NL1010046C2 - Spraying station. - Google Patents
Spraying station. Download PDFInfo
- Publication number
- NL1010046C2 NL1010046C2 NL1010046A NL1010046A NL1010046C2 NL 1010046 C2 NL1010046 C2 NL 1010046C2 NL 1010046 A NL1010046 A NL 1010046A NL 1010046 A NL1010046 A NL 1010046A NL 1010046 C2 NL1010046 C2 NL 1010046C2
- Authority
- NL
- Netherlands
- Prior art keywords
- chamber
- transport
- station
- lock chamber
- workpiece
- Prior art date
Links
- 0 C[C@@](CC*)C1C*CC1 Chemical compound C[C@@](CC*)C1C*CC1 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32431—Constructional details of the reactor
- H01J37/32733—Means for moving the material to be treated
- H01J37/32743—Means for moving the material to be treated for introducing the material into processing chamber
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/564—Means for minimising impurities in the coating chamber such as dust, moisture, residual gases
- C23C14/566—Means for minimising impurities in the coating chamber such as dust, moisture, residual gases using a load-lock chamber
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32431—Constructional details of the reactor
- H01J37/32733—Means for moving the material to be treated
- H01J37/32788—Means for moving the material to be treated for extracting the material from the process chamber
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L21/687—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches
- H01L21/68707—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a robot blade, or gripped by a gripper for conveyance
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Robotics (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Spray Control Apparatus (AREA)
Abstract
Description
SproeistationSpraying station
De onderhavige uitvinding betreft een sproeistation voor cirkelschijfvormige werkstukken, in het bijzonder voor het opbrengen van reflecterende lagen op optische 5 gegevensdragers, in het vervolg CD genoemd. Het station omvat een sluiskamer, een sproeibron met werkvlakken alsmede een transportkamer met telkens een verbindingsopening met de sluiskamer en met de sproeibron, telkens voor de doorvoer, respectievelijk transport van een werkstuk naar, respectievelijk vanaf een sproeipositie. Het station is verder voorzien van een transportinrichting in de transportkamer voor 10 transport van een werkstuk tussen de genoemde openingen. Meer in het bijzonder betreft de onderhavige uitvinding een sproeistation volgens de aanhef van conclusie 1.The present invention relates to a spraying station for circular disk-shaped workpieces, in particular for applying reflective layers to optical data carriers, hereinafter referred to as CD. The station comprises a lock chamber, a spray source with work surfaces and a transport chamber with in each case a connection opening with the lock chamber and with the spray source, in each case for the passage or transport of a workpiece to or from a spray position, respectively. The station is further provided with a transport device in the transport chamber for transporting a workpiece between said openings. More particularly, the present invention relates to a spraying station according to the preamble of claim 1.
Een dergelijk sproeistation is bijvoorbeeld bekend uit Amerikaans octrooischrift US-A-5.662.785.Such a spraying station is known, for example, from U.S. Pat. No. 5,662,785.
De onderhavige uitvinding heeft als doelstelling een dergelijk sproeistation te 15 verschaffen dat de volgende voordelen verenigt: - zo klein mogelijke bouwvoim en minimale ruimtebehoefte; - korte cyclustijden tussen het in- en uitsluizen van een werkstuk; - vrij kiesbare, willekeurige inbouwpositie, d.w.z. sproeien van boven naar beneden, van onder naar boven horizontaal; 20 - modulair in een sproeisamenstel in te bouwen; - eenvoudig in opbouw, robuust en - bij vervaardiging en onderhoud economisch.The present invention has for its object to provide such a spraying station that combines the following advantages: - the smallest possible construction volume and minimum space requirement; - short cycle times between embedding and closing out a workpiece; freely selectable, arbitrary mounting position, i.e. spraying from top to bottom, from bottom to top horizontal; - modular to be built into a spray assembly; - simple in construction, robust and - economical in manufacture and maintenance.
