MODULO DE RADIACIÓN. SU APLICACIÓN Y MÉTODO PARA AUTOLIMPIEZA
CAMPO TÉCNICO En uno de sus aspectos, la presente invención se refiere a un método para limpiar materiales de incrustación de un módulo de radiación. En otro de sus aspectos, la presente invención se refiere a un módulo de radiación para usarse en un sistema de tratamiento de fluidos, más particularmente a un módulo de fuente de radiación de autolimpieza. En aún otro de sus aspectos, la presente invención se refiere a un sistema de tratamiento de fluidos, más particularmente a un sistema de tratamiento de autolimpieza. En otro de sus aspectos, la presente invención se refiere a un método para tratar un fluido en un sistema de tratamiento de fluidos que comprende un módulo de fuente de radiación, más particularmente a un método para tratar un fluido en una manera que hace obvia la formación de materiales de incrustación sobre ei módulo de fuente de radiación durante tratamiento del fluido. TÉCNICA ANTECEDENTE Se conocen los dispositivos y sistemas de tratamiento de fluidos. Por ejemplo, las patentes de Estados Unidos 4,482,809,
4,872,980, 5,006,244 y 5,418,370 (todas asignadas al cesionario de la presente invención), el contenido de cada uno de las cuales se incorpora aquí por referencia, todas describen sistemas de tratamiento de fluidos alimentados por gravedad que emplean radiación ultravioleta (UV) para mactivar microorganismos presentes en el fluido Los dispositivos y sistemas descritos en las patentes '809, 980 y '244, incluyen generalmente varias lamparas de UV, cada una de las cuales están montada dentro de manguitos que se extienden entre dos bazos de soporte de los marcos Los marcos están sumergidos en el fluido que se va a tratar el cual se irradia después según es requerido La cantidad de radiación a la cual se expone el fluido, se determina por la proximidad del fluido a las lamparas Uno o mas sensores de UV se pueden emplear para monitorear la salida de UV de las lamparas y el nivel de fluido se controla normalmente algún grado, corriente abajo del dispositivos de tratamiento por medio de compuertas de nivel o similares Sin embargo, existen desventajas con los sistemas descritos antes Dependiendo de la calidad del fluido que se esta tratando, los manguitos que rodean las lamparas de UV, periódicamente se atascan con materiales extraños, inhibiendo su capacidad para transmitir radiación de UV al fluido Cuando se atacan, en intervalos que se pueden determinar de datos de operación historíeos o mediante las mediciones de los sensores de UV, se deben limpiar manualmente los manguitos para remover materiales atascados Sin importar si los marcos de las lamparas de UV se emplean en un sistema abierto similar a canal o un sistema cerrado, la limpieza de los manguitos no es practica En sistemas abiertos, similares a canales, los módulos que comprenden los manguitos usualmente se remueven dei canal y se sumergen en un tanque separado que contiene un fluido de limpieza adecuado. En sistemas cerrados, ei dispositivo debe apagarse y ios manguitos después se limpian cargándose con un fluido de limpieza adecuado o mediante remoción de las lámparas y manguitos en la manera descrita para los sistemas abiertos similares a canales. En cualquier tipo de sistemas, el operador debe aceptar tiempo de retardo significativo del sistema y/o inversión de capital adicional significativo para tener en su lugar suficientes sistemas redundantes con sistemas de control apropiados para diversificar el flujo de fluido de sistemas que se están limpiando. El sistema descrito en la patente '370 es un avance significante en la técnica en cuanto a que hace obvio un número de desventajas que se derivan de ias patentes '809, '980 y '244. Más específicamente, en una de sus modalidades, el sistema descrito en la patente '370 incluye la provisión de un aparato de limpieza para un conjunto de fuente de radiación en el sistema de tratamiento de fluidos. El aparato de limpieza comprende un manguito de limpieza que acopla una porción del exterior dei conjunto de la fuente de radiación y móvil entre una posición retraída y una posición extendida. En la posición retraída, una primera porción del conjunto de la fuente de radiación está expuesto a un flujo de fluido que se va a tratar. En la posición extendida, la primera porción del conjunto de la fuente de radiación está expuesto a un flujo de fluido que se va a tratar En la posición extendida, la primera porción del conjunto de la fuente de radiación esta cubierta por el manguito de limpieza El