NL168566C - Inrichting voor het onder verminderde druk uitvoeren van een bewerking, zoals het afzetten van materialen op werkstukken door bijvoorbeeld kathodisch opspatten, gloeidraadopdampen of elektronenstraalopdampen. - Google Patents

Inrichting voor het onder verminderde druk uitvoeren van een bewerking, zoals het afzetten van materialen op werkstukken door bijvoorbeeld kathodisch opspatten, gloeidraadopdampen of elektronenstraalopdampen.

Info

Publication number
NL168566C
NL168566C NLAANVRAGE7613969,A NL7613969A NL168566C NL 168566 C NL168566 C NL 168566C NL 7613969 A NL7613969 A NL 7613969A NL 168566 C NL168566 C NL 168566C
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
splashes
cathodic
vapors
workpieces
reduced pressure
Prior art date
Application number
NLAANVRAGE7613969,A
Other languages
English (en)
Dutch (nl)
Other versions
NL168566B (nl
NL7613969A (nl
Original Assignee
Western Electric Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Western Electric Co filed Critical Western Electric Co
Publication of NL7613969A publication Critical patent/NL7613969A/xx
Publication of NL168566B publication Critical patent/NL168566B/xx
Application granted granted Critical
Publication of NL168566C publication Critical patent/NL168566C/xx

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
    • C23C14/568—Transferring the substrates through a series of coating stations
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/50—Substrate holders
    • C23C14/505—Substrate holders for rotation of the substrates
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
    • C23C14/564—Means for minimising impurities in the coating chamber such as dust, moisture, residual gases

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Compressors, Vaccum Pumps And Other Relevant Systems (AREA)
  • Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)
NLAANVRAGE7613969,A 1975-12-18 1976-12-16 Inrichting voor het onder verminderde druk uitvoeren van een bewerking, zoals het afzetten van materialen op werkstukken door bijvoorbeeld kathodisch opspatten, gloeidraadopdampen of elektronenstraalopdampen. NL168566C (nl)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US05/642,043 US4022939A (en) 1975-12-18 1975-12-18 Synchronous shielding in vacuum deposition system

Publications (3)

Publication Number Publication Date
NL7613969A NL7613969A (nl) 1977-06-21
NL168566B NL168566B (nl) 1981-11-16
NL168566C true NL168566C (nl) 1982-04-16

Family

ID=24574944

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NLAANVRAGE7613969,A NL168566C (nl) 1975-12-18 1976-12-16 Inrichting voor het onder verminderde druk uitvoeren van een bewerking, zoals het afzetten van materialen op werkstukken door bijvoorbeeld kathodisch opspatten, gloeidraadopdampen of elektronenstraalopdampen.

Country Status (11)

Country Link
US (2) US4022939A (fr)
JP (1) JPS5276279A (fr)
BE (1) BE849387A (fr)
CA (1) CA1118714A (fr)
DE (1) DE2656723C3 (fr)
ES (1) ES454329A1 (fr)
FR (1) FR2335944A1 (fr)
GB (2) GB1559269A (fr)
IT (1) IT1065732B (fr)
NL (1) NL168566C (fr)
SE (1) SE417281B (fr)