Deze voordelen worden door het sproeistation van de bij aanhef genoemde soort bereikt, met de maatregelen volgens het kenmerkende deel van conclusie 1. Het 25 onderhavige sproeistation omvat uitsluitend een sluiskamer en een daartegenover liggend sproeistation met een daartussen gelegen transportkamer. Het transport van sluiskamer naar sproeistation, respectievelijk van sproeistation naar sluiskamer vindt gelijktijdig plaats met een enkele draaibeweging van de transportinrichting. Door de gerealiseerde drastische vereenvoudiging van het station tot het absoluut noodzakelijke met zeer snelee 30 draaitransportbewegingen wordt een zo compact mogelijk, eenvoudig en snel station met hoge uitvoer gerealiseerd.These advantages are achieved by the spraying station of the type mentioned in the preamble, with the measures according to the characterizing part of claim 1. The present spraying station comprises exclusively a sluice chamber and an opposite spraying station with a transport chamber located therebetween. The transport from lock chamber to spray station, or from spray station to lock chamber, takes place simultaneously with a single rotational movement of the transport device. The drastic simplification of the station to the absolute necessity with very fast rotary transport movements has achieved a compact, simple and fast station with a high output.
Verder zijn bij voorkeur relatief ten opzichte van elkaar bewegende delen van de genoemde arm ingekapseld met een balg.Furthermore, parts of said arm relative to each other moving relative to each other are preferably encapsulated with a bellows.
1010046 71010046 7
Het station volgens de uitvinding wordt bijzonder eenvoudig in opbouw doordat in een voorkeursuitvoeringsvorm het werkstukopneemdeel het sluisventiel aan de transportkamerzijde van de sluiskamer vormt en/of de afdichtinrichting tussen sproeibron en transportkamer.The station according to the invention becomes particularly simple in construction in that in a preferred embodiment the workpiece receptacle forms the sluice valve on the transport chamber side of the sluice chamber and / or the sealing device between spray source and transport chamber.
5 Op zeer eenvoudige wijze wordt verder de realisatie van willekeurig te kiezen inbouwposities zeker gesteld doordat het werkstukopneemdeel voorzien is van een vasthoudverbinding voor een werkstuk, bij voorkeur een vergrendelvasthoudverbinding, bij cirkelschijfvormige werkstukken met een middengat bij voorkeur een in dit middengat vergrendelende veerkogelvergrendelinrichting.Furthermore, the realization of arbitrarily selectable mounting positions is ensured in that the workpiece receiving part is provided with a retaining connection for a workpiece, preferably a locking retaining connection, for circle-disc shaped workpieces with a center hole, preferably a spring ball locking device locking in this center hole.
10 Het voordeel van een zeer compacte bouwwijze wordt in het bijzonder en bij voorkeur bereikt doordat de sluiskamer in hoofdzaak door de wanddikte van de één van de openingen omgevende transportkamerwand gevormd wordt en/of dat de sproeiprocesruimte in hoofdzaak door de wanddikte van de transportkamerwand rond de andere van de genoemde openingen gedefinieerd wordt.The advantage of a very compact construction is achieved in particular and preferably in that the lock chamber is formed essentially by the wall thickness of the conveying chamber wall surrounding one of the openings and / or that the spraying process space is essentially formed by the wall thickness of the conveying chamber wall around the other of the said openings is defined.
15 Verder zijn in een voorkeursuitvoeringsvorm tenminste de sluiskamer en verder de transportkamer en/of de procesruimte van de sproeibron telkens voorzien van pompaansluitingen en/of bevloeiingsaansluitingen.Furthermore, in a preferred embodiment, at least the lock chamber and furthermore the transport chamber and / or the process space of the spray source are in each case provided with pump connections and / or irrigation connections.
Ingebouwd in een vacuumoppervlaktebewerkingsinrichting als sproeistation, wordt een dergelijke inrichting bij voorkeur naast de genoemde sproeistationmodule voorzien 20 van een elektronicamodule voor besturings- en bewakingsdoeleinden van met name het genoemde station alsmede van een verdere transportinrichting die van buiten de sluiskamer bedient. Bij voorkeur beweegt de verdere transportinrichting zich daarbij met name in een vlak dat parallel ligt aan het vlak van de opening tussen transportkamer en sluiskamer van het station en vormt verder bij voorkeur het buitenste sluisventiel van de 25 stationssluiskamer.Built into a vacuum surface processing device as a spraying station, such a device is preferably provided, in addition to the said spraying station module, with an electronic module for control and monitoring purposes, in particular of the said station, and with a further transport device which operates from outside the lock chamber. The further conveying device herein preferably moves in a plane parallel to the plane of the opening between the transport chamber and the lock chamber of the station and furthermore preferably forms the outer lock valve of the station lock chamber.
