NL175772C - Veldeffectgeheugentransistor met geisoleerde stuurelektrode die door een samengestelde isolatielaag wordt gescheiden van de kanaalzone. - Google Patents
Veldeffectgeheugentransistor met geisoleerde stuurelektrode die door een samengestelde isolatielaag wordt gescheiden van de kanaalzone.Info
- Publication number
- NL175772C NL175772C NLAANVRAGE7116675,A NL7116675A NL175772C NL 175772 C NL175772 C NL 175772C NL 7116675 A NL7116675 A NL 7116675A NL 175772 C NL175772 C NL 175772C
- Authority
- NL
- Netherlands
- Prior art keywords
- insulation layer
- field effect
- memory transistor
- composite insulation
- channel zone
- Prior art date
Links
- 239000002131 composite material Substances 0.000 title 1
- 230000005669 field effect Effects 0.000 title 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 title 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
- H10D30/00—Field-effect transistors [FET]
- H10D30/60—Insulated-gate field-effect transistors [IGFET]
- H10D30/69—IGFETs having charge trapping gate insulators, e.g. MNOS transistors
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US9486170A | 1970-12-03 | 1970-12-03 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
NL7116675A NL7116675A (GUID-C5D7CC26-194C-43D0-91A1-9AE8C70A9BFF.html) | 1972-06-06 |
NL175772B NL175772B (nl) | 1984-07-16 |
NL175772C true NL175772C (nl) | 1984-12-17 |
Family
ID=22247621
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
NLAANVRAGE7116675,A NL175772C (nl) | 1970-12-03 | 1971-12-03 | Veldeffectgeheugentransistor met geisoleerde stuurelektrode die door een samengestelde isolatielaag wordt gescheiden van de kanaalzone. |
Country Status (18)
Families Citing this family (50)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5145438B1 (GUID-C5D7CC26-194C-43D0-91A1-9AE8C70A9BFF.html) * | 1971-06-25 | 1976-12-03 | ||
JPS5329075B2 (GUID-C5D7CC26-194C-43D0-91A1-9AE8C70A9BFF.html) * | 1972-02-12 | 1978-08-18 | ||
GB1363190A (en) * | 1972-05-31 | 1974-08-14 | Plessey Co Ltd | Semiconductor memory device |
US3845327A (en) * | 1972-08-16 | 1974-10-29 | Westinghouse Electric Corp | Counter with memory utilizing mnos memory elements |
US3877055A (en) * | 1972-11-13 | 1975-04-08 | Motorola Inc | Semiconductor memory device |
FR2228251B1 (GUID-C5D7CC26-194C-43D0-91A1-9AE8C70A9BFF.html) * | 1973-05-04 | 1980-04-04 | Commissariat Energie Atomique | |
US3911464A (en) * | 1973-05-29 | 1975-10-07 | Ibm | Nonvolatile semiconductor memory |
US3947863A (en) * | 1973-06-29 | 1976-03-30 | Motorola Inc. | Charge coupled device with electrically settable shift direction |
JPS5024084A (GUID-C5D7CC26-194C-43D0-91A1-9AE8C70A9BFF.html) * | 1973-07-05 | 1975-03-14 | ||
DE2445079C3 (de) * | 1974-09-20 | 1981-06-04 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Speicher-Feldeffekttransistor |
DE2638730C2 (de) * | 1974-09-20 | 1982-10-28 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | n-Kanal-Speicher-FET, Verfahren zum Entladen des Speichergate des n-Kanal-Speicher-FET und Verwendung des n-Kanal-Speicher-FET |
GB1540450A (en) * | 1975-10-29 | 1979-02-14 | Intel Corp | Self-aligning double polycrystalline silicon etching process |
US4057821A (en) * | 1975-11-20 | 1977-11-08 | Nitron Corporation/Mcdonnell-Douglas Corporation | Non-volatile semiconductor memory device |
US4115914A (en) * | 1976-03-26 | 1978-09-26 | Hughes Aircraft Company | Electrically erasable non-volatile semiconductor memory |
US4096509A (en) * | 1976-07-22 | 1978-06-20 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | MNOS memory transistor having a redeposited silicon nitride gate dielectric |
US5168075A (en) * | 1976-09-13 | 1992-12-01 | Texas Instruments Incorporated | Random access memory cell with implanted capacitor region |
US5434438A (en) * | 1976-09-13 | 1995-07-18 | Texas Instruments Inc. | Random access memory cell with a capacitor |
US4098924A (en) * | 1976-10-19 | 1978-07-04 | Westinghouse Electric Corp. | Gate fabrication method for mnos memory devices |
DE2723738C2 (de) * | 1977-05-26 | 1984-11-08 | Deutsche Itt Industries Gmbh, 7800 Freiburg | Halbleiterspeicherzelle für das nichtflüchtige Speichern elektrischer Ladung und Verfahren zu deren Programmierung |
US4307411A (en) * | 1978-01-30 | 1981-12-22 | Rca Corporation | Nonvolatile semiconductor memory device and method of its manufacture |
