NL152853B - Werkwijze voor het bereiden van een ester van naftochinondiazidosulfonzuur, alsmede lichtgevoelig materiaal dat een aldus verkregen ester bevat. - Google Patents

Werkwijze voor het bereiden van een ester van naftochinondiazidosulfonzuur, alsmede lichtgevoelig materiaal dat een aldus verkregen ester bevat.

Info

Publication number
NL152853B
NL152853B NL676709893A NL6709893A NL152853B NL 152853 B NL152853 B NL 152853B NL 676709893 A NL676709893 A NL 676709893A NL 6709893 A NL6709893 A NL 6709893A NL 152853 B NL152853 B NL 152853B
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
naftochinoniazidosulphonic
eyer
ester
preparing
acid
Prior art date
Application number
NL676709893A
Other languages
English (en)
Other versions
NL6709893A (nl
Original Assignee
Hoechst Ag
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hoechst Ag filed Critical Hoechst Ag
Publication of NL6709893A publication Critical patent/NL6709893A/xx
Publication of NL152853B publication Critical patent/NL152853B/nl

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/022—Quinonediazides

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
NL676709893A 1966-07-27 1967-07-17 Werkwijze voor het bereiden van een ester van naftochinondiazidosulfonzuur, alsmede lichtgevoelig materiaal dat een aldus verkregen ester bevat. NL152853B (nl)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DEK0059885 1966-07-27

Publications (2)

Publication Number Publication Date
NL6709893A NL6709893A (nl) 1967-09-25
NL152853B true NL152853B (nl) 1977-04-15

Family

ID=7229358

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL676709893A NL152853B (nl) 1966-07-27 1967-07-17 Werkwijze voor het bereiden van een ester van naftochinondiazidosulfonzuur, alsmede lichtgevoelig materiaal dat een aldus verkregen ester bevat.

Country Status (10)

Country Link
US (1) US3640992A (nl)
AT (2) AT283389B (nl)
BE (1) BE701823A (nl)
CH (1) CH488679A (nl)
DE (1) DE1543721A1 (nl)
ES (1) ES343391A1 (nl)
FR (1) FR1533554A (nl)
GB (1) GB1127996A (nl)
NL (1) NL152853B (nl)
SE (2) SE354056B (nl)

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2742631A1 (de) * 1977-09-22 1979-04-05 Hoechst Ag Lichtempfindliche kopiermasse
DE2828037A1 (de) * 1978-06-26 1980-01-10 Hoechst Ag Lichtempfindliches gemisch
DE3582697D1 (de) * 1984-06-07 1991-06-06 Hoechst Ag Positiv arbeitende strahlungsempfindliche beschichtungsloesung.
US5217840A (en) * 1985-08-12 1993-06-08 Hoechst Celanese Corporation Image reversal negative working o-quinone diazide and cross-linking compound containing photoresist process with thermal curing treatment and element produced therefrom
US5256522A (en) * 1985-08-12 1993-10-26 Hoechst Celanese Corporation Image reversal negative working O-naphthoquinone diazide and cross-linking compound containing photoresist process with thermal curing
US4931381A (en) * 1985-08-12 1990-06-05 Hoechst Celanese Corporation Image reversal negative working O-quinone diazide and cross-linking compound containing photoresist process with thermal curing treatment
US4737437A (en) * 1986-03-27 1988-04-12 East Shore Chemical Co. Light sensitive diazo compound, composition and method of making the composition
JPS63265242A (ja) * 1987-04-23 1988-11-01 Fuji Photo Film Co Ltd 多色画像形成方法
DE3718416A1 (de) * 1987-06-02 1988-12-15 Hoechst Ag Lichtempfindliches gemisch auf basis von 1,2-naphthochinondiaziden, daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial und dessen verwendung
US4797345A (en) * 1987-07-01 1989-01-10 Olin Hunt Specialty Products, Inc. Light-sensitive 1,2-naphthoquinone-2-diazide-4-sulfonic acid monoesters of cycloalkyl substituted phenol and their use in light-sensitive mixtures
DE3729035A1 (de) * 1987-08-31 1989-03-09 Hoechst Ag Positiv arbeitendes lichtempfindliches gemisch und daraus hergestelltes photolithographisches aufzeichnungsmaterial
US4853315A (en) * 1988-01-15 1989-08-01 International Business Machines Corporation O-quinone diazide sulfonic acid monoesters useful as sensitizers for positive resists
US5273856A (en) * 1990-10-31 1993-12-28 International Business Machines Corporation Positive working photoresist composition containing mid or near UV radiation sensitive quinone diazide and sulfonic acid ester of imide or oxime which does not absorb mid or near UV radiation
US5260162A (en) * 1990-12-17 1993-11-09 Khanna Dinesh N Photosensitizer compositions containing diazo fluorinated esters of hexafluoro-bis-phenols or bis-hexafluoroethers
KR101632965B1 (ko) * 2008-12-29 2016-06-24 삼성디스플레이 주식회사 포토레지스트 조성물 및 박막 트랜지스터 기판의 제조 방법
CN117142988B (zh) * 2023-08-25 2024-03-01 安徽觅拓材料科技有限公司 一种重氮萘醌磺酸单酯化合物的制备方法和应用