manguito de limpieza incluye una cámara en contacto con la primera porción de dicho conjunto de fuente de radiación y se suministra con una solución de limpieza adecuada para remover materiales indeseados de la primera porción del conjunto de ia fuente de radiación Mientras que el aparato de limpieza descrito en la patente '370 representa un avance en la técnica, es relativamente complicado y costoso construir necesitando invertir mas capital para construir una planta de tratamiento de fluidos Además, en ciertas instalaciones, el aparato crea mas perdidas de cabezas hidráulicas en el flujo del fluido que se está tratando Consecuentemente, sería conveniente tener un aparato de limpieza que es relativamente simple y económico de construir, mientras mantiene las características de desempeño del dispositivo de limpieza descrito en la patente '370 DESCRIPCIÓN DE LA INVENCIÓN Es un objetivo de la presente invención, proveer un método novedoso para limpiar materiales de incrustación de un modulo de radiación Es otro objetivo de la presente invención, proveer un módulo de radiación novedoso Es aun otro objetivo de la presente invención, proveer un dispositivo de tratamiento de fluidos novedoso, el cual hace obvio o mitiga por lo menos una de las desventajas de ia técnica anterior Es aún otro objetivo de la presente invención proveer un método novedoso para tratar un fluido que hace obvio o mitiga por lo menos una de las desventajas de la técnica anterior. Consecuentemente, en uno de sus aspectos, la presente invención provee un método para limpiar materiales de incrustación de un módulo de radiación, el método comprende los pasos de: (i) sumergir por lo menos una porción del módulo de radiación en un fluido; y (ii) someter el móduio de radiación a vibración a una frecuencia suficiente para inhibir substancialmente los materiales de incrustación que se adhieren al módulo de radiación. En otro de sus aspectos, la presente invención provee un módulo de radiación para usarse en un sistema de tratamiento de fluidos que comprende: un miembro de soporte para montar el módulo en el sistema de tratamiento de fluidos; por lo menos un conjunto de radiación que se extiende desde el miembro de soporte; y medios de generación de vibración asociados con por lo menos un conjunto de radiación. En aún otro de sus aspectos, la presente invención provee un sistema de tratamiento de fluidos que comprende una entrada de fluidos, una salida de fluidos y una zona de tratamiento de fluidos dispuesta entre la entrada de fluidos y la salida de fluidos, y, por lo menos, un conjunto de radiación que comprende un miembro de soporte, por lo menos, un conjunto de radiación que se extiende desde el miembro de soporte en la zona de tratamiento de fluidos y medios de generación de vibración asociados con, por lo menos, un conjunto de radiación En aún otro de sus aspectos, ¡a presente invención provee un método para tratar un fluido en un sistema de tratamiento de fluidos que comprende una entrada de fluidos, una sahsa de fluidos y una zona de tratamiento de fluidos, dispuesta entre la entrada de fluidos y la salida de fluidos, y, por lo menos, un modulo de radiación que comprende un miembro de soporte, por io menos un conjunto de radiación que se extiende desde ei miembro de soporte en ¡a zona de tratamiento de fluidos y medios de generación de vibración asociados con, por lo menos, un conjunto de radiación, el método comprendiendo los pasos de (i) proveer un flujo de fluido a ia entrada de fluidos, (n) alimentar el flujo de fluido desde la entrada de fluido a la zona de tratamiento de fluidos, (MI) exponer el flujo de fluido a radiación en la zona de tratamiento de fluidos, (iv) operar los medios de generación de vibración a una frecuencia suficiente para limpiar por lo menos un conjunto de radiación, y (vj alimentar ei flujo de fluido a ia sahda de fiúidos Por lo tanto, en uno de sus aspectos, la presente invenc.on se refiere a un modulo de radiación para usarse en un sistema de tratamiento de fluidos. Como se usa a través de esta especificación, se intenta que el término "módulo de radiación" cubre módulos que emiten o captan radiación. Por lo tanto, en una modalidad preferida, el módulo de radiación presente es un módulo de fuente de radiación que emite radiación en un sistema de tratamiento de fluidos. En otra modalidad, el modulo de radiación presente es un módulo de fuente de radiación el cuai emite radiación en un sistema de tratamiento de fluidos. En otra modalidad, el presente módulo de radiación es un