Families Citing this family (38)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2844491C2 (de) * 1978-10-12 1983-04-14 Leybold-Heraeus GmbH, 5000 Köln Vakuum-Beschichtungsanlage mit einer Einrichtung zum kontinuierlichen Substrattransport
JPS56152973A (en) * 1980-04-30 1981-11-26 Tokuda Seisakusho Ltd Sputter etching device
US4478703A (en) * 1983-03-31 1984-10-23 Kawasaki Jukogyo Kabushiki Kaisha Sputtering system
GB2142045B (en) * 1983-06-15 1987-12-31 British Telecomm Growth of semiconductors
US4496828A (en) * 1983-07-08 1985-01-29 Ultra Carbon Corporation Susceptor assembly
GB8421162D0 (en) * 1984-08-21 1984-09-26 British Telecomm Growth of semi-conductors
US4835114A (en) * 1986-02-19 1989-05-30 Hitachi, Ltd. Method for LPCVD of semiconductors using oil free vacuum pumps
JPH0766584B2 (ja) * 1986-04-11 1995-07-19 富士写真フイルム株式会社 光磁気記録媒体の製造方法
US5958193A (en) * 1994-02-01 1999-09-28 Vlsi Technology, Inc. Sputter deposition with mobile collimator
US5911560A (en) * 1994-10-31 1999-06-15 Saes Pure Gas, Inc. Getter pump module and system
US6142742A (en) * 1994-10-31 2000-11-07 Saes Pure Gas, Inc. Getter pump module and system
US5685963A (en) * 1994-10-31 1997-11-11 Saes Pure Gas, Inc. In situ getter pump system and method
US5972183A (en) * 1994-10-31 1999-10-26 Saes Getter S.P.A Getter pump module and system
US6109880A (en) * 1994-10-31 2000-08-29 Saes Pure Gas, Inc. Getter pump module and system including focus shields
US6423419B1 (en) 1995-07-19 2002-07-23 Teer Coatings Limited Molybdenum-sulphur coatings
US5772773A (en) * 1996-05-20 1998-06-30 Applied Materials, Inc. Co-axial motorized wafer lift
DE19738234C1 (de) 1997-09-02 1998-10-22 Fraunhofer Ges Forschung Einrichtung zum Aufstäuben von Hartstoffschichten
US6077404A (en) 1998-02-17 2000-06-20 Applied Material, Inc. Reflow chamber and process
DE19812562A1 (de) * 1998-03-21 1999-09-23 Joachim Sacher Beschichtungs-Verfahren und -Vorrichtung
US7250196B1 (en) 1999-10-26 2007-07-31 Basic Resources, Inc. System and method for plasma plating
US6503379B1 (en) * 2000-05-22 2003-01-07 Basic Research, Inc. Mobile plating system and method
US6521104B1 (en) * 2000-05-22 2003-02-18 Basic Resources, Inc. Configurable vacuum system and method
KR20040044994A (ko) * 2001-09-27 2004-05-31 이 아이 듀폰 디 네모아 앤드 캄파니 스퍼터 증착을 위한 이중 소스, 단일 챔버 방법 및 장치
US20030180450A1 (en) * 2002-03-22 2003-09-25 Kidd Jerry D. System and method for preventing breaker failure
US6931711B2 (en) * 2002-09-03 2005-08-23 Honeywell International Inc. Methods and apparatus for removing gases from enclosures
GB0222331D0 (en) * 2002-09-26 2002-10-30 Teer Coatings Ltd A method for depositing multilayer coatings with controlled thickness
US20040099525A1 (en) * 2002-11-21 2004-05-27 Plasmion Corporation Method of forming oxide thin films using negative sputter ion beam source
US20040129557A1 (en) * 2002-11-21 2004-07-08 Plasmion Corporation Method of forming non-oxide thin films using negative sputter ion beam source
US20050126497A1 (en) * 2003-09-30 2005-06-16 Kidd Jerry D. Platform assembly and method
US8057856B2 (en) * 2004-03-15 2011-11-15 Ifire Ip Corporation Method for gettering oxygen and water during vacuum deposition of sulfide films
US7601246B2 (en) * 2004-09-29 2009-10-13 Lam Research Corporation Methods of sputtering a protective coating on a semiconductor substrate
JP5626157B2 (ja) * 2011-08-03 2014-11-19 日本電気硝子株式会社 スパッタリング成膜装置のカルーセル及びスパッタリング成膜装置
DE102012104475A1 (de) * 2012-05-24 2013-11-28 Aixtron Se Carousel-Reactor
WO2014035480A1 (fr) 2012-08-30 2014-03-06 General Electric Company Four à induction doté d'une capacité de refroidissement uniforme
CN103898462B (zh) * 2012-12-29 2017-08-22 深圳富泰宏精密工业有限公司 磁控溅射镀膜装置
DE102018204033A1 (de) * 2018-03-16 2019-09-19 Rodenstock Gmbh Vorrichtung zur Beschichtung einer Vielzahl von Substraten
US11171017B2 (en) * 2019-09-06 2021-11-09 Applied Materials, Inc. Shutter disk
CN113289844A (zh) * 2020-10-17 2021-08-24 惠州市兴日生实业有限公司 一种玻璃鱼缸组装用点胶机的工作自动流水线

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2341827A (en) * 1944-02-15 Optical unit
US3046936A (en) * 1958-06-04 1962-07-31 Nat Res Corp Improvement in vacuum coating apparatus comprising an ion trap for the electron gun thereof
US3213825A (en) * 1959-12-31 1965-10-26 Trw Inc Vacuum deposition apparatus
US3740327A (en) * 1969-06-03 1973-06-19 Warner Lambert Co Sputter coating apparatus with shrouding means
US3649339A (en) * 1969-09-05 1972-03-14 Eugene C Smith Apparatus and method for securing a high vacuum for particle coating process
US4013539A (en) * 1973-01-12 1977-03-22 Coulter Information Systems, Inc. Thin film deposition apparatus
US3853091A (en) * 1973-12-03 1974-12-10 Ibm Thin film coating apparatus
US3921572A (en) * 1974-02-25 1975-11-25 Ibm Vacuum coating apparatus
US3889632A (en) * 1974-05-31 1975-06-17 Ibm Variable incidence drive for deposition tooling

