NL186208C - Werkwijze voor de vervaardiging van een snelle halfgeleider-gelijkrichter. - Google Patents

Werkwijze voor de vervaardiging van een snelle halfgeleider-gelijkrichter.

Info

Publication number
NL186208C
NL186208C NLAANVRAGE7807414,A NL7807414A NL186208C NL 186208 C NL186208 C NL 186208C NL 7807414 A NL7807414 A NL 7807414A NL 186208 C NL186208 C NL 186208C
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
manufacturing
semiconductor rectifier
fast semiconductor
fast
rectifier
Prior art date
Application number
NLAANVRAGE7807414,A
Other languages
English (en)
Other versions
NL186208B (nl
NL7807414A (nl
Original Assignee
Gen Electric
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Gen Electric filed Critical Gen Electric
Publication of NL7807414A publication Critical patent/NL7807414A/nl
Publication of NL186208B publication Critical patent/NL186208B/nl
Application granted granted Critical
Publication of NL186208C publication Critical patent/NL186208C/nl

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/18Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
    • H01L21/26Bombardment with radiation
    • H01L21/263Bombardment with radiation with high-energy radiation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/18Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
    • H01L21/30Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
    • H01L21/324Thermal treatment for modifying the properties of semiconductor bodies, e.g. annealing, sintering
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S148/00Metal treatment
    • Y10S148/046Electron beam treatment of devices

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • High Energy & Nuclear Physics (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Thyristors (AREA)
  • Heating, Cooling, Or Curing Plastics Or The Like In General (AREA)
NLAANVRAGE7807414,A 1977-07-11 1978-07-10 Werkwijze voor de vervaardiging van een snelle halfgeleider-gelijkrichter. NL186208C (nl)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US05/814,405 US4137099A (en) 1977-07-11 1977-07-11 Method of controlling leakage currents and reverse recovery time of rectifiers by hot electron irradiation and post-annealing treatments

Publications (3)

Publication Number Publication Date
NL7807414A NL7807414A (nl) 1979-01-15
NL186208B NL186208B (nl) 1990-05-01
NL186208C true NL186208C (nl) 1990-10-01

Family

ID=25214968

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NLAANVRAGE7807414,A NL186208C (nl) 1977-07-11 1978-07-10 Werkwijze voor de vervaardiging van een snelle halfgeleider-gelijkrichter.

Country Status (9)

Country Link
US (1) US4137099A (nl)
JP (1) JPS58191B2 (nl)
BE (1) BE868869A (nl)
DE (1) DE2829627A1 (nl)
FR (1) FR2397716A1 (nl)
GB (1) GB1587363A (nl)
IT (1) IT1096939B (nl)
NL (1) NL186208C (nl)
SE (1) SE434588B (nl)

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2755418A1 (de) * 1977-12-13 1979-06-21 Bosch Gmbh Robert Verfahren zur herstellung eines halbleiter-bauelements
DE3037316C2 (de) * 1979-10-03 1982-12-23 Tokyo Shibaura Denki K.K., Kawasaki, Kanagawa Verfahren zur Herstellung von Leistungsthyristoren
US4311534A (en) * 1980-06-27 1982-01-19 Westinghouse Electric Corp. Reducing the reverse recovery charge of thyristors by nuclear irradiation
US4395293A (en) * 1981-03-23 1983-07-26 Hughes Aircraft Company Accelerated annealing of gallium arsenide solar cells
DE3714357C2 (de) * 1986-04-30 1994-02-03 Toshiba Ceramics Co Siliciumwafer und Verfahren zu dessen Herstellung und Siliziumwafer-Auswahleinrichtung
DE3639835A1 (de) * 1986-11-21 1987-04-30 Corneliu Dipl Phys Protop Verfahren zur herstellung von hochgeschwindigkeitshalbleitern
DE19709652C2 (de) * 1997-03-10 1999-09-16 Semikron Elektronik Gmbh Schnelle Leistungsdiode mit einer durch Bestrahlen mit beschleunigten Teilchen erzeugten Mittelzone
KR100342073B1 (ko) * 2000-03-29 2002-07-02 조중열 반도체 소자의 제조 방법
JP2008091705A (ja) * 2006-10-03 2008-04-17 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置及びその製造方法
DE102009048773A1 (de) 2009-10-08 2011-04-21 Oxea Deutschland Gmbh Verfahren zur Farbaufhellung von Polyolestern
JP2018006364A (ja) * 2016-06-27 2018-01-11 三菱電機株式会社 電子線照射装置

