NL2010418C2 - Support module for lithography system. - Google Patents

Support module for lithography system. Download PDF

Info

Publication number
NL2010418C2
NL2010418C2 NL2010418A NL2010418A NL2010418C2 NL 2010418 C2 NL2010418 C2 NL 2010418C2 NL 2010418 A NL2010418 A NL 2010418A NL 2010418 A NL2010418 A NL 2010418A NL 2010418 C2 NL2010418 C2 NL 2010418C2
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
support
spring
leaf springs
frame
support module
Prior art date
Application number
NL2010418A
Other languages
English (en)
Inventor
Alje Geert Dunning
Original Assignee
Mapper Lithography Ip Bv
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mapper Lithography Ip Bv filed Critical Mapper Lithography Ip Bv
Priority to NL2010418A priority Critical patent/NL2010418C2/en
Priority to NL2012384A priority patent/NL2012384C2/en
Application granted granted Critical
Publication of NL2010418C2 publication Critical patent/NL2010418C2/en

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70808Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
    • G03F7/70816Bearings
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70716Stages
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70858Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
    • G03F7/709Vibration, e.g. vibration detection, compensation, suppression or isolation

Claims (25)

1. Ondersteuningsmodule voor het ondersteunen van een last, waarbij de last bij voorkeur een doel omvat om van een patroon te worden voorzien in een lithografiesysteem, waarbij de module omvat een ondersteuning voor het ondersteunen van de last, drie ondersteuningsstructuren waarbij de ondersteuningsstructuren elk omvatten: - een frame, - een kracht-compensatie veersamenstel dat de ondersteuning verbindt met het frame voor ten minste het ten dele ondersteunen van de ondersteuning en/of de last; waarbij het kracht-compensatie veersamenstel omvat een eerste veer met een negatieve stijfheidkarakteristiek over een vooraf bepaald bewegingsbereik van de veer, en een tweede veer met een positieve stijfheid, met het kenmerk dat de frames van elk van de drie ondersteuningsstructuren in hoofdzaak stijf aan elkaar zijn bevestigd, en dat de ondersteuning is verbonden met de drie kracht-compensatie veersamenstellen om beweegbaar te zijn ten opzichte van de frames.
2. Ondersteuningsmodule volgens conclusie 1, waarbij de frames samen een driehoekig prismavormig volume definiëren, waarbij de kracht-compensatie veersamenstellen zijn gerangschikt bij in hoofdzaak verschillende buitenzijden van het driehoekige prismavormige volume en in hoofdzaak parallelle richtingen van compressie/uitrekking hebben in hoofdzaak langs middenlijnen van de zijden.
3. Ondersteuningsmodule volgens conclusie 1 of conclusie 2, waarbij elk frame van een ondersteuningsstructuur van de drie ondersteuningsstructuren een middensectie omvat en twee beensecties die aan weerszijden van de middensectie zijn gerangschikt en zich in hoofdzaak dwars op de middensectie uitstrekken, waarbij de eerste veer aan weerszijden is verbonden met een respectievelijke beensectie en op afstand is geplaatst van de middensectie, en waarbij de tweede veer met de middensectie is verbonden en op afstand is geplaatst van de beensecties, of vice versa.
4. Ondersteuningsmodule volgens een der voorgaande conclusies, verder omvattend een basis en een flexibele montering, waarbij de flexibele montering de basis verbindt met elk van de frames, en waarbij de flexibele montering is ingericht om beweging van het frame ten opzichte van de basis in een vlak parallel aan de basis toe te staan.
5. Ondersteuningsmodule volgens conclusie 4, waarbij de flexibele montering flexibele stijlen omvat die zich in hoofdzaak normaal aan de basis uitstrekken.
6. Ondersteuningsmodule volgens conclusie 5 wanneer afhankelijk van conclusie 3, waarbij de beensecties van de frames een opneemruimte omvatten voor het ten minste ten dele daarin opnemen van een stijl van de flexibele stijlen langs een substantieel gedeelte van de lengte van de beensecties, waarbij de stijl in hoofdzaak vrij is om in de opneemruimte te buigen.
7. Ondersteuningsmodule volgens een der voorgaande conclusies, waarbij de eerste veer en de tweede veer van elke ondersteuningsstructuur zijn gerangschikt om in een gezamenlijk vlak te bewegen, bij voorkeur langs een in hoofdzaak rechte lijn.
8. Ondersteuningsmodule volgens een der voorgaande conclusies, waarbij de eerste veren elk één of meer bi-stabiele knikbalken omvatten.
9. Ondersteuningsmodule volgens een der voorgaande conclusies, waarbij de tweede veren elk één of meer bladveren omvatten.
