NL165569B - Werkwijze voor het vervaardigen van een lichtgevoelige drukplaat. - Google Patents

Werkwijze voor het vervaardigen van een lichtgevoelige drukplaat.

Info

Publication number
NL165569B
NL165569B NL7104156.A NL7104156A NL165569B NL 165569 B NL165569 B NL 165569B NL 7104156 A NL7104156 A NL 7104156A NL 165569 B NL165569 B NL 165569B
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
manufacturing
pressure plate
sensitive pressure
sensitive
plate
Prior art date
Application number
NL7104156.A
Other languages
English (en)
Other versions
NL165569C (nl
NL7104156A (nl
Original Assignee
Nippon Paint Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Paint Co Ltd filed Critical Nippon Paint Co Ltd
Publication of NL7104156A publication Critical patent/NL7104156A/xx
Publication of NL165569B publication Critical patent/NL165569B/nl
Application granted granted Critical
Publication of NL165569C publication Critical patent/NL165569C/nl

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/106—Binder containing
    • Y10S430/11—Vinyl alcohol polymer or derivative
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/114—Initiator containing
    • Y10S430/117—Free radical

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
NL7104156.A 1970-03-27 1971-03-29 Werkwijze voor het vervaardigen van een lichtgevoelige drukplaat. NL165569C (nl)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP45025808A JPS503041B1 (nl) 1970-03-27 1970-03-27

Publications (3)

Publication Number Publication Date
NL7104156A NL7104156A (nl) 1971-09-29
NL165569B true NL165569B (nl) 1980-11-17
NL165569C NL165569C (nl) 1981-04-15

Family

ID=12176152

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL7104156.A NL165569C (nl) 1970-03-27 1971-03-29 Werkwijze voor het vervaardigen van een lichtgevoelige drukplaat.
NL8100061A NL8100061A (nl) 1970-03-27 1981-01-08 Fotopolymeriseerbaar preparaat en daaruit verkregen drukplaat.

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL8100061A NL8100061A (nl) 1970-03-27 1981-01-08 Fotopolymeriseerbaar preparaat en daaruit verkregen drukplaat.

Country Status (8)

Country Link
US (1) US3801328A (nl)
JP (1) JPS503041B1 (nl)
BE (1) BE764884A (nl)
DE (1) DE2114767A1 (nl)
FR (1) FR2087850A5 (nl)
GB (1) GB1351475A (nl)
NL (2) NL165569C (nl)
SE (1) SE372112B (nl)