módulo sensor de radiación que detecta radiación que está siendo emitida desde otra fuente. BREVE DESCRIPCIÓN DE LOS DIBUJOS Las modalidades de la presente invención serán descritas con referencia a los dibujos anexos, en los cuales: La Figura 1 ilustra una elevación, tomada parcialmente de una primera modalidad de un módulo de fuente de radiación de acuerdo con la presente invención; La Figura 2, ilustra una vista superior de un módulo de fuente de radiación ilustrado en la Figura 1; La Figura 3, ilustra una vista extrema del módulo de fuente de radiación ilustrado en la Figura 1; y La Figura 4, ilustra una vista expandida del área indicada en A en la Figura 1. En las Figuras, se intenta que los números de referencia de una Figura a otra, designen partes iguales. MEJOR MODO PARA LLEVAR A CABO LA INVENCIÓN Preferiblemente, el presente módulo de radiación es un módulo de fuente de radiación que esencialmente es de autolimpieza. Como se usa a través de esta especificación, se intenta que los términos "autolimpieza" y "limpieza" tengan una definición amplia y abarquen cualquiera o ambos de la remoción de los materiales de incrustación del conjunto de ia fuente de radiación en el módulo y la inhibición de materiales de incrustación que se adhieren al conjunto de fuente de radiación en el módulo. En la mayoría de los casos, el último se presentará si los medios de generación de vibración se operan durante todo el período de tratamiento de fluidos (es decir, modo continuo). Sin embargo, se contempla claramente que el módulo de fuente de radiación se puede operar en una manera en donde se operen periódicamente los medios de generación de vibración durante el tratamiento de fluidos (es decir, modo semicontinuo). En este resumen, los materiales de incrustación se va a adherir al conjunto de la fuente de radiación mientras los medios de generación de vibración que no fueron operados sean removidos rápidamente cuando se activen los medios de generaciones de vibración. Los medios de generación de vibración están asociados con el conjunto de fuente de radiación en ei módulo y provee una vibración mecánica de un minuto del conjunto de la fuente de radiación. Idealmente, una superficie de los medios de generación de vibración colinda con un extremo de la superficie del conjunto de fuente de radiación el cual está expuesto a (y por lo tanto probablemente se incrusta en) fluido y la superficie opuesta de ios medios de generación de vibración colindan con una superficie rígida del módulo de fuente de radiación Esto servirá para aumentar al máximo la translación de la energía de vibración de ios medios de generación de vibración hacia un extremo libre del conjunto de la fuente de radiación La colindancia puede ser directa o indirecta
Preferiblemente, un medio rígido aislante, el cual no es un medio de generación de vibración por sí mismo, está dispuesto entre los medios de generación de vibración y la superficie rígida del modulo de fuente de radiación y el conjunto de la fuente de radiación respectivamente. Esto proveerá un aislamiento eléctrico entre el conjunto de la fuente de radiación y la superficie rígida dei módulo de la fuente de radiación Será evidente para aquellos expertos en ia técnica, que se presente vibración en una manera recíproca Preferiblemente, la vibración se efectúa axialmente con respecto al conjunto de la fuente de radiación Dicha vibración se puede efectuar utilizando un transductor piezoeléctpco de cerámica Los transductores piezoeléctpcos de cerámica, se han usado convencionalmente en aplicaciones sonares. Un transductor de cerámica piezoeléctrico adecuado útil en el módulo de fuente de radiación presente, está comercialmente disponible de EDO Corporation (Salt Lake City, Utah) y consiste esencialmente de un componente de cerámica que cumple ias especificaciones de U S Navy Tipo 1 (I) o U S Navy Tipo 3 (ill) Como será evidente para ios expertos en la técnica, una cerámica que cumple las especificaciones de U S Navy Tipo 1 es un titanato de zirconato de plomo duro con un punto de Curie mayor que aproximadamente 310°C y una cerámica que cumple con las especificaciones de U.S. Navy Tipo 3 es un titanato de zirconato de plomo muy duro con un punto de Curie mayor que aproximadamente 290°C. Las especificaciones detalladas de estas especificaciones de cerámica se pueden encontrar en el Department of Defense Military Standard DOD-STD 1376A(SD), con fecha del 28 de febrero de 1984, ¡os comentarios de los cuales se incorporan aquí por referencia. Preferiblemente, el conjunto