NL190496B - Belichtingsstelsel voor het achtereenvolgens belichten van halfgeleiderplakken. - Google Patents

Belichtingsstelsel voor het achtereenvolgens belichten van halfgeleiderplakken.

Info

Publication number
NL190496B
NL190496B NLAANVRAGE8501935,A NL8501935A NL190496B NL 190496 B NL190496 B NL 190496B NL 8501935 A NL8501935 A NL 8501935A NL 190496 B NL190496 B NL 190496B
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
exposure
subsequently
semiconductor plates
exposure system
semiconductor
Prior art date
Application number
NLAANVRAGE8501935,A
Other languages
English (en)
Other versions
NL190496C (nl
NL8501935A (nl
Original Assignee
Ushio Electric Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ushio Electric Inc filed Critical Ushio Electric Inc
Publication of NL8501935A publication Critical patent/NL8501935A/nl
Publication of NL190496B publication Critical patent/NL190496B/nl
Application granted granted Critical
Publication of NL190496C publication Critical patent/NL190496C/nl

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70008—Production of exposure light, i.e. light sources
    • G03F7/70016—Production of exposure light, i.e. light sources by discharge lamps
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J61/00—Gas-discharge or vapour-discharge lamps
    • H01J61/82—Lamps with high-pressure unconstricted discharge having a cold pressure > 400 Torr
    • H01J61/822—High-pressure mercury lamps

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Discharge Lamp (AREA)
NLAANVRAGE8501935,A 1984-07-07 1985-07-05 Belichtingsstelsel voor het achtereenvolgens belichten van halfgeleiderplakken. NL190496C (nl)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP59139777A JPS6120326A (ja) 1984-07-07 1984-07-07 水銀灯による半導体ウエハ−材料の露光方法
JP13977784 1984-07-07

Publications (3)

Publication Number Publication Date
NL8501935A NL8501935A (nl) 1986-02-03
NL190496B true NL190496B (nl) 1993-10-18
NL190496C NL190496C (nl) 1994-03-16

Family

ID=15253173

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NLAANVRAGE8501935,A NL190496C (nl) 1984-07-07 1985-07-05 Belichtingsstelsel voor het achtereenvolgens belichten van halfgeleiderplakken.

Country Status (6)

Country Link
US (1) US4606997A (nl)
JP (1) JPS6120326A (nl)
DE (1) DE3510480C2 (nl)
FR (1) FR2567282B1 (nl)
GB (1) GB2161286B (nl)
NL (1) NL190496C (nl)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS622443A (ja) * 1985-06-28 1987-01-08 Ushio Inc フオトリソグラフイ
JP2915362B2 (ja) * 1996-09-27 1999-07-05 ウシオ電機株式会社 ショートアーク型水銀ランプ
JP2004521474A (ja) * 2001-06-25 2004-07-15 コーニンクレッカ　フィリップス　エレクトロニクス　エヌ　ヴィ 高圧ガス放電ランプおよび高圧ガス放電ランプの製造方法

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2247176A (en) * 1931-05-13 1941-06-24 Gen Electric Gaseous electric discharge device
US2422280A (en) * 1944-07-24 1947-06-17 Curtis Helene Ind Inc Fluorescent illumination
US4040736A (en) * 1973-09-12 1977-08-09 Kasper Instruments, Inc. Step-and-repeat projection alignment and exposure system
US4024428A (en) * 1975-05-19 1977-05-17 Optical Associates, Incorporated Radiation-sensitive control circuit for driving lamp at various power levels
DE2535921A1 (de) * 1975-08-12 1977-03-03 Patra Patent Treuhand Quecksilberdampf-hochdruckentladungslampe mit zusatz von metallhalogeniden fuer horizontale brennlage
JPS54108478A (en) * 1978-02-14 1979-08-25 Ushio Electric Inc Printing or transcribing method of semiconductor and discharge lamp suitable for printing or transcription
GB2014335B (en) * 1978-02-14 1982-06-03 Kasper Instruments Apparatus for prolonging lamp life by minimizing power requirement levels
DE2845603C2 (de) * 1978-10-19 1982-12-09 Censor Patent- und Versuchs-Anstalt, 9490 Vaduz Verfahren und Einrichtung zum Projektionskopieren
US4226523A (en) * 1978-11-17 1980-10-07 Energy Conversion Devices, Inc. Imaging device
US4226522A (en) * 1978-11-17 1980-10-07 Energy Conversion Devices, Inc. Imaging device
GB2069228B (en) * 1979-01-02 1983-02-23 Gen Electric Stabilised high intensity discharge lamp
EP0080820A3 (en) * 1981-11-27 1983-12-14 Thorn Emi Plc Improvements in or relating to discharge lamps

