NL194745B - Inrichting voor een geladen deeltjesbundel. - Google Patents

Inrichting voor een geladen deeltjesbundel.

Info

Publication number
NL194745B
NL194745B NL9400393A NL9400393A NL194745B NL 194745 B NL194745 B NL 194745B NL 9400393 A NL9400393 A NL 9400393A NL 9400393 A NL9400393 A NL 9400393A NL 194745 B NL194745 B NL 194745B
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
charged particle
particle beam
charged
particle
Prior art date
Application number
NL9400393A
Other languages
English (en)
Other versions
NL194745C (nl
NL9400393A (nl
Inventor
Shigeo Okayama
Mutsuo Ogura
Masanori Komuro
Hiroshi Hiroshima
Original Assignee
Agency Ind Science Techn
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Agency Ind Science Techn filed Critical Agency Ind Science Techn
Publication of NL9400393A publication Critical patent/NL9400393A/nl
Publication of NL194745B publication Critical patent/NL194745B/nl
Application granted granted Critical
Publication of NL194745C publication Critical patent/NL194745C/nl

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02—Details
    • H01J37/20—Means for supporting or positioning the objects or the material; Means for adjusting diaphragms or lenses associated with the support
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02—Details
    • H01J37/18—Vacuum locks ; Means for obtaining or maintaining the desired pressure within the vessel
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/20—Positioning, supporting, modifying or maintaining the physical state of objects being observed or treated
    • H01J2237/2005—Seal mechanisms

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Electron Beam Exposure (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
NL9400393A 1993-03-25 1994-03-11 Inrichting voor een geladen deeltjesbundel. NL194745C (nl)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9079293 1993-03-25
JP5090792A JPH0719554B2 (ja) 1993-03-25 1993-03-25 荷電ビーム装置

Publications (3)

Publication Number Publication Date
NL9400393A NL9400393A (nl) 1994-10-17
NL194745B true NL194745B (nl) 2002-09-02
NL194745C NL194745C (nl) 2003-01-07

Family

ID=14008442

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL9400393A NL194745C (nl) 1993-03-25 1994-03-11 Inrichting voor een geladen deeltjesbundel.

Country Status (4)

Country Link
US (1) US5493125A (nl)
JP (1) JPH0719554B2 (nl)
DE (1) DE4408523C2 (nl)
NL (1) NL194745C (nl)

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3774558B2 (ja) * 1998-01-23 2006-05-17 日本電子株式会社 荷電粒子ビーム装置における試料装置
JP2002175770A (ja) 2000-12-08 2002-06-21 Hitachi Ltd 気体排気用試料室及びそれを用いた回路パターン形成装置
JP3886777B2 (ja) * 2001-11-02 2007-02-28 日本電子株式会社 電子線照射装置および方法
JP4262158B2 (ja) * 2004-07-13 2009-05-13 株式会社日立ハイテクサイエンスシステムズ 低真空走査電子顕微鏡
JP4875886B2 (ja) 2005-11-22 2012-02-15 株式会社日立ハイテクノロジーズ 荷電粒子線装置
JP2008166062A (ja) * 2006-12-27 2008-07-17 Hitachi High-Technologies Corp 真空容器を持つ装置
WO2008098084A1 (en) * 2007-02-06 2008-08-14 Fei Company High pressure charged particle beam system
EP2061067A3 (en) * 2007-11-13 2010-04-07 Carl Zeiss SMT Limited Beam device and system comprising a particle beam device and an optical microscope
US9679741B2 (en) * 2010-11-09 2017-06-13 Fei Company Environmental cell for charged particle beam system
US10614995B2 (en) * 2016-06-27 2020-04-07 Cameca Instruments, Inc. Atom probe with vacuum differential
CN106783493B (zh) * 2016-12-01 2018-07-10 聚束科技（北京）有限公司 一种真空气氛处理装置、样品观测系统及方法