de la fuente de radiación comprende, como la fuente de radiación, una lámpara ultravioleta. Más preferiblemente, el conjunto de fuente de radiación además comprende un manguito, más preferiblemente un manguito de cuarzo, alrededor de la lámpara ultravioleta la cual define un espacio de aislamiento entre la lámpara ultravioleta y el fluido que se está tratando. Un manguito preferido tiene un extremo cerrado distante al miembro de soporte y un extremo abierto acoplado de manera sellada al miembro de soporte. Cuando se usa esta disposición, se prefiere usar, como los medios de generación de vibración, un transductor piezoeléctrico anular dispuesto entre una superficie de colindancia en el miembro de soporte y el extremo abierto del manguito. Generalmente, los medios de generación de vibración, preferiblemente un transductor piezoeléctrico, más preferiblemente un transductor piezoeléctrico anular, es uno que se puede operar a una frecuencia en la escala de aproximadamente 1 kHz a aproximadamente 100 kHz, preferiblemente de aproximadamente 10 kHz a aproximadamente 20 kHz, más preferiblemente aproximadamente 10 kHz a aproximadamente 15 kHz. El módulo de fuente de radiación presente, es idealmente adecuado para usarse en un sistema de tratamiento de fluido que comprende una entrada de fluido, una salida de fluido y una zona de tratamiento de fluido dispuesta entre la entrada de fluido y la salida de fluido. El sistema de tratamiento de fluidos, puede ser un sistema abierto o un sistema cerrado. Como se usa a través de esta especificación, el término "sistema cerrado" en relación con el tratamiento (es decir, irradiación) de un fluido, se intenta que abarque un sistema caracterizado por una zona de tratamiento (es decir, la zona en la cual se irradia el fluido) en la cual el flujo de fluido se presuriza y está contenida completamente de manera substancial, en una caja durante el tratamiento. La fuente de presurización del flujo de fluido no está particularmente restringida. Por ejemplo, la presurización se puede generar mediante una bomba y/o mediante la acción de gravedad. Ejemplos de dicho sistema cerrado, se pueden encontrar en el número de patente de Esjtados Unidos 5,418,370 (NB, este sistema está diseñado como un sistema cerrado en virtud de la zona de tratamiento/irradiación), y la solicitud de patentes de los Estados Unidos número 08/323,808 del inventor de la presente, presentada ei 17 de octubre de 1994, ahora número de patente * e incorporada aquí por referenica.
Además, como se usa a través de esta especificación, el término "sistema abierto", en relación con el tratamiento (es decir, irradiación) de un fluido, se intenta que abarque un sistema caracterizado por una zona de tratamiento en ia cual ei flujo de fluido está contenido y se trata (es decir, se irradia) en un recipiente abierto (v.gr., un canal) que no se llena completamente por el fluido Ejemplos de dicho sistema abierto pueden encontrarse en las patentes de Estados Unidos 4,482,809, 4,872,980 y 5,006,244 incorporadas El módulo de fuente de radiación presente, se usa idealmente en un sistema cerrado para tratamiento de fluidos dado que dichos sistemas presentan el gran reto de limpieza el cuai reducirá al mínimo el retardo y la necesidad de sistemas redundantes En una modalidad preferida, el sistema de tratamiento de fluido cerrado tiene una zona de tratamiento de fluido que comprende un alojamiento y, por io menos, un módulo de fuente de radiación que comprende una fuente de radiación conectada a manera de sello al miembro de soporte, el miembro de soporte montado de manera sellada al alojamiento Preferiblemente (pero no necesariamente), la fuente de radiación está dispuesta substanciaimente paralela al flujo de fluido Más preferiblemente, la entrada de fluido, la salida de fluido y la zona de tratamiento de fluido tienen substancialmente ¡a misma sección transversal y están dispuestas en una manera substancialmente colineai. idealmente, el alojamiento es un cilindro elongado substancialmente, que tiene una sección transversal substancialmente circular En esta modalidad, el extremo del miembro de soporte distante a la fuente de radiación, puede comprender una placa de montaje conectada de manera sellada al alojamiento Preferiblemente, el sistema de tratamiento de fluido cerrado comprende una pluralidad de módulos de fuente de radiación montados circunferencialmente, más preferiblemente equidistantes uno del otro, al rededor del alojamiento para definir un anillo de fuente de radiación. Si es conveniente, el