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3894890A (en) * 1972-07-17 1975-07-15 Siemens Ag Method for improving the radiation resistance of silicon transistors
US3888701A (en) * 1973-03-09 1975-06-10 Westinghouse Electric Corp Tailoring reverse recovery time and forward voltage drop characteristics of a diode by irradiation and annealing
US3933527A (en) * 1973-03-09 1976-01-20 Westinghouse Electric Corporation Fine tuning power diodes with irradiation
US4056408A (en) * 1976-03-17 1977-11-01 Westinghouse Electric Corporation Reducing the switching time of semiconductor devices by nuclear irradiation
US4043836A (en) * 1976-05-03 1977-08-23 General Electric Company Method of manufacturing semiconductor devices
US4047976A (en) * 1976-06-21 1977-09-13 Motorola, Inc. Method for manufacturing a high-speed semiconductor device
JPS5819125B2 (ja) * 1976-08-11 1983-04-16 株式会社日立製作所 半導体装置の製造方法
JPS5395581A (en) * 1977-02-02 1978-08-21 Hitachi Ltd Manufacture for semiconductor device

Also Published As

Publication number Publication date
SE434588B (sv) 1984-07-30
DE2829627A1 (de) 1979-01-25
JPS5419369A (en) 1979-02-14
NL186208B (nl) 1990-05-01
IT7825430A0 (it) 1978-07-06
JPS58191B2 (ja) 1983-01-05
SE7806391L (sv) 1979-01-12
IT1096939B (it) 1985-08-26
GB1587363A (en) 1981-04-01
FR2397716A1 (fr) 1979-02-09
US4137099A (en) 1979-01-30
FR2397716B1 (nl) 1984-04-13
NL7807414A (nl) 1979-01-15
BE868869A (fr) 1978-11-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL185376C (nl) Werkwijze ter vervaardiging van een halfgeleiderinrichting.
NL189220C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een bipolaire transistor.
NL176818C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting.
NL7810373A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleider- inrichting.
NL7708157A (nl) Werkwijze voor het monteren van een depper.
NL184755C (nl) Werkwijze voor de vorming van kontakten voor de verbindingsdelen van een halfgeleiderinrichting.
NL7807983A (nl) Werkwijze voor de vervaardiging van een halfgeleiderin- richting.
NL187373C (nl) Werkwijze voor vervaardiging van een halfgeleiderinrichting.
NL186478C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting.
NL7714492A (nl) Werkwijze voor de bereiding van een elektrokatalysator.
NL7812385A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleider- inrichting.
NL7707023A (nl) Werkwijze voor het bereiden van een wasmiddel.
NL188668C (nl) Werkwijze voor de vervaardiging van een halfgeleiderinrichting.
NL189251C (nl) Werkwijze voor de bereiding van een formamide.
NL7710242A (nl) Werkwijze voor het bereiden van een wasmiddel.
NL186208C (nl) Werkwijze voor de vervaardiging van een snelle halfgeleider-gelijkrichter.
NL182478C (nl) Werkwijze voor de bereiding van een 3-hydroxy-4h-pyron-4.
NL174452C (nl) Werkwijze voor de vervaardiging van een vermiculietprodukt.
NL7710635A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting.
NL181243C (nl) Werkwijze voor de vervaardiging van een commutator.
NL165891C (nl) Werkwijze voor de vervaardiging van een halfgeleider- inrichting.
NL7707395A (nl) Werkwijze voor de bereiding van een hydroxy- verbinding.
NL7703243A (nl) Werkwijze voor het bereiden van een wasmiddel.
NL7712427A (nl) Werkwijze voor de bereiding van een gamma-pyron.
NL176622C (nl) Werkwijze voor de vervaardiging van een halfgeleiderinrichting.

Legal Events

Date Code Title Description
BA A request for search or an international-type search has been filed
BB A search report has been drawn up
A85 Still pending on 85-01-01
BC A request for examination has been filed
V2 Lapsed due to non-payment of the last due maintenance fee for the patent application