NL142019B - Werkwijze voor het vervaardigen van een veldeffecttransistor en veldeffecttransistor vervaardigd volgens deze werkwijze. - Google Patents

Werkwijze voor het vervaardigen van een veldeffecttransistor en veldeffecttransistor vervaardigd volgens deze werkwijze.

Info

Publication number
NL142019B
NL142019B NL63299911A NL299911A NL142019B NL 142019 B NL142019 B NL 142019B NL 63299911 A NL63299911 A NL 63299911A NL 299911 A NL299911 A NL 299911A NL 142019 B NL142019 B NL 142019B
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
field effect
effect transistor
accordance
manufacturing
transistor made
Prior art date
Application number
NL63299911A
Other languages
English (en)
Original Assignee
Csf
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from GB1827351A external-priority patent/GB713264A/en
Application filed by Csf filed Critical Csf
Publication of NL142019B publication Critical patent/NL142019B/nl

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M1/00—Inking and printing with a printer's forme
    • B41M1/14—Multicolour printing
    • B41M1/20—Multicolour printing by applying differently-coloured inks simultaneously to different parts of the printing surface
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S438/00—Semiconductor device manufacturing: process
    • Y10S438/914—Doping
    • Y10S438/923—Diffusion through a layer
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S438/00—Semiconductor device manufacturing: process
    • Y10S438/965—Shaped junction formation

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Junction Field-Effect Transistors (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
NL63299911A 1951-08-02 1963-10-30 Werkwijze voor het vervaardigen van een veldeffecttransistor en veldeffecttransistor vervaardigd volgens deze werkwijze. NL142019B (nl)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GB1827351A GB713264A (en) 1951-08-02 1951-08-02 Multi-colour printing method
FR914159A FR1349963A (fr) 1951-08-02 1962-11-02 Micro-élément semi-conducteur à effet de champ et procédé pour sa fabrication

Publications (1)

Publication Number Publication Date
NL142019B true NL142019B (nl) 1974-04-16

Family

ID=26198223

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL299911D NL299911A (nl) 1951-08-02
NL63299911A NL142019B (nl) 1951-08-02 1963-10-30 Werkwijze voor het vervaardigen van een veldeffecttransistor en veldeffecttransistor vervaardigd volgens deze werkwijze.

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL299911D NL299911A (nl) 1951-08-02

Country Status (5)

Country Link
US (1) US3772098A (nl)
DE (1) DE1464525C3 (nl)
FR (2) FR1060725A (nl)
GB (1) GB1060725A (nl)
NL (2) NL142019B (nl)

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3328601A (en) * 1964-04-06 1967-06-27 Northern Electric Co Distributed field effect devices
US3358195A (en) * 1964-07-24 1967-12-12 Motorola Inc Remote cutoff field effect transistor
US3378737A (en) * 1965-06-28 1968-04-16 Teledyne Inc Buried channel field effect transistor and method of forming
NL152708B (nl) * 1967-02-28 1977-03-15 Philips Nv Halfgeleiderinrichting met een veldeffecttransistor met geisoleerde poortelektrode.
NL152707B (nl) * 1967-06-08 1977-03-15 Philips Nv Halfgeleiderinrichting bevattende een veldeffecttransistor van het type met geisoleerde poortelektrode en werkwijze ter vervaardiging daarvan.
JPS5546068B2 (nl) * 1973-05-22 1980-11-21
US4048647A (en) * 1976-09-10 1977-09-13 Northern Telecom Limited Solid state disconnect device
JPS59149427A (ja) * 1983-02-16 1984-08-27 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置
US5462767A (en) * 1985-09-21 1995-10-31 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. CVD of conformal coatings over a depression using alkylmetal precursors
TWI445175B (zh) * 2011-11-11 2014-07-11 Au Optronics Corp 主動元件

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2816847A (en) * 1953-11-18 1957-12-17 Bell Telephone Labor Inc Method of fabricating semiconductor signal translating devices
NL267831A (nl) * 1960-08-17
NL297602A (nl) * 1962-09-07
US3295030A (en) * 1963-12-18 1966-12-27 Signetics Corp Field effect transistor and method
US3378738A (en) * 1965-08-25 1968-04-16 Trw Inc Traveling wave transistor
NL6807317A (nl) * 1968-05-23 1969-11-25

Also Published As

Publication number Publication date
DE1464525A1 (de) 1968-12-05
DE1464525B2 (de) 1971-11-11
US3772098A (en) 1973-11-13
FR1349963A (fr) 1964-01-24
DE1464525C3 (de) 1975-05-07
NL299911A (nl)
FR1060725A (fr) 1954-04-05
GB1060725A (en) 1967-03-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL173184B (nl) Inrichting voor het invoeren van toeslagmateriaal in een smelt.
NL170646B (nl) Werkwijze voor het in een vlak oppervlak van een voorwerp vormen van verdiepte delen.
NL159777B (nl) Werkwijze en inrichting voor het vervaardigen van een bekledingslichaam van een verbrandingskamer.
NL142019B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een veldeffecttransistor en veldeffecttransistor vervaardigd volgens deze werkwijze.
NL169852C (nl) Transportinrichting.
NL160193B (nl) Inrichting voor het vervaardigen van een kunststofbuis met dwarse golven.
NL174479B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van gevormde voorwerpen.
NL140101B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting en halfgeleiderinrichting vervaardigd volgens deze werkwijze.
NL143734B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderveldeffectinrichting en halfgeleiderveldeffectinrichting verkregen volgens deze werkwijze.
NL164481B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een selectief permeabel membraanelement en inrichting ten gebruike bij de vervaardiging daarvan.
NL170372B (nl) Diffusie-inrichting.
NL178038B (nl) Inrichting voor het positioneren van roentgenfilms en versterkingsfoelies.
NL154867B (nl) Werkwijze voor de vervaardiging van een halfgeleiderinrichting, alsmede volgens deze werkwijze vervaardigde veldeffect-transistor en planaire transistor.
NL151558B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting en halfgeleiderinrichting vervaardigd volgens deze werkwijze.
NL141709B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting en halfgeleiderinrichting vervaardigd volgens deze werkwijze.
NL157749B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een veldeffecttransistor en veldeffecttransistor vervaardigd volgens de werkwijze.
NL188174B (nl) Inrichting voor het vervaardigen van geborduurde tapijten.
NL182628B (nl) Inrichting voor het vormen van kunststofvoorwerpen met een inspringend gedeelte.
NL157829B (nl) Werkwijze en inrichting voor het vervaardigen van vormlingen.
NL167105B (nl) Inrichting voor het aanbrengen van series spleten in een plaat.
NL150619B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting en een halfgeleiderinrichting vervaardigd volgens deze werkwijze.
NL162009B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een draagzak.
NL181820B (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een aansluitelement voor een plaatradiator alsmede plaatradiator voorzien van een dergelijk aansluitelement.
NL162932B (nl) Werkwijze voor het bereiden van entcopolymeren.
NL164239C (nl) Inrichting voor het vervaardigen van gevulde tetraedervormige houders.