US4151538A (en) * | 1978-01-30 | 1979-04-24 | Rca Corp. | Nonvolatile semiconductive memory device and method of its manufacture |
US4236167A (en) * | 1978-02-06 | 1980-11-25 | Rca Corporation | Stepped oxide, high voltage MOS transistor with near intrinsic channel regions of different doping levels |
US4198252A (en) * | 1978-04-06 | 1980-04-15 | Rca Corporation | MNOS memory device |
US4268328A (en) * | 1978-04-21 | 1981-05-19 | Mcdonnell Douglas Corporation | Stripped nitride MOS/MNOS process |
US4611308A (en) * | 1978-06-29 | 1986-09-09 | Westinghouse Electric Corp. | Drain triggered N-channel non-volatile memory |
US4232327A (en) * | 1978-11-13 | 1980-11-04 | Rca Corporation | Extended drain self-aligned silicon gate MOSFET |
US4318216A (en) * | 1978-11-13 | 1982-03-09 | Rca Corporation | Extended drain self-aligned silicon gate MOSFET |
US4250206A (en) * | 1978-12-11 | 1981-02-10 | Texas Instruments Incorporated | Method of making non-volatile semiconductor memory elements |
WO1980001122A1 (en) * | 1978-11-27 | 1980-05-29 | Ncr Co | Semiconductor memory device |
US4353083A (en) * | 1978-11-27 | 1982-10-05 | Ncr Corporation | Low voltage nonvolatile memory device |
JPS56501028A (GUID-C5D7CC26-194C-43D0-91A1-9AE8C70A9BFF.html) * | 1979-08-13 | 1981-07-23 | ||
US4558344A (en) * | 1982-01-29 | 1985-12-10 | Seeq Technology, Inc. | Electrically-programmable and electrically-erasable MOS memory device |
US4455742A (en) * | 1982-06-07 | 1984-06-26 | Westinghouse Electric Corp. | Method of making self-aligned memory MNOS-transistor |
US5120672A (en) * | 1989-02-22 | 1992-06-09 | Texas Instruments Incorporated | Fabricating a single level merged EEPROM cell having an ONO memory stack substantially spaced from the source region |
US5057885A (en) * | 1989-07-28 | 1991-10-15 | Casio Computer Co., Ltd. | Memory cell system with first and second gates |
US5215934A (en) * | 1989-12-21 | 1993-06-01 | Tzeng Jyh Cherng J | Process for reducing program disturbance in eeprom arrays |
US5679968A (en) * | 1990-01-31 | 1997-10-21 | Texas Instruments Incorporated | Transistor having reduced hot carrier implantation |
US5844271A (en) * | 1995-08-21 | 1998-12-01 | Cypress Semiconductor Corp. | Single layer polycrystalline silicon split-gate EEPROM cell having a buried control gate |
US5741737A (en) | 1996-06-27 | 1998-04-21 | Cypress Semiconductor Corporation | MOS transistor with ramped gate oxide thickness and method for making same |
US5897354A (en) * | 1996-12-17 | 1999-04-27 | Cypress Semiconductor Corporation | Method of forming a non-volatile memory device with ramped tunnel dielectric layer |
US6121666A (en) * | 1997-06-27 | 2000-09-19 | Sun Microsystems, Inc. | Split gate oxide asymmetric MOS devices |
US6124171A (en) * | 1998-09-24 | 2000-09-26 | Intel Corporation | Method of forming gate oxide having dual thickness by oxidation process |
US6225669B1 (en) * | 1998-09-30 | 2001-05-01 | Advanced Micro Devices, Inc. | Non-uniform gate/dielectric field effect transistor |
US6740944B1 (en) * | 2001-07-05 | 2004-05-25 | Altera Corporation | Dual-oxide transistors for the improvement of reliability and off-state leakage |
WO2005109516A1 (en) * | 2004-05-06 | 2005-11-17 | Sidense Corp. | Split-channel antifuse array architecture |
US7755162B2 (en) | 2004-05-06 | 2010-07-13 | Sidense Corp. | Anti-fuse memory cell |
US8735297B2 (en) | 2004-05-06 | 2014-05-27 | Sidense Corporation | Reverse optical proximity correction method |
US9123572B2 (en) | 2004-05-06 | 2015-09-01 | Sidense Corporation | Anti-fuse memory cell |
US10276679B2 (en) * | 2017-05-30 | 2019-04-30 | Vanguard International Semiconductor Corporation | Semiconductor device and method for manufacturing the same |
TW202429716A (zh) * | 2023-01-06 | 2024-07-16 | 聯華電子股份有限公司 | 延伸汲極型金氧半導體電晶體及其製作方法 |
-
1970
- 1970-12-03 US US00094861A patent/US3719866A/en not_active Expired - Lifetime
-
1971
- 1971-10-29 CA CA126,491A patent/CA950126A/en not_active Expired
- 1971-11-16 GB GB5308471A patent/GB1315230A/en not_active Expired
- 1971-11-16 ZA ZA717690A patent/ZA717690B/xx unknown
- 1971-11-19 AU AU35915/71A patent/AU450552B2/en not_active Expired
- 1971-11-19 SE SE14834/71A patent/SE364598B/xx unknown