Also Published As

Publication number Publication date
ES343391A1 (es) 1968-12-01
DE1543721A1 (de) 1969-09-11
AT283389B (de) 1970-08-10
AT280954B (de) 1970-05-11
CH488679A (de) 1970-04-15
US3640992A (en) 1972-02-08
GB1127996A (en) 1968-09-25
SE354056B (nl) 1973-02-26
SE350622B (nl) 1972-10-30
FR1533554A (fr) 1968-07-19
NL6709893A (nl) 1967-09-25
BE701823A (nl) 1968-01-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL158173B (nl) Werkwijze voor het bereiden van cyclopropaancarbonzuuresters met insekticide werking, voor het bereiden van insekticide preparaten en aldus verkregen gevormde insekticide preparaten.
NL170095B (nl) Werkwijze te bereiding van preparaten voor uitwendig gebruik.
NL169881C (nl) Werkwijze voor het bereiden van preparaten ter bestrijding van schadelijke organismen, alsmede werkwijze ter bereiding van voor deze werkwijze geschikte o-alkyl-s-alkyl-aryl-thionofosforzuuresters.
NL152853B (nl) Werkwijze voor het bereiden van een ester van naftochinondiazidosulfonzuur, alsmede lichtgevoelig materiaal dat een aldus verkregen ester bevat.
NL7505878A (nl) Werkwijze voor het bereiden en toepassen van bifenylylderivaten.
NL161164B (nl) Werkwijze voor het bereiden van een sequestreermiddel.
NL138814B (nl) Werkwijze voor het modificeren van het oppervlak van een voorwerp, dat uit een zwelbaar polymeer bestaat en aldus verkregen foelie.
NL173162C (nl) Werkwijze voor het bereiden van een insecticidepreparaat, alsmede van daarvoor geschikte cyclopropaancarbonzuur-cyclopentenonylesters.
NL150449B (nl) Werkwijze voor het bereiden van een thiazolylazijnzuurderivaat met ontstekingsgenezende werking en van de aldus bereide verbinding bevattende farmaceutische preparaten.
NL159562B (nl) Werkwijze voor het bereiden van een insekticide preparaat en het aldus bereide preparaat.
NL154269B (nl) Werkwijze voor het bereiden van een lipase en voor het bereiden van lipasepreparaten.
NL156136B (nl) Werkwijze voor het bereiden van ontstekingsremmende verbindingen en geneesmiddelen, alsmede aldus verkregen gevormde geneesmiddelen.
NL169307C (nl) Werkwijze voor het bereiden van eventueel gesubstitueerd buteen-2-ol-4 en ethers en esters hiervan.
NL154246B (nl) Werkwijze voor het bereiden van een hechtmiddel en gevormd voortbrengsel voorzien van een aldus bereid hechtmiddel.
NL7508073A (nl) Werkwijze voor het bereiden van fungicide preparaten alsmede aldus verkregen gevormde preparaten.
NL148237B (nl) Werkwijze voor de bereiding van mucolytisch werkzame preparaten.
NL156680B (nl) Werkwijze voor het bereiden van een polycarbonzuur.
NL170134C (nl) Werkwijze ter bereiding van een geneesmiddel met anti-adrenergische activiteit en daarmee verkregen gevormd geneesmiddel, alsmede werkwijze voor het bereiden van een anti-adrenergisch actieve 5-(1-hydroxy-2-aminoethyl)benzoezuuramide verbinding.
NL149190B (nl) Werkwijze voor het bereiden van een entcopolymeer.
NL143794B (nl) Werkwijze voor het bereiden van een insekticide preparaat.
NL139160B (nl) Werkwijze voor het bereiden van een acetaal van delta-oxoboterzuur.
NL161484C (nl) Werkwijze voor het bereiden van gestabiliseerde poly- alkenen.
NL157589B (nl) Werkwijze voor het bereiden van alifatische delta-hydroxycarbonzuuresters.
NL149295B (nl) Werkwijze voor het bereiden van een lichtgevoelig preparaat, alsmede lichtgevoelig materiaal dat van een aldus bereid preparaat is voorzien.
NL165932C (nl) Werkwijze voor het bereiden van een anti-inflammatoir werkzaam farmaceutisch preparaat, alsmede werkwijze ter bereiding van een 2-arylthiazol-4-ylderivaat van een alifatisch carbonzuur.

Legal Events

Date Code Title Description
NL80 Abbreviated name of patent owner mentioned of already nullified patent

Owner name: HOECHST

V4 Lapsed because of reaching the maximum lifetime of a patent