10. Ondersteuningsmodule volgens conclusie 9, waarbij de bladveren van een tweede veer in een ruitconfiguratie zijn gerangschikt.
11. Ondersteuningsmodule volgens conclusie 10, waarbij de tweede veer vier hoeksecties omvat die de bladveren zodanig verbinden dat de bladveren in elk kwadrant van de ruitvorm zijn gerangschikt om in hoofdzaak parallel te bewegen.
12. Ondersteuningsmodule volgens een der voorgaande conclusies, waarbij in elke ondersteuningsstructuur de eerste veer en de tweede veer aan elkaar zijn bevestigd, bij voorkeur bij een middenpunt van de eerste veer.
13. Ondersteuningsmodule volgens een der voorgaande conclusies, verder omvattend een veelvoud aan motoren ingericht om de ondersteuning ten opzichte van het frame te positioneren, waarbij het veelvoud aan motoren bij voorkeur Lorentz motoren omvat.
14. Ondersteuningsmodule volgens een der voorgaande conclusies, waarbij de ondersteuningsstructuren monolithische ondersteuningsstructuren zijn en/of waarbij de module als een monolithische structuur is gevormd.
15. Ondersteuningsstructuur omvattend een frame en een ondersteuning voor het ondersteunen van een last, waarbij de ondersteuning ten opzichte van het frame beweegbaar is, waarbij de ondersteuningsstructuur verder een kracht-compensatie veersamenstel omvat dat de ondersteuning verbindt met het frame om de ondersteuning en/of de last ten minste ten dele te ondersteunen, waarbij het kracht-compensatie veersamenstel omvat een eerste veer met een negatieve stijfheidkarakteristiek over een vooraf bepaald bewegingsbereik van de veer, en een tweede veer met een positieve stijfheid, waarbij de eerste veer één of meer bi-stabiele knikbalken omvat, met het kenmerk, dat de tweede veer één of meer bladveren omvat, waarbij de knikbalken en de bladveren zijn gerangschikt om te bewegen en/of te buigen in een in hoofdzaak gezamenlijk vlak.
16. Ondersteuningsstructuur volgens conclusie 15, waarbij de bladveren zijn gerangschikt in een eerste, tweede, derde en vierde verzameling van bladveren, waarbij de bladveren van de eerste verzameling bij een eerste eind zijn verbonden met een eerste hoeksectie en bij een tegenovergelegen tweede eind met een tweede hoeksectie, waarbij bladveren van de tweede verzameling bij een eerste eind zijn verbonden met de eerste hoeksectie en bij een tegenovergelegen tweede eind met een derde hoeksectie, waarbij bladveren van de derde verzameling bij een eerste eind zijn verbonden met een vierde hoeksectie en bij een tegenovergelegen tweede eind met de tweede hoeksectie, waarbij bladveren van de vierde verzameling bij een eerste eind zijn verbonden met de vierde hoeksectie en bij een tegenovergelegen tweede eind met de derde hoeksectie, waarbij de eerste, tweede en derde hoeksecties zijn ingericht om in parallelle richtingen ten opzichte van het frame te bewegen.
17. Ondersteuningsstructuur volgens conclusie 16, waarbij de vierde hoeksectie stijf is verbonden met het frame.
18. Ondersteuningsstructuur volgens conclusie 16 of conclusie 17, waarbij de eerste hoeksectie is verbonden met de eerste veer.
19. Ondersteuningsstructuur volgens een der conclusies 16-18, waarbij de bladveren alle een in hoofdzaak gelijke lengte hebben en/of in hoofdzaak gelijke veerkarakteristieken hebben.
20. Ondersteuningsstructuur volgens een der conclusies 16-19, waarbij elke verzameling van bladveren ten minste twee bladveren omvat, waarbij de bladveren binnen elke verzameling in hoofdzaak parallel aan elkaar zijn.
21. Ondersteuningsstructuur volgens een der conclusies 16-20, waarbij de bladveren genest zijn gerangschikt in in hoofdzaak ruitvormige configuraties.
22. Lithografiesysteem omvattend een ondersteuningsmodule volgens een der conclusies 1-14.
23. Lithografiesysteem volgens conclusie 22, verder omvattend een vacuümkamer, waarbij de ondersteuningsmodule binnen in de vacuümkamer is gerangschikt.
24. Lithografiesysteem volgens conclusie 22 of conclusie 23, verder omvattend een positioneringsysteem ingericht om de ondersteuningsmodule binnen in het lithografiesysteem te positioneren.
25. Lithografiesysteem volgens een der conclusies 22-24, verder omvattend een optische kolom ingericht voor het projecteren van één of meer stralen op een doel zoals een wafer, waarbij de ondersteuningsmodule is ingericht om het doel in hoofdzaak uitgelijnd met de optische kolom te ondersteunen.
NL2010418A 2013-03-11 2013-03-11 Support module for lithography system. NL2010418C2 (en)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL2010418A NL2010418C2 (en) 2013-03-11 2013-03-11 Support module for lithography system.
NL2012384A NL2012384C2 (en) 2013-03-11 2014-03-07 Support module for lithography system.