De uitvinding wordt hierna aan de hand van figuren toegelicht. Hierbij toont:The invention is explained below with reference to figures. Hereby shows:
Fig. 1 een deeldoorsnede van een schematisch en vereenvoudigd weergegeven station volgens de uitvinding;FIG. 1 is a partial sectional view of a station according to the invention, shown schematically and in a simplified manner;
Fig. 2 een deellangsdoorsnede door een werkstukopneemblad aan het station 30 volgens Fig. 1 met een kogelvergrendelinrichting voor een CD-schijf;FIG. 2 shows a partial longitudinal section through a workpiece receiving sheet at the station 30 according to FIG. 1 with a ball-locking device for a CD disk;
Fig. 3, 3a schematisch een station volgens de uitvinding met een eerste uitvoering van een buitenste sluisdeksel, respectievelijk -ventiel; 1010046 λFIG. 3, 3a schematically a station according to the invention with a first embodiment of an outer lock cover or valve; 1010046 λ
Fig. 3b het bovenaanzicht van het station volgens Fig. 3a met een laadarm als buitenste transportinrichting;FIG. 3b shows the top view of the station according to FIG. 3a with a loading arm as the outer transport device;
Fig. 4 in een aan Fig. 3 analoge weergave het station volgens de uitvinding met een verdere uitvoeringsvorm van het laad-/ontlaadmechanisme daarvan; 5 Fig. 5 t/m 7 verdere uitvoeringsvormen van laad-/ontlaadinrichtingen van een analoog aan Fig. 3 weergegeven inrichting volgens de uitvinding met een station volgens de uitvinding.FIG. 4 in an embodiment shown in FIG. 3 shows the station in accordance with the invention with a further embodiment of the loading / unloading mechanism thereof; FIG. 5 to 7 further embodiments of loading / unloading devices of an analogue to FIG. 3 device according to the invention with a station according to the invention.
Volgens Fig. 1 omvat een sproeistation volgens de uitvinding een transportkamer 1 met twee langs een dwarsas Q door de kamer 1 tegenover elkaar liggende openingen 3o en 10 5o. Aan de opening 50 is een sproeibron 7 bevestigd met schematisch weergegeven periferiemasker 9 en middenmasker 11, alsmede sproeiwerkvlak 7a. Loodrecht op de as Q en daarmee in één vlak liggend, is de rotatieas Al van een transportinrichting 13 geplaatst met een aandrijving 15 en een drager 17. Aan de drager 17 zijn tegenover elkaar liggend twee door balgen ingekapselde ten opzichte van de openingen 3o resp. 5o uitschuifbare, 15 resp. inschuifbare armen 19 geplaatst, welke aan hun einden ieder voorzien zijn van een opnameblad 21 voor een schijfvormig werkstuk 23 met een middengat.According to FIG. 1, a spraying station according to the invention comprises a transport chamber 1 with two openings 3o and 5o opposite each other along a transverse axis Q through the chamber 1. A spray source 7 is attached to the opening 50 with a peripheral mask 9 and center mask 11 schematically shown, as well as a spray work surface 7a. Perpendicular to the axis Q and thus lying in one plane, the axis of rotation A1 of a transport device 13 is placed with a drive 15 and a carrier 17. Opposite the carrier 17 are two bellows encapsulated with respect to the openings 30 5o extendable, 15 resp. extendable arms 19, each of which is provided at their ends with a receiving blade 21 for a disc-shaped workpiece 23 with a center hole.
