NL142998B - Werkwijze voor het vervaardigen van halfgeleiderinrichtingen en halfgeleiderinrichting vervaardigd met behulp van de werkwijze. - Google Patents

Werkwijze voor het vervaardigen van halfgeleiderinrichtingen en halfgeleiderinrichting vervaardigd met behulp van de werkwijze.

Info

Publication number
NL142998B
NL142998B NL6500630A NL6500630A NL142998B NL 142998 B NL142998 B NL 142998B NL 6500630 A NL6500630 A NL 6500630A NL 6500630 A NL6500630 A NL 6500630A NL 142998 B NL142998 B NL 142998B
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
manufacture
device manufactured
semiconductor device
semiconductor devices
semiconductor
Prior art date
Application number
NL6500630A
Other languages
English (en)
Dutch (nl)
Other versions
NL6500630A (enrdf_load_stackoverflow
Original Assignee
Philips Nv
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Philips Nv filed Critical Philips Nv
Publication of NL6500630A publication Critical patent/NL6500630A/xx
Publication of NL142998B publication Critical patent/NL142998B/xx

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/54—Absorbers, e.g. of opaque materials
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
    • C23F1/00—Etching metallic material by chemical means
    • C23F1/02—Local etching

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
NL6500630A 1964-01-23 1965-01-19 Werkwijze voor het vervaardigen van halfgeleiderinrichtingen en halfgeleiderinrichting vervaardigd met behulp van de werkwijze. NL142998B (nl)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GB297364A GB1057105A (en) 1964-01-23 1964-01-23 An optical mask

Publications (2)

Publication Number Publication Date
NL6500630A NL6500630A (enrdf_load_stackoverflow) 1965-07-26
NL142998B true NL142998B (nl) 1974-08-15

Family

ID=9749528

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL6500630A NL142998B (nl) 1964-01-23 1965-01-19 Werkwijze voor het vervaardigen van halfgeleiderinrichtingen en halfgeleiderinrichting vervaardigd met behulp van de werkwijze.

Country Status (9)

Country Link
JP (1) JPS5021227B1 (enrdf_load_stackoverflow)
AT (1) AT261712B (enrdf_load_stackoverflow)
BE (1) BE658730A (enrdf_load_stackoverflow)
CH (1) CH464693A (enrdf_load_stackoverflow)
DE (1) DE1521902A1 (enrdf_load_stackoverflow)
FR (1) FR1421953A (enrdf_load_stackoverflow)
GB (1) GB1057105A (enrdf_load_stackoverflow)
NL (1) NL142998B (enrdf_load_stackoverflow)
SE (1) SE336957B (enrdf_load_stackoverflow)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3215410A1 (de) * 1982-04-24 1983-10-27 Licentia Patent-Verwaltungs-Gmbh, 6000 Frankfurt Verfahren zum herstellen von oeffnungen mit hilfe einer maske in einer auf einer unterlage befindlichen schicht
GB2132789A (en) * 1982-11-24 1984-07-11 Western Electric Co Method of pattern generation

Also Published As

Publication number Publication date
AT261712B (de) 1968-05-10
DE1521902A1 (de) 1969-05-29
GB1057105A (en) 1967-02-01
CH464693A (de) 1968-10-31
FR1421953A (fr) 1965-12-17
NL6500630A (enrdf_load_stackoverflow) 1965-07-26
JPS5021227B1 (enrdf_load_stackoverflow) 1975-07-21
BE658730A (enrdf_load_stackoverflow) 1965-07-22
SE336957B (enrdf_load_stackoverflow) 1971-07-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL142066B (nl) Inrichting voor het vervaardigen van tampons.
NL145826B (nl) Inrichting voor de bereiding van oxyden.
NL139930B (nl) Werkwijze en inrichting voor het vervaardigen van afzonderlijke blokvormige verpakkingen.
NL7612950A (nl) Inrichting voor het vervaardigen van met vezels versterkte kunstharsprofielen.
NL154868B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van halfgeleiderinrichtingen en halfgeleiderinrichtingen volgens deze werkwijze verkregen.
NL139495B (nl) Werkwijze en inrichting voor het vervaardigen van rechthoekige slangen.
NL143934B (nl) Werkwijze voor het bereiden van organotintrihalogeniden.
NL152116B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een ingekapselde halfgeleiderinrichting en ingekapselde halfgeleiderinrichting vervaardigd volgens de werkwijze.
NL143072B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting en halfgeleiderinrichting vervaardigd volgens de werkwijze.
NL142018B (nl) Werkwijze tot het vervaardigen van een halfgeleidende inrichting en inrichting vervaardigd volgens de werkwijze.
NL148410B (nl) Inrichting voor het bepalen van de bezinkingssnelheid van bloedlichaampjes.
NL142110B (nl) Werkwijze en inrichting voor het vervaardigen van luchtbanden.
NL155663B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van halfgeleiderinrichtingen, alsmede voorwerp vervaardigd volgens deze werkwijze.
NL139843B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van halfgeleiderinrichtingen, alsmede aldus vervaardigde halfgeleiderinrichtingen.
NL148915B (nl) Werkwijze voor de bereiding van poly-epsilon-caprolactam.
NL143546B (nl) Werkwijze voor het bereiden van jood-polyhydropolyfluoralkanen.
NL145796B (nl) Inrichting voor het vervaardigen van rotatiesymmetrische voorwerpen.
NL149195B (nl) Werkwijze voor het bereiden van oplossingen van polyurethanelastomeren.
NL143627B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van halfgeleiderinrichting en aldus vervaardigde inrichtingen.
NL152458B (nl) Werkwijze voor het uitwisselen van ionen, alsmede inrichting daarvoor.
NL154834B (nl) Inrichting voor het onderdrukken van dichte zones.
NL154867B (nl) Werkwijze voor de vervaardiging van een halfgeleiderinrichting, alsmede volgens deze werkwijze vervaardigde veldeffect-transistor en planaire transistor.
NL144684B (nl) Inrichting voor het ophangen van was.
NL140906B (nl) Werkwijze en inrichting voor het vervaardigen van gelaagde panelen.
NL143536B (nl) Inrichting voor het vervaardigen van drijfglas.

Legal Events

Date Code Title Description
NL80 Abbreviated name of patent owner mentioned of already nullified patent

Owner name: PHILIPS

V4 Lapsed because of reaching the maxim lifetime of a patent