Also Published As

Publication number Publication date
US4062319A (en) 1977-12-13
SE417281B (sv) 1981-03-09
ES454329A1 (es) 1978-01-01
NL168566B (nl) 1981-11-16
BE849387A (fr) 1977-04-01
DE2656723B2 (fr) 1979-07-19
GB1559269A (en) 1980-01-16
NL7613969A (nl) 1977-06-21
IT1065732B (it) 1985-03-04
DE2656723A1 (de) 1977-07-07
GB1558583A (en) 1980-01-03
JPS5538427B2 (fr) 1980-10-03
JPS5276279A (en) 1977-06-27
FR2335944B1 (fr) 1980-09-26
SE7613681L (sv) 1977-06-19
US4022939A (en) 1977-05-10
FR2335944A1 (fr) 1977-07-15
DE2656723C3 (de) 1980-03-06
CA1118714A (fr) 1982-02-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL168566C (nl) Inrichting voor het onder verminderde druk uitvoeren van een bewerking, zoals het afzetten van materialen op werkstukken door bijvoorbeeld kathodisch opspatten, gloeidraadopdampen of elektronenstraalopdampen.
NL7705483A (nl) Werkwijze voor het in een gloei-ontlading uit- voeren van een afzetting op een substraat, als- mede een afschuring door ionen van dit substraat, en inrichting voor het toepassen van deze werk- wijze.
NL7801874A (nl) Werkwijze voor het behandelen van een koolwater- stofvoedingsgas.
NL189750C (nl) Werkwijze voor het verwijderen van coÿ2 uit een gasmengsel.
NL188584C (nl) Inrichting voor het reinigen van de ovenvloer van een cokesovenkamer.
NL7600819A (nl) Werkwijze voor het afscheiden van verschillende frakties uit vuilnis, alsmede inrichting voor het uitvoeren van de werkwijze.
NL7614370A (nl) Werkwijze voor het verwijderen van stikstof- oxyden uit afgewerkt gas door selectieve contactreductie.
NL7602706A (nl) Werkwijze en inrichting voor het door kathodever- stuiving afzetten van een materiaal op een drager.
NL7504583A (nl) Werkwijze voor het vormen van hechtende, tegen oplosmiddelen bestand zijnde bekledingen op metaalsubstraten.
NL7600196A (nl) Werkwijze en inrichting voor het behandelen van zaden, alsmede de produkten van de werkwijze.
NL188930C (nl) Werkwijze voor het stabiliseren van bekledingen van metaaloxydedeeltjes op buisvormige substraten van koolstof.
NL167515C (nl) Inrichting voor het repareren van de bekleding van een oven.
NL7807924A (nl) Werkwijze voor de verdere verwerking van cokesovengas.
NL7600228A (nl) Werkwijze voor het verwerken van mangaanoxyde- -erts.
NL7600896A (nl) Werkwijze voor het fosfateren van metalen.
NL183953C (nl) Werkwijze voor het bereiden van samenstellingen op basis van 1,1,2-trichloor-1,2,2-trifluorethaan.
NL7609908A (nl) Werkwijze voor het verven van een hydroxy ge- substitueerd organisch polymeer ondermateriaal.
NL7610299A (nl) Werkwijze voor het bereiden van door bestraling hardbare bindmiddelen en werkwijze voor het daar- uit bereiden van drukinkten.
NL7413473A (nl) Werkwijze voor het behandelen van afvalgas van een verbrandingsoven.
NL169826C (nl) Werkwijze voor het verwijderen van onwelriekende, zwavel bevattende stoffen uit een zuurstof bevattende gasstroom.
NL182489B (nl) Werkwijze voor het ontzwavelen van zware vanadiumhoudende koolwaterstoffen.
NL161347B (nl) Werkwijze voor het zuiveren van gluten door oplosmiddel- extractie.
NL188659C (nl) Werkwijze voor het ontzwavelen van koolwaterstofolien.
NL7608645A (nl) Werkwijze voor het aanbrengen van een deklaag op werkstukken.
NL188328C (nl) Werkwijze voor de behandeling van een zuur gas, dat tenminste hÿ2s en coÿ2 bevat.

Legal Events

Date Code Title Description
V1 Lapsed because of non-payment of the annual fee