De wand 25 van de transportkamer 1, die met overeenkomstige wanddikte de opening 3o omgeeft, definieert de sluiskamer 3. Het naar de transportkamer 1 gerichte sluisventiel wordt gevormd door het in overeenkomstige positie gebrachte opnameblad 21 20 voor het werkstuk 23. Het blad 21 is, wanneer het werkstuk uitgevoerd is met middengat en zoals schematisch weergegeven in Fig. 2, voorzien van een middenuitsteeksel 30 met radiale, met veren gespannen vergrendelkogels 32 die het werkstuk 23 vasthouden wanneer deze daarover gelegd wordt. In plaats van een vergrendelklem kan ook voorzien zijn in een zuig- ofmagneetklem.The wall 25 of the transport chamber 1, which surrounds the opening 30 with a corresponding wall thickness, defines the lock chamber 3. The lock valve directed to the transport chamber 1 is formed by the receiving sheet 21 for the workpiece 23 brought into the corresponding position. when the workpiece is designed with a center hole and as shown schematically in FIG. 2, provided with a central protrusion 30 with radial spring-loaded locking balls 32 which hold the workpiece 23 when it is placed over it. Instead of a locking clamp, a suction or magnet clamp can also be provided.
25 Hiermee is het mogelijk het station volgens de uitvinding in willekeurige ruimtelijke oriëntering te bedrijven. Met een streeplijn is het buitenste sluiskamerdeksel, resp. het buitenste sluiskamerventiel 34 weergegeven, welke gevormd wordt door een overeenkomstig gevormde, niet direct tot het station volgens de uitvinding maar tot de inrichting behorende verdere transportinrichting of zelfs door een speciaal daarvoor 30 bedoeld deksel. Zoals blijkt uit Fig. 2 kan het buitenste sluisventiel 34 een middeninzinking hebben waarin het uitsteeksel 30 voor de overgave, resp. teruggave van het werkstuk ingrijpt, waarbij bij het ventiel, zoals met de pijlen v aangegeven, bijvoorbeeld een zuiginrichting de werkstukken naar het ventiel trekt of vrijgeeft. Ook in 1010046 4 het gebied van de opening 5o, waaraan de sproeibron 7 bevestigd is, wordt door de wand 25 van de kamer 1, resp. door de dikte daarvan de sproeiprocesraimte gevormd.This makes it possible to operate the station according to the invention in any spatial orientation. The outer lock chamber lid, resp. the outer lock chamber valve 34, which is formed by a correspondingly shaped further conveying device not directly associated with the station according to the invention but belonging to the device, or even by a cover specially intended for this purpose. As appears from FIG. 2, the outer sluice valve 34 may have a center depression in which the projection 30 for the transfer or resp. return of the workpiece, wherein at the valve, as indicated by the arrows v, for example, a suction device pulls or releases the workpieces to the valve. Also in 1010046 4 the area of the opening 5o, to which the spray source 7 is attached, is through the wall 25 of the chamber 1, resp. the spray process area is formed by its thickness.
Op grond van de grote compactheid en in het bijzonder ook de sluiskamer 3 met een klein volume wordt een zeer kleine cyclustijd voor het van lagen voorzien van CD’s 5 bereikt, bijvoorbeeld in de ordegrootte van drie seconden na het beladen van de sluiskamer 3 tot aan het ontladen van de sluiskamer 3 met hetzelfde werkstuk.Due to the great compactness and in particular also the lock chamber 3 with a small volume, a very small cycle time for coating CDs 5 is achieved, for example in the order of three seconds after loading the lock chamber 3 up to the unloading the lock chamber 3 with the same workpiece.
Bij 36 is een pomp-/bevloeiingsaansluiting voor de sluiskamer weergegeven, bij 38 een dergelijke aansluiting voor de transportkamer en de procesruimte 5 van het sproeistation in de opening 50, waarbij op deze plaats eventueel ook daarnaast nog een 10 pomp-/bevloeiingsaansluiting aanwezig kan zijn.At 36 a pump / irrigation connection for the lock chamber is shown, at 38 such a connection for the transport chamber and the process space 5 of the spraying station in the opening 50, whereby a pump / irrigation connection may possibly also be present at this location. .