Also Published As

Publication number Publication date
NL190496C (nl) 1994-03-16
GB8506125D0 (en) 1985-04-11
FR2567282B1 (fr) 1990-12-28
DE3510480C2 (de) 1993-12-23
JPH0260051B2 (nl) 1990-12-14
DE3510480A1 (de) 1986-01-16
GB2161286A (en) 1986-01-08
NL8501935A (nl) 1986-02-03
JPS6120326A (ja) 1986-01-29
GB2161286B (en) 1988-12-14
US4606997A (en) 1986-08-19
FR2567282A1 (fr) 1986-01-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL188792C (nl) Inrichting voor het verbinden van banen.
NL193180B (nl) Stralingsbescherminrichting voor het doorvoeren van kabels.
NL189632C (nl) Werkwijze voor het uitlijnen van masker- en wafelorganen.
NL930067I2 (nl) Verbinding geschikt voor werkwijzen voor het visualiseren van r¦-stralen.
NL189171C (nl) Werkwijze voor het vullen van omhullingen.
NL193488B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van bruisgranulaat of bruistabletten.
NO843083L (no) Innretning for sammenholdning av bygningsplater, eksempelvis gulvplater
DE3380945D1 (de) Wafer-transferierungssystem.
BE896843A (fr) Spoelloze weefmachine voorzien van middelen voor het uit het weefvak verwijderen van defecte inslagdraden.
NL190927C (nl) Inrichting voor het uitwisselen van plaatcilinders.
NL193557B (nl) Inrichting voor het herschikken van divergerende bundels.
NL192450B (nl) Werkwijze voor het bereiden van basische aluminiumchloorsulfaten.
NL193211B (nl) Werkwijze voor het bereiden van hydroxybutyraldehyde.
NL191837C (nl) Liersysteem voor het verhalen van lasten.
NL194238B (nl) Werkwijze voor het bereiden van antibiotica.
BE896111A (fr) Werkwijze en inrichting voor het verbranden van ammoniak-bevattende afgassen
NL192457B (nl) Werkwijze voor het bereiden van dihydroxycyclobuteendion.
NL190496B (nl) Belichtingsstelsel voor het achtereenvolgens belichten van halfgeleiderplakken.
NL190495B (nl) Belichtingsstelsel voor het achtereenvolgens belichten van halfgeleiderplakken.
BE891890A (nl) Inrichting voor het behandelen van gebitselementen
NL189317C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van staafvormig materiaal.
NL178357C (nl) Werkwijze voor het modificeren van de oppervlakken van flexografische reliefdrukplaten.
NL189254C (nl) Werkwijze voor het zuiveren van indool.
NL7705162A (nl) Stelsel voor het overdragen van informatie.
NL186319C (nl) Werkwijze voor het zuiveren van glucosaminoglucan.

Legal Events

Date Code Title Description
BA A request for search or an international-type search has been filed
BB A search report has been drawn up
BC A request for examination has been filed
V4 Discontinued because of reaching the maximum lifetime of a patent

Effective date: 20050705