NL168054B - Werkwijze voor het vervaardigen van reliefvormen, alsmede een vast, fotopolymeriseerbaar element, ver- vaardigd met toepassing van deze werkwijze. - Google Patents

Werkwijze voor het vervaardigen van reliefvormen, alsmede een vast, fotopolymeriseerbaar element, ver- vaardigd met toepassing van deze werkwijze.

Info

Publication number
NL168054B
NL168054B NL7001140.A NL7001140A NL168054B NL 168054 B NL168054 B NL 168054B NL 7001140 A NL7001140 A NL 7001140A NL 168054 B NL168054 B NL 168054B
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
manufactured
fixed
relief forms
manufacturing relief
photopolymerisable
Prior art date
Application number
NL7001140.A
Other languages
English (en)
Dutch (nl)
Other versions
NL7001140A (de
Original Assignee
Basf Ag
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Basf Ag filed Critical Basf Ag
Publication of NL7001140A publication Critical patent/NL7001140A/xx
Publication of NL168054B publication Critical patent/NL168054B/xx

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/091—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers characterised by antireflection means or light filtering or absorbing means, e.g. anti-halation, contrast enhancement
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00—Photosensitive materials
    • G03C1/76—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
    • G03C1/825—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers characterised by antireflection means or visible-light filtering means, e.g. antihalation
    • G03C1/83—Organic dyestuffs therefor
    • G03C1/833—Dyes containing a metal atom
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/029—Inorganic compounds; Onium compounds; Organic compounds having hetero atoms other than oxygen, nitrogen or sulfur
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/106—Binder containing
    • Y10S430/107—Polyamide or polyurethane
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/151—Matting or other surface reflectivity altering material

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
NL7001140.A 1969-02-01 1970-01-27 Werkwijze voor het vervaardigen van reliefvormen, alsmede een vast, fotopolymeriseerbaar element, ver- vaardigd met toepassing van deze werkwijze. NL168054B (nl)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE1905012A DE1905012C3 (de) 1969-02-01 1969-02-01 Photopolymerisierbares Aufzeichnungsmaterial zum Herstellen von Reliefs

Publications (2)

Publication Number Publication Date
NL7001140A NL7001140A (de) 1970-08-04
NL168054B true NL168054B (nl) 1981-09-16

Family

ID=5724044

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL7001140A NL168054C (nl) 1969-02-01 Werkwijze voor het vervaardigen van reliefvormen, alsmede een vast, fotopolymeriseerbaar element, vervaardigd met toepassing van deze werkwijze.
NL7001140.A NL168054B (nl) 1969-02-01 1970-01-27 Werkwijze voor het vervaardigen van reliefvormen, alsmede een vast, fotopolymeriseerbaar element, ver- vaardigd met toepassing van deze werkwijze.

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL7001140A NL168054C (nl) 1969-02-01 Werkwijze voor het vervaardigen van reliefvormen, alsmede een vast, fotopolymeriseerbaar element, vervaardigd met toepassing van deze werkwijze.

Country Status (10)

Country Link
US (1) US3674494A (de)
AT (1) AT297047B (de)
BE (1) BE745236A (de)
CA (1) CA929402A (de)
CH (1) CH516826A (de)
DE (1) DE1905012C3 (de)
FR (1) FR2032657A5 (de)
GB (1) GB1287216A (de)
NL (2) NL168054B (de)
SE (1) SE356614B (de)

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3871885A (en) * 1971-05-18 1975-03-18 Du Pont Crystalline photo-polymerizable composition
US3787211A (en) * 1971-12-10 1974-01-22 Basf Ag Makeready foil for relief printing
US3883351A (en) * 1972-02-09 1975-05-13 Horizons Inc Method of making a photoresist
US4297945A (en) * 1972-12-28 1981-11-03 Sumitomo Chemical Company, Ltd. Resin original pattern plate and method for transferring relieved pattern thereof to thermoplastic resin material
US4123272A (en) * 1977-05-17 1978-10-31 E. I. Du Pont De Nemours And Company Double-negative positive-working photohardenable elements
JPH06103391B2 (ja) * 1985-09-20 1994-12-14 富士写真フイルム株式会社 感光性記録材料
FR2690255A1 (fr) * 1992-04-17 1993-10-22 Digipress Sa Composition photosensible, notamment pour application au stockage d'informations ou à la réalisation d'éléments optiques holographiques.
DE4311540A1 (de) * 1993-04-07 1994-10-13 Du Pont Deutschland Photopolymerisierbare Druckschicht für Flexo-Druckplatten
US6726755B2 (en) 2002-02-08 2004-04-27 Xerox Corporation Ink compositions containing phthalocyanines
US6476219B1 (en) 2002-02-08 2002-11-05 Xerox Corporation Methods for preparing phthalocyanine compositions
US6472523B1 (en) 2002-02-08 2002-10-29 Xerox Corporation Phthalocyanine compositions
KR20220008168A (ko) 2020-07-13 2022-01-20 삼성전자주식회사 반도체 패키지

Also Published As

Publication number Publication date
FR2032657A5 (de) 1970-11-27
GB1287216A (en) 1972-08-31
AT297047B (de) 1972-03-10
SE356614B (de) 1973-05-28
DE1905012C3 (de) 1980-03-06
CH516826A (de) 1971-12-15
NL168054C (nl)
BE745236A (fr) 1970-07-30
DE1905012A1 (de) 1970-08-06
US3674494A (en) 1972-07-04
NL7001140A (de) 1970-08-04
DE1905012B2 (de) 1979-07-12
CA929402A (en) 1973-07-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL155892B (nl) Foelie, werkwijze voor het daarmee vervaardigen van een laminaat, aldus vervaardigd laminaat, werkwijze voor het daaruit vervaardigen van een tweede laminaat, en aldus vervaardigd tweede laminaat.
NL152214B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een verpakking, alsmede vervaardigde verpakking.
NL160728C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een scheidingscel.
NL161302C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderin- richting.
NL168733C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een lagerstrook, alsmede gevormd voorwerp, verkregen onder toepassing van een dergelijke lagerstrook.
NL161591B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een vlakdrukvorm.
NL7414007A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een half- geleiderinrichting.
NL162789C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleider- inrichting.
NL161854C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een kogelscharnier, alsmede kogelscharnier vervaardigd volgens deze werkwijze.
NL184494B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een varistor.
NL168054B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van reliefvormen, alsmede een vast, fotopolymeriseerbaar element, ver- vaardigd met toepassing van deze werkwijze.
NL7413791A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een half- geleiderinrichting.
NL161619B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een half- geleiderinrichting.
NL161919C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleider- inrichting, die een p,n-overgang bevat.
NL169937C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een gestabiliseerde supergeleider.
NL162710C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een ladder en een met behulp van de werkwijze vervaardigde ladder.
NL139874B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een liksteen en liksteen, vervaardigd met de werkwijze.
NL169050C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een spiegel.
NL145001B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een poreuze foelie.
NL164337C (nl) Werkwijze en inrichting voor het vervaardigen van een vliestricot.
NL170894C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een hologram.
NL167139C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een doorzichtige geleider.
NL167099C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een semipermeabel membraansamenstel.
NL152427B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een elektroluminescerende inrichting, alsmede een aldus vervaardigde inrichting.
NL162217C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een lichtgevoelig element.

Legal Events

Date Code Title Description
V4 Discontinued because of reaching the maximum lifetime of a patent