alojamiento puede comprender una pluralidad de dichos anillos de fuente de radiación El número de anillos de la fuente de radiación y el número de módulos en cada anillo, varía de instalación a instalación y se puede seleccionar por una persona experta en la técnica sobre la base de una consideración de uno o más de los siguientes factores el área en sección transversal dei alojamiento, ei voiumen del paso de fluido a través del alojamiento, la salida de radiación de cada módulo, ia cantidad total de radiación requerida en el sistema y similares Esta modalidad del sistema de tratamiento de fluido cerrado, puede ser usado 'en línea" en tuberías de fluido convencional (v gr , agua) Dependiendo de la aplicación particular, la tubería puede ser de aproximadamente 10 16 cm de diámetro para aplicaciones domésticas o 0 304 metros a 0 912 metros de diámetro o mas para aplicaciones municipales En otra modalidad preferida, el sistema de tratamiento de fluido cerrado alimentado por gravedad tiene una zona de tratamiento de fluido que comprende una sección cerrada para confinar fluido que se va a tratar entro de una distancia máxima predefinida desde el conjunto de fuente de radiación. Como se usa en la presente, el término "alimentado por gravedad" barca sistemas en donde la cabeza hidráulica del fluido se obtiene de cambios en ia altitud dei fluido. Se entenderá que dichos sistemas comprenden ambos sistemas que son alimentados por gravedad de manera natural y sistemas en donde la latitud del fluido se altera vía bombas u otros medios mecánicos para proveer una alimentación por gravedad. Preferiblemente, el conjunto de fuente de radiación es elongado y tiene un eje longitudinal substancialmente paralelo a la dirección del flujo de fluido a través del fluido a través de la zona de tratamiento de fluido. El área en sección transversal de ia zona de tratamiento de fluido, preferiblemente es menor que la entrada de fluido y la salida de fluido. En la mayoría de os casos, dará como resultado que un flujo de fluido tiene una primera velocidad en la entrada de fluido, una segunda velocidad en ¡a zona de tratamiento y una tercera velocidad en la salida de fluido. Idealmente, la segunda velocidad (es decir, en la zona de tratamiento de fluido) es mayor que por lo menos una, y preferiblemente ambas, de la primera velocidad y la tercera velocidad. Preferiblemente, ia tercera velocidad es substancialmente igual a la primera velocidad. Más preferiblemente, el área en sección transversal de la zona de tratamiento de fluido, es menor que el área en sección transversal de la entrada de fluido y la zona de tratamiento de fluido se dispone en una zona de tratamiento incluyendo una primera región de transición que conecta la entrada de fluido a la zona de tratamiento de fluido, la región de transición reduciendo la pérdida de presión en ei fluido entre ia entrada y la zona de tratamiento de fluido y sirviendo para incrementar la velocidad del fluido Más preferiblemente, el área en sección transversal de la zona de tratamiento de fluido es menor que el área en sección transversal de ia saiida de fluido y ia zona de tratamiento de fluido se dispone en una zona de tratamiento incluyendo una segunda región de transición que conecta la salida de fluido a la zona de tratamiento de fluido, la región de transición reduciendo la pérdida de presión en ei fluido entre ia salida y ia zona de tratamiento de fluido y sirviendo para disminuir la velocidad del fluido Más preferiblemente, la zona de tratamiento de fluido incluye primera y segunda regiones de transición Haciendo referencia a ias Figuras, se ilustra un módulo de fuente de radiación 10 que comprende un miembro de soporte 15, un conjunto de fuente de radiación 20, extendiéndose desde el miembro de soporte 15 y una placa de montaje 25 para fijar el modulo de la fuente de radiación 10 en ei sistema de tratamiento de fiúido El conjunto de la fuente de radiación 20, incluye un reductor concéntrico 30 el cual se puede soldar al, o integrarse al miembro de soporte 15 Se fija al reductor concéntrico 30, un anillo 35 al cual se fija un manguito de montaje 40 El extremo del manguito de montaje 40 distante al reductor concéntrico 30, tiene una porción roscada 45 Dentro del manguito de montaje 40, hay un manguito interno 50 que tiene una porción roscada 55 al cual se acopla una tuerca de tapa 60. El manguito interno 50 comprende pernos adecuados para recibir un par de anillos tóricos 65, 70. El extremo del manguito interno 50, distante al reductor concéntrico 