NL7414104A - Werkwijze en inrichting voor het bepalen van oppervlakteverhogingen. - Google Patents

Werkwijze en inrichting voor het bepalen van oppervlakteverhogingen.

Info

Publication number
NL7414104A
NL7414104A NL7414104A NL7414104A NL7414104A NL 7414104 A NL7414104 A NL 7414104A NL 7414104 A NL7414104 A NL 7414104A NL 7414104 A NL7414104 A NL 7414104A NL 7414104 A NL7414104 A NL 7414104A
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
determining surface
surface elevations
elevations
determining
Prior art date
Application number
NL7414104A
Other languages
English (en)
Dutch (nl)
Original Assignee
Calspan Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Calspan Corp filed Critical Calspan Corp
Publication of NL7414104A publication Critical patent/NL7414104A/xx

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
    • G01N23/22—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
    • G01N23/225—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material using electron or ion
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B15/00—Measuring arrangements characterised by the use of electromagnetic waves or particle radiation, e.g. by the use of microwaves, X-rays, gamma rays or electrons
    • G01B15/04—Measuring arrangements characterised by the use of electromagnetic waves or particle radiation, e.g. by the use of microwaves, X-rays, gamma rays or electrons for measuring contours or curvatures
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B15/00—Measuring arrangements characterised by the use of electromagnetic waves or particle radiation, e.g. by the use of microwaves, X-rays, gamma rays or electrons
    • G01B15/08—Measuring arrangements characterised by the use of electromagnetic waves or particle radiation, e.g. by the use of microwaves, X-rays, gamma rays or electrons for measuring roughness or irregularity of surfaces
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
    • H01J37/28—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes with scanning beams

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
  • Length-Measuring Devices Using Wave Or Particle Radiation (AREA)
NL7414104A 1973-11-09 1974-10-29 Werkwijze en inrichting voor het bepalen van oppervlakteverhogingen. NL7414104A (nl)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US414568A US3876879A (en) 1973-11-09 1973-11-09 Method and apparatus for determining surface characteristics incorporating a scanning electron microscope

Publications (1)

Publication Number Publication Date
NL7414104A true NL7414104A (nl) 1975-05-13

Family

ID=23642012

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL7414104A NL7414104A (nl) 1973-11-09 1974-10-29 Werkwijze en inrichting voor het bepalen van oppervlakteverhogingen.

Country Status (6)

Country Link
US (1) US3876879A (cg-RX-API-DMAC7.html)
JP (1) JPS5511204B2 (cg-RX-API-DMAC7.html)
DE (1) DE2452826B2 (cg-RX-API-DMAC7.html)
FR (1) FR2250977A1 (cg-RX-API-DMAC7.html)
GB (1) GB1485449A (cg-RX-API-DMAC7.html)
NL (1) NL7414104A (cg-RX-API-DMAC7.html)

Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DD124091A1 (cg-RX-API-DMAC7.html) * 1975-09-24 1977-02-02
US4144488A (en) * 1977-12-22 1979-03-13 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Investigation of near-surface electronic properties in semiconductors by electron beam scanning
US4142145A (en) * 1977-12-22 1979-02-27 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Method for determining conduction-band edge and electron affinity in semiconductors
CA1202508A (en) * 1981-05-07 1986-04-01 Norio Murata Protective packaging assembly and method for optical fibers
DE3306194A1 (de) * 1982-02-25 1983-09-08 Mitsubishi Denki K.K., Tokyo Verfahren zur pruefung von schraubenoberflaechen auf fehler und vorrichtung zu seiner durchfuehrung
US4475037A (en) * 1982-05-11 1984-10-02 International Business Machines Corporation Method of inspecting a mask using an electron beam vector scan system
JPS6089050A (ja) * 1983-10-20 1985-05-18 Toshiba Corp ストロボ走査電子顕微鏡
US4733074A (en) * 1985-04-17 1988-03-22 Hitachi, Ltd. Sample surface structure measuring method
US4788431A (en) * 1987-04-10 1988-11-29 The Perkin-Elmer Corporation Specimen distance measuring system
JPH0663758B2 (ja) * 1987-10-14 1994-08-22 株式会社東芝 パターンの測定方法
DE3811673A1 (de) * 1988-04-07 1989-10-19 Herbert Dr Konitz Rasterelektronenmikroskopisches verfahren zum vermessen der profilierung, insbesondere der rauhigkeit, von oberflaechen und vorrichtung zur durchfuehrung des verfahrens
FR2634061B1 (fr) * 1988-07-06 1991-04-05 Commissariat Energie Atomique Evaporateur a bombardement electronique muni de moyens de recuperation des electrons retrodiffuses
US5150392A (en) * 1991-09-09 1992-09-22 International Business Machines Corporation X-ray mask containing a cantilevered tip for gap control and alignment
US5734164A (en) * 1996-11-26 1998-03-31 Amray, Inc. Charged particle apparatus having a canted column
US6969852B2 (en) * 2004-03-22 2005-11-29 General Phoshonix Llc Method of evaluating of a scanning electron microscope for precise measurements
JP2005286161A (ja) * 2004-03-30 2005-10-13 Ebara Corp 形状修復方法及び装置、並びにそれらを用いた半導体デバイス製造方法
JP4538421B2 (ja) * 2006-02-24 2010-09-08 株式会社日立ハイテクノロジーズ 荷電粒子線装置