In Fig. 3a is het zojuist beschreven station weergegeven, waarbij met dezelfde verwijzingscijfers zoals reeds gebruikt in Fig. 1, alleen transportinrichtingaandrijving 15, sproeibron 7 en drager 17 getoond zijn. Na de uitleg bij Fig. 1 is de opbouw van het station volgens Fig. 3a zonder meer duidelijk voor de deskundige. Het buitenste sluis-15 ventiel wordt gevormd door een deksel 34a die bijvoorbeeld met een pneumatische aandrijfinrichting 40 bedreven wordt. In Fig. 3b is het station weergegeven langs de lijn ΠΙ-ΙΙΙ van Fig. 3a. Verder is in Fig. 3b schematisch de laadarm 42 weergegeven, bijvoorbeeld een pers voor de CD, die na een voltooide persstap de CD als werkstuk 23 overeenkomstig de draaibeweging 0)2 tussen opening 3o van Fig. 1 en sluisdeksel 34a van 20 Fig. 3a schuift, daar de schijf overgeeft aan het opnameblad 21, teruggaat, waarna het sluisdeksel 34a de sluiskamer 3 afsluit.In FIG. 3a shows the station just described, with the same reference numerals as already used in FIG. 1, only transport device drive 15, spray source 7 and carrier 17 are shown. After the explanation of FIG. 1 is the structure of the station according to FIG. 3a is clearly clear to the expert. The outer lock valve is formed by a cover 34a which is operated, for example, with a pneumatic drive device 40. In FIG. 3b, the station is shown along the line ΠΙ-ΙΙΙ of FIG. 3a. Furthermore, in FIG. 3b schematically shows the loading arm 42, for example a press for the CD, which after a completed pressing step the CD as a workpiece 23 according to the rotational movement 0) between opening 3o of FIG. 1 and lock lid 34a of FIG. 3a slides, as the disc transfers to the recording sheet 21, returns, after which the lock cover 34a closes the lock chamber 3.
In Fig. 4, 5, 6 en 7 zijn telkens met de weergave volgens Fig. 3a de stations volgens de uitvinding weergegeven. Het station is in de Fig. 4 Mm 7 in het algemeen met 50 aangegeven.In FIG. 4, 5, 6 and 7 are each with the representation according to FIG. 3a the stations according to the invention. The station is shown in FIG. 4 Mm 7 is generally indicated by 50.
25 Een tweearmige transportinrichting 52 heeft volgens Fig. 4 tenminste twee met betrekking tot hun draaias A2 radiaal geplaatste, over 90° verschoven transportarmen 54, die beide radiaal uitschuifbaar, resp. inschuifbaar zijn. De as A2 staat loodrecht op het vlak E volgens Fig. 1. Bijvoorbeeld van zuigvasthoudorganen voorziene opnamebladen 56 aan de armen 54 maken het mogelijk de werkstukschijven over te nemen van een 30 lineaire transportinstallatie 58 en in een insluispositie te brengen, waarbij bij voorkeur het telkens tegenover de sluis gepositioneerde transportblad 56 als buitenste sluisventiel werkt. Het sluisstation 50 wordt hier met een horizontale as Q bedreven.A two-armed transport device 52 according to FIG. 4 at least two transport arms 54 radially arranged with respect to their axis of rotation A2 and shifted through 90 °, both of which are radially extendable, resp. retractable. The axis A2 is perpendicular to the plane E according to FIG. 1. For example, receiving trays 56 provided with suction holding members on the arms 54 make it possible to take over the workpiece disks from a linear transport installation 58 and to bring them into a containment position, wherein the transport leaf 56, each positioned opposite the lock, acts as an outer lock valve. The lock station 50 is operated here with a horizontal axis Q.