30 colinda con un anillo de sello ahusado, 75, elástico. Una tuerca de montaje roscada 80, se acopla con la porción roscada 55 del manguito de montaje 40 y colinda con el anillo de sello ahusado 75. La tuerca de montaje roscada 80, se provee con receptáculos de par de torsión 85, el cual recibe una herramienta adecuada útil para aplicar un par de torsión de ¡a tuerca de montaje 80 en acoplamiento sellado con el manguito de montaje 40. Dentro del manguito interno 50, está dispuesto un transductor piezoeiéctrico anular de cerámica 90, el cual es una estructura de material laminado formada de una pluralidad de transductores piezoeléctricos anulares, individuales, de cerámica (no mostrado) adheridos juntos. Un extremo del transductor 90 colinda con el manguito interno 50 y el otro extremo del transductor 90 colinda con el extremo abierto de un manguito de cuarzo 95. Como se ilustra, está cerrado el extremo opuesto del manguito de cuarzo 95. Se apreciará por los expertos en la técnica, que se puede usar un manguito de cuarzo con doble extremo abierto. Dentro del manguito de cuarzo 95, está dispuesta una fuente de radiación 100. Idealmente, la fuente de radiación es una lámpara ultravioleta. La lámpara ultravioleta no está particularmente restringida y la elección de la misma está al alcance de una persona experta en ia técnica. Un par de separadores 105, 110, están dispuestos dentro del manguito de cuarzo 95, y sirven para centrar y mantener en su lugar la fuente de radiación 100 dentro dei manguito de cuarzo 95. Un par de conductores eléctricos 115, 120, emanan de la fuente de radiación 100 y se alimentan a un primer conector 135. Otro par de conductores eléctricos 125,130, emanan del transductor 90 y también se alimentan a un primer conector 135. El primer conector 135 se conecta a un segundo conector 140. Emanando dei segundo conector 140, hay un conducto eléctrico 145 que se alimenta a través del reductor concéntrico 30, el miembro de soporte 15 y la placa de montaje 25. Ei conducto eléctrico 145, se conecta a un suministro de potencia adecuado y el sistema de control (no mostrado) que son convencionales en ia técnica. Rodeando parcialmente cada primer conector 135 y segundo conector 150, hay un anillo de aislamiento 150. El anillo de aislamiento 150 está hecho de un material eléctricamente no conductor y sirve para reducir al mínimo o eliminar la presentación de formación de arcos a través de la conexión eléctrica hecha por ei acoplamiento dei primer conector 135 y el segundo conector 140. Preferiblemente, el anillo de aislamiento 150 es no elástico y está hecho de hule o plástico duro (v.gr., Delrin™). En la modalidad ilustrada, la placa de montaje 25 es curva y comprende una pluralidad de aberturas 155. Esta modalidad de módulo de fuente de radiación 19, se puede usar ventajosamente en un sistema cerrado presurizado, tal como el descrito en la solicitud de patente de Estados Unidos copendiente incorporada S.N.
08/323,808, presentada ei 17 de octubre de 1994, a nombre dei presente inventor, ahora número de patente *. En esta modalidad, el conjunto de fuente de radiación 20 se inserta en un alojamiento a través de una abertura de tamaño más pequeño pero de forma similar a la placa de montaje 25. Los pernos emergen dei alojamiento en un patrón similar al patrón de aberturas en la placa de montaje 25. Ei módulo de la fuente de radiación se fija después en su lugar mediante tuercas de par de torsión en cada perno en una manera que provee un sello hermético por medio de una anulo tórico (u otro anillo de sellado, no mostrado) entre la placa de montaje 25 y el alojamiento. El módulo de la fuente de radiación se puede construir de la siguiente manera, iniciaimente, el anillo aislante 150 se coloca en el extremo del manguito interno 50 y se mantiene en su lugar mediante acoplamiento de la tuerca de tapa 60 a la porción roscada 55 dei manguito interno 50. El primer conector 135 está insertado parcialmente al anillo de aislamiento 150 y ei transductor 90 se coloca en colindancia con el manguito interno 50. Ei anillo tórico 70 coloca en la muesca en el manguito interno 50 y ei manguito de cuarzo 95 (que contiene la fuente de raeíación 100) se inserta en el manguito interno 50 de manera que conlinda con ei transductor 90 El anillo tórico 65 y el anillo de sello ahusado 75 se colocan en su lugar con respecto al manguito interno 50 que se inserta después en el manguito de montaje 40. Antes de completar la inserción en el manguito de montaje 40, ei primer conector 135 y ei segundo