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1195271A (en) * 1967-02-16 1970-06-17 Cambridge Instr Co Ltd Electron Beam Apparatus
US3549999A (en) * 1968-06-05 1970-12-22 Gen Electric Method and apparatus for testing circuits by measuring secondary emission electrons generated by electron beam bombardment of the pulsed circuit

Also Published As

Publication number Publication date
DE2452826A1 (de) 1975-05-15
JPS5081175A (cg-RX-API-DMAC7.html) 1975-07-01
DE2452826B2 (de) 1979-10-04
GB1485449A (en) 1977-09-14
FR2250977A1 (cg-RX-API-DMAC7.html) 1975-06-06
US3876879A (en) 1975-04-08
JPS5511204B2 (cg-RX-API-DMAC7.html) 1980-03-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL7500281A (nl) Inrichting voor het bepalen van het profiel en oppervlak.
NL7513642A (nl) Bandverbinding en werkwijze en inrichting voor het vormen daarvan.
NL7409276A (nl) Werkwijze en inrichting voor het reinigen van plaatvormige voorwerpen.
NL7406579A (nl) Werkwijze voor het optisch bepalen van een voorwerp en inrichting voor het toepassen van deze werkwijze.
NL7512706A (nl) Elektro-optische werkwijze en inrichting voor het bepalen van een afmeting van een voorwerp.
NL7602637A (nl) Werkwijze en inrichting voor het bepalen van de eigenschappen van visceuze vloeibare media.
NL7514297A (nl) Werkwijze en inrichting voor het bepalen van de eigenschappen van aardlagen.
NL7610894A (nl) Werkwijze en inrichting voor het uitvoeren van ofthalmische metingen.
NL7514060A (nl) Werkwijze en inrichting voor het bepalen van aard- lagen.
NL7412573A (nl) Inrichting en werkwijze voor het polijsten van een geheel bolvormig oppervlak.
NL7506211A (nl) Werkwijze en inrichting voor het capitonneren.
NL7414104A (nl) Werkwijze en inrichting voor het bepalen van oppervlakteverhogingen.
NL7501489A (nl) Inrichting voor het bepalen van antigenen.
NL7512714A (nl) Werkwijze en inrichting voor het bepalen van de hardheid van materialen.
NL7415687A (nl) Werkwijze en inrichting voor het luchtledig maken van houders.
NL7410780A (nl) Inrichting voor het bepalen van oppervlaktevari-
NL7416158A (nl) Werkwijze en inrichting voor het detecteren van kortsluitingen.
NL7414822A (nl) Werkwijze en inrichting voor het bedrukken van vezelmaterialen.
NL7409107A (nl) Werkwijze en inrichting voor het inslijpen van groeven.
NL7415399A (nl) Werkwijze en inrichting voor het offsetsteen- drukken.
NL7503068A (nl) Werkwijze en inrichting voor het bekleden van flessen.
NL7413921A (nl) Werkwijze en inrichting voor het ontstrengelen van vezelwerk.
NL7403678A (nl) Werkwijze en inrichting voor het spoelen van voorwerpen.
NL7414176A (nl) Werkwijze en inrichting voor het behandelen van
NL7416159A (nl) Werkwijze en inrichting voor het detecteren van kortsluitingen.