NL2006627A - Reflective optical components for lithographic apparatus and device manufacturing method. - Google Patents

Reflective optical components for lithographic apparatus and device manufacturing method. Download PDF

Info

Publication number
NL2006627A
NL2006627A NL2006627A NL2006627A NL2006627A NL 2006627 A NL2006627 A NL 2006627A NL 2006627 A NL2006627 A NL 2006627A NL 2006627 A NL2006627 A NL 2006627A NL 2006627 A NL2006627 A NL 2006627A
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
radiation
metal
euv
reflective
layer
Prior art date
Application number
NL2006627A
Other languages
English (en)
Inventor
Marianna Silova
Original Assignee
Asml Netherlands Bv
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Asml Netherlands Bv filed Critical Asml Netherlands Bv
Priority to NL2006627A priority Critical patent/NL2006627A/en
Publication of NL2006627A publication Critical patent/NL2006627A/en

Links

Landscapes

  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Claims (1)

1. Een lithografieinrichting omvattende: een belichtinginrichting ingericht voor het leveren van een stralingsbundel; een drager geconstrueerd voor het dragen van een patroneerinrichting, welke patroneerinrichting in staat is een patroon aan te brengen in een doorsnede van de stralingsbundel ter vorming van een gepatroneerde stralingsbundel; een substraattafel geconstrueerd om een substraat te dragen; en een projectieinrichting ingericht voor het projecteren van de gepatroneerde stralingsbundel op een doelgebied van het substraat, met het kenmerk, dat de substraattafel is ingericht voor het positioneren van het doelgebied van het substraat in een brandpuntsvlak van de projectieinrichting.
NL2006627A 2011-04-19 2011-04-19 Reflective optical components for lithographic apparatus and device manufacturing method. NL2006627A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL2006627A NL2006627A (en) 2011-04-19 2011-04-19 Reflective optical components for lithographic apparatus and device manufacturing method.

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL2006627 2011-04-19
NL2006627A NL2006627A (en) 2011-04-19 2011-04-19 Reflective optical components for lithographic apparatus and device manufacturing method.

Publications (1)

Publication Number Publication Date
NL2006627A true NL2006627A (en) 2011-06-09

Family

ID=44484734

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL2006627A NL2006627A (en) 2011-04-19 2011-04-19 Reflective optical components for lithographic apparatus and device manufacturing method.

Country Status (1)

Country Link
NL (1) NL2006627A (nl)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6005069B2 (ja) かすめ入射リフレクタ、リソグラフィ装置、かすめ入射リフレクタ製造方法、およびデバイス製造方法
JP5732525B2 (ja) コレクタミラーアセンブリおよび極端紫外線放射の生成方法
US9472313B2 (en) Reflective optical components for lithographic apparatus and device manufacturing method
JP5732393B2 (ja) リソグラフィ装置、およびデバイス製造方法
WO2013152921A1 (en) Pellicle, reticle assembly and lithographic apparatus
NL2002838A1 (nl) Radiation system, radiation collector, radiation beam conditioning system, spectral purity filter for a radiation system and method of forming a spectral purity filter.
NL2008391A (en) Radiation source-collector and lithographic apparatus.
JP5989677B2 (ja) 基板サポートおよびリソグラフィ装置
JP5717765B2 (ja) スペクトル純度フィルタ
US20120006258A1 (en) Hydrogen radical generator
JP2010045355A (ja) 放射源、リソグラフィ装置、および、デバイス製造方法
CN114450636A (zh) 检测辐射束的光刻设备和方法
NL2006627A (en) Reflective optical components for lithographic apparatus and device manufacturing method.
NL2006647A (en) Grazing incidence reflectors, lithographic apparatus, methods for manufacturing a grazing incidence reflector and methods for manufacturing a device.
NL2010626A (en) Radiation source-collector and method for refurbishment.
NL2005516A (en) Lithographic apparatus and device manufacturing method.
NL2004984A (en) Spectral purity filter.
NL2005763A (en) Lithographic apparatus.
NL2004992A (en) Spectral purity filter.
NL2006106A (en) Lithographic apparatus.
NL2006551A (en) Hydrogen radical generator.
NL2006602A (en) Lithographic apparatus and device manufacturing method.
NL2010236A (en) Lithographic apparatus and method.
NL2006563A (en) Lithographic apparatus and method.