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL2010418 2013-03-11
NL2010418A NL2010418C2 (en) 2013-03-11 2013-03-11 Support module for lithography system.

Publications (1)

Publication Number Publication Date
NL2010418C2 true NL2010418C2 (en) 2014-09-15

Family

ID=48366538

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL2010418A NL2010418C2 (en) 2013-03-11 2013-03-11 Support module for lithography system.
NL2012384A NL2012384C2 (en) 2013-03-11 2014-03-07 Support module for lithography system.

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL2012384A NL2012384C2 (en) 2013-03-11 2014-03-07 Support module for lithography system.

Country Status (1)

Country Link
NL (2) NL2010418C2 (nl)

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5310157A (en) * 1989-08-16 1994-05-10 Minus K Technology, Inc. Vibration isolation system
EP1513022A1 (en) * 2003-09-04 2005-03-09 ASML Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US20110169516A1 (en) * 2010-01-12 2011-07-14 Formfactor, Inc. Probe element having a substantially zero stiffness and applications thereof
CN102678804A (zh) * 2012-05-10 2012-09-19 上海交通大学 滑动梁和弹簧组合非线性超低频隔振器

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10521A (ja) * 1996-06-07 1998-01-06 Nikon Corp 支持装置
CN102506110B (zh) * 2011-10-25 2013-10-30 清华大学 一种基于负刚度原理的永磁低频单自由度隔振机构

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5310157A (en) * 1989-08-16 1994-05-10 Minus K Technology, Inc. Vibration isolation system
EP1513022A1 (en) * 2003-09-04 2005-03-09 ASML Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US20110169516A1 (en) * 2010-01-12 2011-07-14 Formfactor, Inc. Probe element having a substantially zero stiffness and applications thereof
CN102678804A (zh) * 2012-05-10 2012-09-19 上海交通大学 滑动梁和弹簧组合非线性超低频隔振器

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
IBRAHIM ET AL: "Recent advances in nonlinear passive vibration isolators", JOURNAL OF SOUND & VIBRATION, LONDON, GB, vol. 314, no. 3-5, 22 July 2008 (2008-07-22), pages 371 - 452, XP022649576, ISSN: 0022-460X, [retrieved on 20080307], DOI: 10.1016/J.JSV.2008.01.014 *

Also Published As

Publication number Publication date
NL2012384C2 (en) 2014-11-10
NL2012384A (en) 2014-09-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2013039401A1 (en) Support module for lithography system
JP2014532301A5 (nl)
CA2064902C (en) Vibration isolation system
Preumont et al. A six-axis single-stage active vibration isolator based on Stewart platform
US5310157A (en) Vibration isolation system
JP4217210B2 (ja) 高周波数の多自由度振動試験機械
JP2009507359A (ja) 能動的に振動を減衰するためのシステムとその方法
JP5123436B2 (ja) 光学素子のための支持要素
US20070273074A1 (en) Method And Apparatus For Vibration Isolation
US20180199705A1 (en) Desk with stability feature
US5549270A (en) Vibration isolation system
NL2010418C2 (en) Support module for lithography system.
JP4727151B2 (ja) 除振方法およびその装置
JP2004251317A (ja) 除振装置
JP7000559B2 (ja) デバイスの直線運動を提供する装置及び方法
CN116877613A (zh) 基于屈曲梁结构的准零刚度装置及六自由度准零刚度装置
Collette et al. Active vibration isolation of high precision machines
EP1241371A2 (en) Vibration isolation system
Hoque et al. An active micro vibration isolator with zero-power controlled magnetic suspension technology
CN100465473C (zh) 包括惯性基准质量的用于主动隔振的致动器装置
WO2023043415A1 (en) Vibration isolation system adjustable in three axes
WO1994013999A1 (en) Vibration isolation system
Vervoordeldonk et al. Development of a novel active isolation concept
Seinhorst et al. Feasibility of Active Material Vibration Suppression in a Large Stroke Flexure Hinge
CN115388117A (zh) 水平方向准零刚度隔振器

Legal Events

Date Code Title Description
MM Lapsed because of non-payment of the annual fee

Effective date: 20160401