conector 140 están acoplados. La tuerca de montaje 80 está roscada en acopiamiento con ia porción roscada 45 dei manguito de montaje 40. Usando una herramienta apropiada (no mostrada) la turca de montaje 80 está accionada por par de torsión con una fuerza para lograr dos objetivos. Primero, la fuerza debe ser suficiente para comprimir los anillos tóricos 65, 70 y el anillo de sello ahusado 75 para proveer un sello hermético entre el conjunto de fuente de radiación exterior de fluido 20 y los conductores eléctricos 115, 120, 125, 130 del conjunto de fuente de radiación interior 20. Segundo, la fuerza debe ser suficiente para asegurar una conexión de colindancia entre el manguito de cuarzo 95 y el transductor 90, y el transductor 90 y el manguito interno 50, respectivamente. En uso, el módulo de fuente de radiación 10 se coloca en un fluido (tai como agua) para tratarse de manera que la fuente de radiación 100 sea sumergida completamente de manera substancial. El conducto eléctrico 145 se conecta a un suministro de potencia adecuado que sirve para impulsar la fuente de radiación 100 y el transductor 90. Durante la operación, ei flujo de fluido se irradia por la fuente de radiación 100. Concurrentemente, el transductor 90 vibra ei manguito de cuarzo 95 en una forma recíproca como se describe por la flecha B en la Figura 4. Este movimiento reciproco sirve para remover los materiaies de incrustación (v.gr., minerales, bacterias, etc.) que se pueden adherir al manguito de cuarzo. Además, el movimiento recíproco sirve para evitar la adherencia de los materiales de incrustación que nacen del fluido al manguito de cuarzo. Como será evidente para ios expertos en la técnica, la acción recíproca sirve para someter a un material de incrustación en ei manguito de cuarzo 95 a una fuerza de esfuerzo cortante significante que remueve el material de incrustación adherido o inhibe la formación del material de incrustación en el manguito de cuarzo 95. Desde luego, será apreciado por ios expertos en ia técnica, que pueden variar las modalidades ilustradas dei modulo de fuente de radiación para ser adecuadas al sistema de tratamiento de fluido particular sin alejarse del espíritu de la invención. Por ejemplo, la piaca de montaje 25 puede omitirse y ei miembro de soporte 15 puede extenderse para formar una extremidad que tiene una longitud igual a o mayor que la longitud del conjunto de la fuente de radiación 20. Este tipo de módulo de fuente de radiación podría ser útil en un sistema de tratamiento de fluido tal como ei descrito en ias patentes
809, '980, '244 y '370 incorporadas anteriormente. Además, ei número, tipo y arreglo de los anillos de sello (es decir, anillos tóricos, anillos ahusados, etc.) pueden varrar mientras mantienen un sello hermético Además, mientras el módulo de fuente de radiación presente se usa ventajosamente para irradiar concurrentemente fluido y mantener el conjunto de fuente de radiación libre de materiales de incrustación in situ, es posible remover el módulo de fuente de radiación dei dispositivo de tratamiento de fiúido, colocarlo en un fluido (v.gr., un fluido de limpieza en un recipiente externo), y activar ios medios de generación de vibración únicamente (es decir, ninguna irradiación de fluido), esta variación se refiere a un protocolo para limpiar ei conjunto de fuente de radiación del módulo sin tratar concurrentemente o purificar el fiúido. Mientras la descripción anterior enseña un módulo de fuente de radiación, como se trató antes, una modalidad de la invención se refiere a un módulo sensor de radiación. Dicho módulo puede construirse substituyente la fuente de radiación 100 y conductores eléctricos 115, 120, 125, 130, con un fotodiodo (o similares) capaz de captar la intensidad de una radiación que está siendo emitida a una longitud de onda particular de interés. La elección dei fotodiodo (o similares) no está restringida particularmente y puede ser un material usado convencionalmente en sensores de radiación actuales. Además, la conexión eléctrica y el control del fotodiodo es convencional y podría ser evidente para una persona experta en la técnica. Por lo tanto, debe ser fácilmente evidente que, mientras se han descrito en la presente modalidades ilustrativas de la presente invención, la presente invención no está limitada a estas modalidades ilustrativas y que pueden presentarse variaciones y otras alternativas para ios expertos en la técnica sin alejarse del espíritu y alcance pretendidos de la invención como se define por las reivindicaciones anexas.