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1052542A (nl) * 1964-01-21
US3787696A (en) * 1972-03-15 1974-01-22 Etec Corp Scanning electron microscope electron-optical column construction
US3939353A (en) * 1972-05-22 1976-02-17 Kabushiki Kaisha Akashi Seisakusho Electron microscope specimen mounting apparatus
US4584479A (en) * 1982-10-19 1986-04-22 Varian Associates, Inc. Envelope apparatus for localized vacuum processing
US4524261A (en) * 1983-09-19 1985-06-18 Varian Associates, Inc. Localized vacuum processing apparatus
US4560880A (en) * 1983-09-19 1985-12-24 Varian Associates, Inc. Apparatus for positioning a workpiece in a localized vacuum processing system
JPS6089922A (ja) * 1983-10-24 1985-05-20 Teru Barian Kk 電子ビ−ム照射装置
US4818838A (en) * 1988-01-11 1989-04-04 The Perkin-Elmer Corporation Apparatus for preselecting and maintaining a fixed gap between a workpiece and a vacuum seal apparatus in particle beam lithography systems
US4833362A (en) * 1988-04-19 1989-05-23 Orchid One Encapsulated high brightness electron beam source and system
JPH02139842A (ja) * 1988-11-18 1990-05-29 Nikon Corp 電子線装置
NL9000056A (nl) * 1990-01-10 1991-08-01 Philips Nv Afsluitinrichting voor deeltjesbundel apparaat.

Also Published As

Publication number Publication date
DE4408523C2 (de) 2002-11-28
DE4408523A1 (de) 1994-09-29
JPH0719554B2 (ja) 1995-03-06
JPH06283124A (ja) 1994-10-07
NL194745C (nl) 2003-01-07
US5493125A (en) 1996-02-20
NL9400393A (nl) 1994-10-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL194536B (nl) Verankeringsinrichting voor een leiding naar de hersenen.
DE69133063D1 (de) Ladungsträgerstrahlgerät
NL194246B (nl) Inrichting voor het monitoren van een coating.
FR2708500B1 (fr) Robot de soudage.
DE59108193D1 (de) Teilchenstrahlgerät
NL1011609A1 (nl) Opstelling voor de detectie van schijfvormige objecten in een casette.
EP0636892A3 (en) Electrostatic voltmeter.
DE69110415D1 (de) Schweissroboter.
DE69406739D1 (de) Elektronenstrahlgerät
NL1010984A1 (nl) Ondersteuningsinrichting voor een bouwkundige afscherming.
NL194745B (nl) Inrichting voor een geladen deeltjesbundel.
NL1004517A1 (nl) Slotinrichting voor een voertuig.
GB2321555B (en) Charged particle beam apparatus
NL1000219C2 (nl) Bediening voor apparatuur.
NL1000548C2 (nl) Systeem voor het genereren van een wachtwoord.
DE68911987D1 (de) Ladungsteilchenstrahlgerät.
MA22803A1 (fr) N-cyanopyridazinones herbicides.
NL194785B (nl) Turbine voor een korrelstraalmachine.
NL193235B (nl) Bevestigingsklemstuk voor een voetstuk van een schakelkast.
NL194670B (nl) Slingerdempingssysteem voor een schip.
NL194770B (nl) Werkwijze voor seismisch onderzoek onder gebruikmaking van een put.
NL193287B (nl) Snelkoppeling voor een trus-systeem.
NL1000038C2 (nl) Hydraulische kantelinrichting voor een kabine.
NL192383B (nl) Transportsamenstel zoals voor personen, alsmede overbruggingsinrichting hierbij.
NL1005621A1 (nl) Aansluiting voor een kolk.

Legal Events

Date Code Title Description
A1A A request for search or an international-type search has been filed
BB A search report has been drawn up
BC A request for examination has been filed
V1 Lapsed because of non-payment of the annual fee

Effective date: 20051001