- 1971-11-25 DK DK577471A patent/DK132145C/da not_active IP Right Cessation
- 1971-11-29 FR FR7142609A patent/FR2116410B1/fr not_active Expired
- 1971-11-30 DE DE2159192A patent/DE2159192B2/de not_active Ceased
- 1971-11-30 NO NO4398/71A patent/NO131563C/no unknown
- 1971-11-30 BE BE776013A patent/BE776013A/xx not_active IP Right Cessation
- 1971-12-01 IT IT31924/71A patent/IT941940B/it active
- 1971-12-01 BR BR7965/71A patent/BR7107965D0/pt unknown
- 1971-12-01 ES ES397549A patent/ES397549A1/es not_active Expired
- 1971-12-02 AT AT1036871A patent/AT336681B/de active
- 1971-12-03 JP JP46097287A patent/JPS5116265B1/ja active Pending
- 1971-12-03 NL NLAANVRAGE7116675,A patent/NL175772C/xx not_active IP Right Cessation
- 1971-12-03 CH CH1760571A patent/CH535495A/de not_active IP Right Cessation
Also Published As
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
NL175772C (nl) | Veldeffectgeheugentransistor met geisoleerde stuurelektrode die door een samengestelde isolatielaag wordt gescheiden van de kanaalzone. | |
NL169146C (nl) | Inrichting voor het reduceren van, met een overlangse naad gelaste, buizen door koud trekken. | |
NL163066C (nl) | Veldeffecttransistor met een door een pn-overgang van het kanaalgebied gescheiden stuurgebied. | |
NL161306C (nl) | Werkwijze voor de vervaardiging van veldeffecttransis- toren met geisoleerde stuurelektrode. | |
AT312902B (de) | Schnecke für Strangpresse od.dgl. | |
NL164158C (nl) | Schakeling met een veldeffecttransistor met een geisoleerde stuurelektrode voorzien van een beveiligingsdiode. | |
AT329833B (de) | Warmedammendes verbundprofil fur fenster, turen od.dgl. | |
NL161304C (nl) | Halfgeleiderinrichting met een laagvormig gebied en een door een isolerendelaag van het laagvormig gebied gescheiden elektrodelaag, zodat bij het aanleggen van een geschikte potentiaal op de elektrodelaag in het laagvormig gebied een uitputtingszone wordt gevormd. | |
NL162790B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van veldeffect- transistoren met een geisoleerde stuurelektrode. | |
NL177263C (nl) | Halfgeleiderinrichting voorzien van onderling gescheiden elektroden die zijn gevormd uit een samengestelde elektrodelaag. | |
BE775284A (fr) | Ankerbout met wigvormig spreidstuk en door een strip verbonden,spreidbare ankerdelen binnen de boutomtrek | |
NL145730B (nl) | Elektrische keten voorzien van een veldeffecttransistor met geisoleerde poortelektrode, alsmede een werkwijze voor het vervaardigen van een veldeffecttransistor en een volgens deze werkwijze vervaardigde veldeffecttransistor. | |
NL160988C (nl) | Halfgeleiderinrichting met een halfgeleiderlichaam, be- vattende ten minste een eerste veldeffecttransistor met geisoleerde stuurelektrode en werkwijze voor de vervaar- diging van de halfgeleiderinrichting. | |
NL153723B (nl) | Veldeffecttransistor voorzien van een geisoleerde stuurelektrode. | |
BE749420A (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een geisoleerd dakbeschot alsmede dakbeschot verkregen door toepassing van de werkwijze | |
NL162792B (nl) | Veldeffecttransistor met geisoleerde stuurelektrode, die met een beveiligingsdiode met ten minste een pn-overgang is verbonden. | |
CH550870A (fr) | Installation de filage. | |
CH552067A (de) | Verbundwerkstoff fuer strangpressmatrizen. | |
DK129394B (da) | Destillationskolonne med sneglegang. | |
NL146630B (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een hoogspanningsgeleider en hoogspanningsgeleider verkregen door toepassing van de werkwijze. | |
NL151155B (nl) | Geprofileerd platendraagwerk uit twee gegolfde dekplaten, die met elkaar zijn verbonden door een tussenlaag van kunststofschuim. | |
NL165331C (nl) | Werkwijze voor de vervaardiging van een veldeffekt- transistor met een geisoleerde stuurelektrode. | |
NL161924B (nl) | Veldeffecttransistor met ten minste twee geisoleerde stuurelektroden. | |
NL145803B (nl) | Werkwijze en inrichting voor het vervaardigen van isolerende panelen uit twee, vooraf gevormde, metalen profielen met daartussenin een vulling uit schuimmateriaal en de met toepassing van die werkwijze verkregen panelen. | |
CA834393A (en) | Insulated gate field-effect transistor |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
V1 | Lapsed because of non-payment of the annual fee |