NL151137B - Inrichting voor het onder vacuuem reactief opdampen van dunne lagen op dragers. - Google Patents

Inrichting voor het onder vacuuem reactief opdampen van dunne lagen op dragers.

Info

Publication number
NL151137B
NL151137B NL7205592A NL7205592A NL151137B NL 151137 B NL151137 B NL 151137B NL 7205592 A NL7205592 A NL 7205592A NL 7205592 A NL7205592 A NL 7205592A NL 151137 B NL151137 B NL 151137B
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
carriers
thin layers
vacuum reactive
reactive vaporization
vaporization
Prior art date
Application number
NL7205592A
Other languages
English (en)
Dutch (nl)
Other versions
NL7205592A (cs
Original Assignee
Balzers Patent Beteilig Ag
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Balzers Patent Beteilig Ag filed Critical Balzers Patent Beteilig Ag
Publication of NL7205592A publication Critical patent/NL7205592A/xx
Publication of NL151137B publication Critical patent/NL151137B/xx

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
    • H01J37/32422—Arrangement for selecting ions or species in the plasma
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/0021—Reactive sputtering or evaporation
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24—Vacuum evaporation
    • C23C14/32—Vacuum evaporation by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours, e.g. ion-plating

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)
NL7205592A 1972-03-06 1972-04-25 Inrichting voor het onder vacuuem reactief opdampen van dunne lagen op dragers. NL151137B (nl)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CH327572A CH565869A5 (cs) 1972-03-06 1972-03-06

Publications (2)

Publication Number Publication Date
NL7205592A NL7205592A (cs) 1973-09-10
NL151137B true NL151137B (nl) 1976-10-15

Family

ID=4252464

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL7205592A NL151137B (nl) 1972-03-06 1972-04-25 Inrichting voor het onder vacuuem reactief opdampen van dunne lagen op dragers.

Country Status (7)

Country Link
JP (1) JPS5411798B2 (cs)
AT (1) AT319007B (cs)
CH (1) CH565869A5 (cs)
DE (1) DE2305359C3 (cs)
FR (1) FR2174967B1 (cs)
GB (1) GB1394655A (cs)
NL (1) NL151137B (cs)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5691437A (en) * 1979-12-26 1981-07-24 Nippon Hoso Kyokai <Nhk> Preparation of metallized element
GB2085482B (en) * 1980-10-06 1985-03-06 Optical Coating Laboratory Inc Forming thin film oxide layers using reactive evaporation techniques
JPS6115967A (ja) * 1984-06-29 1986-01-24 Sumitomo Electric Ind Ltd 表面処理方法
JPS61177366A (ja) * 1985-01-31 1986-08-09 Sharp Corp 超微粒子分散基板の製造装置
US4888202A (en) * 1986-07-31 1989-12-19 Nippon Telegraph And Telephone Corporation Method of manufacturing thin compound oxide film and apparatus for manufacturing thin oxide film

Also Published As

Publication number Publication date
FR2174967A1 (cs) 1973-10-19
FR2174967B1 (cs) 1977-04-22
DE2305359C3 (de) 1980-01-10
JPS48102076A (cs) 1973-12-21
AT319007B (de) 1974-11-25
GB1394655A (en) 1975-05-21
CH565869A5 (cs) 1975-08-29
DE2305359A1 (de) 1973-09-13
JPS5411798B2 (cs) 1979-05-17
DE2305359B2 (de) 1975-07-17
NL7205592A (cs) 1973-09-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL7415450A (nl) Inrichting voor het opbrengen van dunne lagen.
NL7412748A (nl) Werkwijze en inrichting voor het neerslaan van n in dunne, hechtende lagen op een kunst- rager.
NL173920C (nl) Inrichting voor het verdampen van stoffen.
NL149234B (nl) Werkwijze en inrichting voor het afzetten van dunne lagen geleidend of halfgeleidend materiaal op het oppervlak van een lichaam.
NL165938C (nl) Inrichting voor het behandelen van een dunne laag mate- riaal.
NL150676B (nl) Inrichting voor het opvangen van menstruatievloeistof.
NL167086C (nl) Inrichting voor het afnemen van bloed.
NL165224C (nl) Inrichting voor het onder vacuuem aanbrengen van oppervlaktelagen op voorwerpen.
BE805745A (fr) Dispositif pour oxygener le sang
NL175689B (nl) Inrichting voor het behandelen van wrongel.
NL180805C (nl) Inrichting voor het concentreren van vloeibare monsters.
NL7409415A (nl) Inrichting voor het afzetten van dunne lagen onder vacuum.
NL183393C (nl) Inrichting voor het vervaardigen van steriele verpakkingen.
NL179571C (nl) Inrichting voor het vervaardigen van een stapel uit lagen.
NL181864C (nl) Inrichting voor het met veranderlijke snelheid aandrijven van beweegbare delen.
NL7603866A (nl) Inrichting voor het onderzoeken van aslagers in een hoogvacuumkamer.
NL7413289A (nl) Inrichting voor het aanbrengen van lagen in de van een vloeistof op voorwerpen.
NL165108C (nl) Inrichting voor het vervaardigen van zakken.
NL175131C (nl) Inrichting voor het snijden van wrongel.
NL151137B (nl) Inrichting voor het onder vacuuem reactief opdampen van dunne lagen op dragers.
NL147693B (nl) Inrichting voor het van elkaar verwijderen van twee op elkaar liggende dunne lagen.
NL150315B (nl) Inrichting voor het vervaardigen van lolly&#39;s.
NL175954C (nl) Standfixeerinrichting voor gebruik in draaischakelaars.
NL160884C (nl) Inrichting voor het magnetisch behandelen van een vloeistof.
NL173257C (nl) Inrichting voor het stapelen van lagen gietbroodjes.

Legal Events

Date Code Title Description
V1 Lapsed because of non-payment of the annual fee
NL80 Abbreviated name of patent owner mentioned of already nullified patent

Owner name: BALZERS