1010046 51010046 5
Volgens Fig. 5 is, zoals voor de deskundige zonder verdere uitleg duidelijk is, voorzien in een buitenste, resp. verdere transportinrichting 52a, die wederom met radiaal uitstekende armen 54 en opnamebladen 56 rond een in het vlak E en parallel aan de as Ai van het station volgens Fig. 1 liggende as A3 aangedreven draaibaar is. Ook hier vormen 5 de telkens overeenkomstig gepositioneerde opnamebladen 56 aan de verdere transportimichting 52a het buitenste sluisventiel voor het station 50. Het station 50 is bij de uitvoeringsvariant volgens Fig. 5 verticaal naar beneden werkend geplaatst.According to FIG. 5, as is clear to the person skilled in the art without further explanation, there is provided an outer, resp. further transport device 52a, which in turn has radially projecting arms 54 and receiving blades 56 around a plane E and parallel to the axis Ai of the station according to FIG. 1 horizontal axis A3 is rotatable. Here, too, the respective correspondingly positioned receiving blades 56 on the further conveying device 52a form the outer valve for the station 50. In the embodiment according to FIG. 5 placed vertically downwards.
Volgens Fig. 6 is de buitenste transportinrichting 52b voorzien van ten opzichte van de draaias A3 daarvan parallel uitschuifbare, resp. inschuifbare armen 54b, telkens 10 met overeenkomstige opnamebladen 56b. De as A3 ligt parallel aan de as Q van het station, dat bij de uitvoeringsvorm volgens Fig. 6 verticaal naar boven werkt.According to FIG. 6, the outer transport device 52b is provided with or extendable in parallel with respect to the axis of rotation A3 thereof. retractable arms 54b, 10 each with corresponding receiving blades 56b. The axis A3 is parallel to the axis Q of the station, which in the embodiment according to FIG. 6 works vertically upwards.
Ook hier nemen de werkstukdragerbladen 56b in respectievelijke posities de functie van het buitenste sluisventiel over.Here too, the workpiece carrier blades 56b take over the function of the outer lock valve in respective positions.
Volgens Fig. 7 omvat, zoals schematisch weergegeven, de buitenste 15 transportinrichting een inklapbare arm 58, met draaibaar daarin gelagerde opnamebladen 60. Ook hier kan het werkstuktransportblad 60 het buitenste sluisventiel van het station 50 vormen.According to FIG. 7, as schematically shown, the outer conveying device comprises a collapsible arm 58, with receiving blades 60 pivotally supported therein. Here too, the workpiece conveying blade 60 can form the outer valve of the station 50.
Zoals in Fig. 1 verder bij 55 is weergegeven, wordt bij het station bij de samenbouw van een inrichting volgens de uitvinding een besturings- en 20 bewakingseenheid als eigen module geplaatst.As in FIG. 1 is further shown at 55, a control and monitoring unit is placed as its own module at the station when assembling a device according to the invention.
10100461010046
Claims (11)
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE29716440 | 1997-09-12 | ||
DE29716440U DE29716440U1 (en) | 1997-09-12 | 1997-09-12 | Sputtering station |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
NL1010046A1 NL1010046A1 (en) | 1999-03-15 |
NL1010046C2 true NL1010046C2 (en) | 2004-08-17 |
Family
ID=27771784
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
NL1010046A NL1010046C2 (en) | 1997-09-12 | 1998-09-09 | Spraying station. |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
CH (1) | CH693508A5 (en) |
HK (1) | HK1020287A1 (en) |
NL (1) | NL1010046C2 (en) |
SE (1) | SE521639C2 (en) |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60160139A (en) * | 1984-01-30 | 1985-08-21 | Fujitsu Ltd | Shifting process |
US4857160A (en) * | 1988-07-25 | 1989-08-15 | Oerlikon-Buhrle U.S.A. Inc. | High vacuum processing system and method |
US5245736A (en) * | 1991-05-31 | 1993-09-21 | Balzers Aktiengesellschaft | Vacuum process apparatus |
DE4427984A1 (en) * | 1994-08-08 | 1996-02-15 | Leybold Ag | Mechanism for passing flat workpieces in and out of lock chamber |