Families Citing this family (37)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5223281B2 (nl) * 1972-12-15 1977-06-23
US3877939A (en) * 1973-06-25 1975-04-15 Nippon Paint Co Ltd Photopolymer printing plates and coated relief printing plates
US3960685A (en) * 1973-11-12 1976-06-01 Sumitomo Chemical Company, Limited Photosensitive resin composition containing pullulan or esters thereof
US4069056A (en) * 1974-05-02 1978-01-17 General Electric Company Photopolymerizable composition containing group Va aromatic onium salts
JPS51123140A (en) * 1975-04-19 1976-10-27 Nippon Paint Co Ltd Photosensitive compositions and processing method thereof
US4072529A (en) * 1975-08-20 1978-02-07 The Dow Chemical Company Gelled photopolymer composition and methods of making them
JPS5917414B2 (ja) * 1975-10-07 1984-04-21 村上スクリ−ン （株） スクリ−ン版用感光性組成物及び感光膜
US4042386A (en) * 1976-06-07 1977-08-16 Napp Systems Photosensitive compositions
FR2390760A1 (fr) * 1977-05-12 1978-12-08 Rhone Poulenc Graphic Nouvelles plaques lithographiques a base de photopolymeres et procedes de mise en oeuvre
US4116715A (en) * 1977-07-18 1978-09-26 Smiggen Frank J Method for removing photopolymers from metal substrates
US4283481A (en) * 1978-09-11 1981-08-11 Napp Systems (Usa) Inc. Element having phosphine activated photosensitive compositions therein
US4233391A (en) * 1978-09-11 1980-11-11 Napp Systems (Usa) Inc. Water developable photopolymerizable compositions containing phosphine activators and saponified polyvinyl acetate
DE2846647A1 (de) * 1978-10-26 1980-05-08 Basf Ag Photopolymerisierbare mischung fuer die herstellung von druck- und reliefformen
US4340686A (en) 1979-05-29 1982-07-20 E. I. Du Pont De Nemours And Company Carbamated poly(vinyl alcohol) useful as a binder in elastomeric photopolymer compositions
US4247624A (en) 1979-05-29 1981-01-27 E. I. Du Pont De Nemours And Company Photopolymerizable elastomeric compositions with carbamated poly(vinyl alcohol) binder
US4286518A (en) * 1979-07-25 1981-09-01 Armstrong World Industries, Inc. Print screen stencil
DE3226779A1 (de) * 1981-07-22 1983-02-10 Basf Ag, 6700 Ludwigshafen Verfahren zur verbesserung der herstellung, trocknung und lagerfaehigkeit von zur herstellung von reliefdruckformen geeigneten mehrschichtelementen
IT1159073B (it) * 1981-07-22 1987-02-25 Basf Ag Metodo per migliorare la preparazione,l'essiccazione e la immagazzinabilita' di elementi pluristrato adatti per la preparazione di stampi per stampaggio a rilievo
GB2109392B (en) * 1981-11-03 1985-06-26 Sericol Group Ltd Photopolymerisable materials for use in producing screen printing stencils
GB2108986B (en) * 1981-11-03 1985-06-26 Sericol Group Ltd Photopolymerisable composition for producing screen printing stencils
DE3144905A1 (de) * 1981-11-12 1983-05-19 Basf Ag, 6700 Ludwigshafen Zur herstellung von druck- und reliefformen geeignetes lichtempfindliches auszeichnungsmaterial und verfahren zur herstellung von druck- und reliefformen mittels dieses aufzeichnungsmaterials
JPS5894432A (ja) * 1981-11-28 1983-06-04 バスフ　アクチエンゲゼルシヤフト ビニルアルコ−ル重合体から平面状成形体を製造する方法
DE3274156D1 (en) * 1981-12-10 1986-12-11 Toray Industries Photosensitive polymer composition
JPS6051833A (ja) * 1983-07-01 1985-03-23 Toray Ind Inc 感光性樹脂組成物
US4540649A (en) * 1984-09-12 1985-09-10 Napp Systems (Usa) Inc. Water developable photopolymerizable composition and printing plate element containing same
US4822720A (en) * 1985-08-02 1989-04-18 Hoechst Celanese Corporation Water developable screen printing composition
US4780392A (en) * 1985-08-02 1988-10-25 Hoechst Celanese Corporation Radiation-polymerizable composition and element containing a photopolymerizable acrylic monomer
US4707437A (en) * 1985-08-02 1987-11-17 Hoechst Celanese Corporation Radiation-polymerizable composition and element containing a photopolymer composition
US4670507A (en) * 1985-08-02 1987-06-02 American Hoechst Corporation Resin
US4652604A (en) * 1985-08-02 1987-03-24 American Hoechst Corporation Radiation-polymerizable composition and element containing a photopolymer composition
US4895788A (en) * 1985-08-02 1990-01-23 Hoechst Celanese Corporation Water developable lithographic composition
JPH0687171B2 (ja) * 1985-11-29 1994-11-02 株式会社クラレ 感光性組成物
US5175076A (en) * 1986-09-22 1992-12-29 Nippon Paint Co., Ltd. Water-developable photosensitive composition for producing relief plates
EP0266069A3 (en) * 1986-10-01 1988-09-21 Napp Systems (Usa) Inc. Photopolymerizable composition useful for printing plates
JPH0273810A (ja) * 1988-09-08 1990-03-13 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 光重合性樹脂組成物
US5348844A (en) * 1990-12-03 1994-09-20 Napp Systems, Inc. Photosensitive polymeric printing medium and water developable printing plates
US5683837A (en) * 1994-11-18 1997-11-04 Napp Systems, Inc. Water-soluble compositions for preparation of durable, high-resolution printing plates

Also Published As

Publication number Publication date
DE2114767A1 (de) 1971-10-14
GB1351475A (en) 1974-05-01
JPS503041B1 (nl) 1975-01-31
BE764884A (fr) 1971-09-27
SE372112B (nl) 1974-12-09
FR2087850A5 (nl) 1971-12-31
NL165569C (nl) 1981-04-15
US3801328A (en) 1974-04-02
NL7104156A (nl) 1971-09-29
NL8100061A (nl) 1981-06-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL165569C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een lichtgevoelige drukplaat.
NL160512C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een van uitsteeksels voorziene plaat.
NL166051C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een drukgevoelig plakband.
NL170878C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een warmte-isolerend paneel.
NL166583C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een thermo- -elektrische eenheid.
NL7414007A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een half- geleiderinrichting.
NL177255B (nl) Inrichting voor het hersporen van een bandeenheid.
NL164142C (nl) Werkwijze voor het vormen van een hologram.
NL174098C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een fotokathode.
NL179325C (nl) Inrichting voor het pompen van een diodelaser.
NL161619B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een half- geleiderinrichting.
NL7413791A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een half- geleiderinrichting.
NL163872C (nl) Inrichting voor het aanwijzen van een drukverschil.
NL159734B (nl) Inrichting voor het vervaardigen van een vezelvlies.
NL173286C (nl) Werkwijze voor het bereiden van een dispersiegehard materiaal.
NL167976C (nl) Werkwijze voor het bereiden van een polymeer.
NL150320B (nl) Rammechanisme voor het bevestigen van druksluitingen.
NL172597C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een xerografische beeldplaat.
NL168359C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een afsluitplaat.
NL173427C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een warmlasbaar vezelvliesmateriaal.
NL170894C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een hologram.
NL143953B (nl) Werkwijze voor het bereiden van een perspoeder.
NL168216B (nl) Werkwijze voor het bereiden van een cyclopentaanderi- vaat.
NL169524C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een zeefdrukvorm.
NL152592B (nl) Werkwijze voor het bereiden van een tweedelige kleefstof.

Legal Events

Date Code Title Description
V4 Discontinued because of reaching the maximum lifetime of a patent