of a metallic article
US6684172B1 (en) * 2001-12-27 2004-01-27 Advanced Micro Devices, Inc. Sensor to predict void free films using various grating structures and characterize fill performance
US20130037405A1 (en) * 2007-10-05 2013-02-14 Intermolecular Inc. Method and System for Combinatorial Electroplating and Characterization

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3019336A (en) * 1956-06-25 1962-01-30 American Can Co Method of and apparatus for measuring coating amounts
US3147169A (en) * 1961-02-23 1964-09-01 Grumman Aircraft Engineering C Apparatus for determining thickness during chemical milling
US3503817A (en) * 1966-01-24 1970-03-31 Fmc Corp Process for controlling metal etching operation
US3475242A (en) * 1966-12-19 1969-10-28 Fmc Corp Process and apparatus for controlling metal etching operation
DE2039634B2 (de) * 1970-08-10 1972-03-09 Grundig Emv Verfahren zur messung der abscheidungsgeschwindigkeit von metallabscheidungen in reduktiven und galvanischen metalli sierungsbaedern sowie eine vorrichtung zur durchfuehrung dieses verfahrens

Also Published As

Publication number Publication date
AU7881475A (en) 1976-09-09
JPS50129430A (nl) 1975-10-13
FR2263494B1 (nl) 1978-04-21
DE2410927B2 (de) 1978-03-09
FR2263494A1 (nl) 1975-10-03
ZA75712B (en) 1976-01-28
IT1045537B (it) 1980-05-10
GB1471121A (en) 1977-04-21
AU504747B2 (en) 1979-10-25
US4073964A (en) 1978-02-14
CA1022279A (en) 1977-12-06
DE2410927C3 (de) 1978-11-16
ES436462A1 (es) 1977-01-01
ATA92075A (de) 1980-01-15
CH615502A5 (nl) 1980-01-31
SE7502246L (nl) 1975-09-08
DE2410927A1 (de) 1975-09-18
ES435290A1 (es) 1976-12-01
JPS5831521B2 (ja) 1983-07-06
AT358292B (de) 1980-08-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL7408519A (nl) Werkwijze voor het meten van de concentratie van substraten en inrichting voor het toepassen van deze werkwijze.
NL7709039A (nl) Werkwijze en inrichting voor het meten van anti- genen en antilichamen.
NL7809681A (nl) Werkwijze voor het inductief meten van de doorstroming en daartoe geschikte inrichting.
NL7602637A (nl) Werkwijze en inrichting voor het bepalen van de eigenschappen van visceuze vloeibare media.
NL7415343A (nl) Werkwijze en inrichting voor het ultrasonoor meten van de dikte van een voorwerp.
NL7514297A (nl) Werkwijze en inrichting voor het bepalen van de eigenschappen van aardlagen.
NL7512706A (nl) Elektro-optische werkwijze en inrichting voor het bepalen van een afmeting van een voorwerp.
NL7712022A (nl) Werkwijze en inrichting voor het aantonen van microbe-ziekteverwekkers.
NL7600377A (nl) Werkwijze en inrichting voor het afkoelen van voorwerpen of stoffen.
NL7603871A (nl) Werkwijze en inrichting voor het samenvoegen van twee vloeistoffen met verschillend soortelijk ge- wicht.
NL7514394A (nl) Werkwijze alsmede systeem voor het bepalen van de plaats van een vliegtuig.
NL7502625A (nl) Werkwijze en inrichting voor het meten van laagdikten en/of afscheidingssnelheden bij stroomloze en galvanische afscheidingsprocessen.
NL7506162A (nl) Werkwijze voor het aantonen van antilichamen.
NL7612774A (nl) Werkwijze en inrichting voor het selectief galvanisch afscheiden van metalen.
NL7510997A (nl) Temperatuurdetectieinrichting en werkwijze voor het vervaardigen van een dergelijke inrichting.
NL7609674A (nl) Omvormer en werkwijze voor het laten werken van deze omvormer.
NL7609135A (nl) Werkwijze en inrichting voor het mechanisch afscheiden van vloeistof.
NL7512714A (nl) Werkwijze en inrichting voor het bepalen van de hardheid van materialen.
NL7610075A (nl) Werkwijze en inrichting voor het dynamisch meten van bedrijfswaarden van een motorvoertuig.
NL7502889A (nl) Werkwijze en inrichting voor het afscheiden van niet-magnetische geleidende metalen.
NL185306C (nl) Werkwijze en inrichting voor het meten van de dikte van metalen films met behulp van een roentgenstralenfluorescentiestelsel.
NL7605971A (nl) Werkwijze en inrichting voor het continu meten van de gloeitoestand van draden of strippen.
NL7504388A (nl) Werkwijze en inrichting voor het navigeren van vaartuigen.
NL7507707A (nl) Werkwijze en inrichting voor het transporteren van metaalplaten van verschillende afmetingen.
NL7704205A (nl) Werkwijze en inrichting voor het aantonen van insluitingen in kristallen.

Legal Events

Date Code Title Description
BA A request for search or an international-type search has been filed
BB A search report has been drawn up
BC A request for examination has been filed
A85 Still pending on 85-01-01
BV The patent application has lapsed