EP0737758A1 (en) * | 1995-04-13 | 1996-10-16 | ODME International B.V. | Devices and method for processing a substrate |
US5662785A (en) * | 1992-10-06 | 1997-09-02 | Balzers Aktiengesellschaft | Method for masking a workpiece and a vacuum treatment facility |
-
1998
- 1998-09-04 CH CH01816/98A patent/CH693508A5/en not_active IP Right Cessation
- 1998-09-09 NL NL1010046A patent/NL1010046C2/en not_active IP Right Cessation
- 1998-09-10 SE SE9803067A patent/SE521639C2/en unknown
-
1999
- 1999-11-24 HK HK99105430A patent/HK1020287A1/en not_active IP Right Cessation
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60160139A (en) * | 1984-01-30 | 1985-08-21 | Fujitsu Ltd | Shifting process |
US4857160A (en) * | 1988-07-25 | 1989-08-15 | Oerlikon-Buhrle U.S.A. Inc. | High vacuum processing system and method |
US5245736A (en) * | 1991-05-31 | 1993-09-21 | Balzers Aktiengesellschaft | Vacuum process apparatus |
US5662785A (en) * | 1992-10-06 | 1997-09-02 | Balzers Aktiengesellschaft | Method for masking a workpiece and a vacuum treatment facility |
DE4427984A1 (en) * | 1994-08-08 | 1996-02-15 | Leybold Ag | Mechanism for passing flat workpieces in and out of lock chamber |
EP0737758A1 (en) * | 1995-04-13 | 1996-10-16 | ODME International B.V. | Devices and method for processing a substrate |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
PATENT ABSTRACTS OF JAPAN vol. 009, no. 328 (E - 369) 24 December 1985 (1985-12-24) * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
HK1020287A1 (en) | 2000-04-07 |
SE521639C2 (en) | 2003-11-18 |
SE9803067L (en) | 1999-03-13 |
CH693508A5 (en) | 2003-09-15 |
SE9803067D0 (en) | 1998-09-10 |
NL1010046A1 (en) | 1999-03-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6453543B1 (en) | Transport and transfer device | |
CA1303254C (en) | Platen assembly for a vacuum processing system | |
US20030052498A1 (en) | Edge grip with fixed forward posts | |
JPH0639697B2 (en) | Substrate loading device | |
JP2003110003A (en) | Method and device for transferring semiconductor substrate | |
US6517691B1 (en) | Substrate processing system | |
JPH0224907B2 (en) | ||
NL1010046C2 (en) | Spraying station. | |
JPH0763612B2 (en) | Vacuum chamber and method of transporting processed material in vacuum chamber | |
JP3397802B2 (en) | Cathode sputtering equipment | |
US6264804B1 (en) | System and method for handling and masking a substrate in a sputter deposition system | |
FR2696426A1 (en) | Method for masking a workpiece, and vacuum treatment plant | |
JPH02285074A (en) | Apparatus for carrying workpiece in and out vacuum chamber | |
JPH06215420A (en) | Method and device for clean transportation | |
US4984531A (en) | Device for accepting and holding a workpiece in vacuum coating apparatus | |
US6054029A (en) | Device for gripping, holdings and/or transporting substrates | |
JP3323601B2 (en) | Chamber for transporting a workpiece in a vacuum atmosphere, composite chamber, and method for transporting a workpiece inside vacuum equipment | |
US6416640B1 (en) | Sputter station | |
JPH03285068A (en) | Sputtering system | |
WO2004054755A2 (en) | Device for gripping a semiconductor plate through a transfer opening, using the closure of the opening | |
FR2696427A1 (en) | Chamber and combination of chambers for a vacuum installation, and method for transferring at least one part. | |
JP3017117B2 (en) | Vacuum processing equipment | |
KR930009991B1 (en) | Apparatus for the inward and outward transfer of a workpiece in a vacuum chamber | |
TW579303B (en) | Spin coating method and apparatus, and mask used in the same method and apparatus | |
JPH08273221A (en) | Sputtering device for optical disk |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
AD1A | A request for search or an international type search has been filed | ||
RD2N | Patents in respect of which a decision has been taken or a report has been made (novelty report) |
Effective date: 20040413 |
|
PD2B | A search report has been drawn up | ||
TD | Modifications of names of proprietors of patents |
Owner name: UNAXIS BALZERS AKTIENGESELLSCHAFT |
|
VD1 | Lapsed due to non-payment of the annual fee |
Effective date: 20090401 |