MD714Z - Procedeu de depunere a acoperirii galvanice de crom - Google Patents
Procedeu de depunere a acoperirii galvanice de crom Download PDFInfo
- Publication number
- MD714Z MD714Z MDS20130063A MDS20130063A MD714Z MD 714 Z MD714 Z MD 714Z MD S20130063 A MDS20130063 A MD S20130063A MD S20130063 A MDS20130063 A MD S20130063A MD 714 Z MD714 Z MD 714Z
- Authority
- MD
- Moldova
- Prior art keywords
- electrolyte
- inductive
- capacitive
- chromium
- coatings
- Prior art date
Links
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 24
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 24
- 239000011651 chromium Substances 0.000 title claims abstract description 24
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 9
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 title abstract description 4
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 claims abstract description 33
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 28
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims abstract description 15
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 14
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims abstract description 14
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 claims abstract description 8
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 7
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 7
- 235000011149 sulphuric acid Nutrition 0.000 claims abstract description 7
- 230000008021 deposition Effects 0.000 abstract description 5
- 230000001965 increasing effect Effects 0.000 description 4
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 2
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001060 Gray iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- GSKQIBITEDNGRM-UHFFFAOYSA-N [Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[O-][Cr]([O-])(=O)=O.[O-][Cr]([O-])(=O)=O.[O-][Cr]([O-])(=O)=O.[O-][Cr]([O-])(=O)=O Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[O-][Cr]([O-])(=O)=O.[O-][Cr]([O-])(=O)=O.[O-][Cr]([O-])(=O)=O.[O-][Cr]([O-])(=O)=O GSKQIBITEDNGRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 238000009423 ventilation Methods 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Abstract
Invenţia se referă la galvanotehnică, şi anume la un procedeu de depunere a acoperirii galvanice de crom.Procedeul, conform invenţiei, include depunerea acoperirii de crom din electrolitul tetracromat, care conţine, g/l: CrO3 - 350…400, H2SO4 - 2,5…2,7, NaOH - 40…60, zahăr - 1, cu utilizarea unei surse de curent trifazat şi a unui dispozitiv inductiv-capacitiv, conectat în serie între polii negativi ai sursei de curent trifazat şi băii galvanice. Totodată dispozitivul este format din două blocuri - capacitiv şi inductiv, conectate paralel între ele, blocul inductiv având inductanţa în limitele 0,1 µH…10,0 H, iar blocul capacitiv având capacitatea sumară în limitele 0,01…0,10 F.
Description
Invenţia se referă la galvanotehnică, şi anume la un procedeu de depunere a acoperirii galvanice de crom.
Este cunoscut faptul că acoperirile de crom, obţinute din electrolit universal care conţine CrO3 şi H2SO4, corespund cerinţelor producţiei moderne. Însă agresivitatea înaltă a electrolitului la temperatura de 50…65°C şi a produselor gazoase degajate în sectorul galvanic duce la dezechilibrarea siguranţei ecologice, comportă cheltuieli sporite la ventilare şi la neutralizarea deşeurilor, iar în acoperirile de crom apar tensiuni interioare de întindere, contribuind la formarea unei reţele de microfisuri, care duc la coroziunea bazei.
Este cunoscut procedeul de depunere a acoperirilor de crom din electrolitul tetracromat. Rolul principal în acest caz îl execută componenţa electrolitului, în g/l: CrO3 - 350…400, H2SO4 - 2,5…2,7, NaOH - 40…60, zahăr - 1, care se deosebeşte de cel universal prin aceea că acidul cromic se neutralizează cu baza şi se găseşte în soluţie în formă de tetracromat de sodiu. Ca rezultat al neutralizării acidului cromic agresivitatea soluţiei se micşorează brusc şi cromul se depozitează la temperatura electrolitului de 289…295 K, densitatea curentului pe suprafaţa catodului fiind de 1,0…8,0 kA/m2. În depuneri practic lipsesc fisurarea şi porozitatea, nu este necesară depozitarea cuprului şi a nichelului pentru protecţia substratului. Randamentul cromului, în funcţie de curent în electrolit, atinge peste 30%, ceea ce depăşeşte considerabil indicele respectiv pentru electrolitul universal (13%). Totodată, electrolitul este simplu în utilizare şi asigură obţinerea acoperirilor cu o rezistenţă necesară de aderenţă cu baza [1].
Dezavantajul acestor acoperiri îl constituie rezistenţa la uzură şi duritatea (3,0…5,0 GPa) scăzute, ce nu permit aplicarea acestora în cuplurile de frecare, de aceea se utilizează ca acoperiri decorative şi pentru protecţie împotriva coroziunii.
În calitate de cea mai apropiată soluţie serveşte instalaţia de depunere electrochimică a cromului care constă dintr-un dispozitiv inductiv-capacitiv, o baie electrolitică şi un redresor de curent trifazat. Totodată, dispozitivul este format din două blocuri - capacitiv şi inductiv, conectate paralel între ele. Depunerea cromului se efectuează din electrolitul universal, la densitatea curentului catodic de 30…110 A/dm2 [2].
Dezavantajele acoperirilor de crom obţinute constau în agresivitatea înaltă a electrolitului la temperaturi ridicate şi rezistenţa la uzură scăzută.
Problema pe care o rezolvă invenţia propusă constă în obţinerea acoperirilor galvanice de crom rezistente la uzură din electrolitul tetracromat.
Problema se rezolvă prin aceea că procedeul de depunere a acoperirii galvanice de crom include depunerea acoperirii de crom din electrolitul tetracromat, care conţine, g/l: CrO3 - 350…400, H2SO4 - 2,5…2,7, NaOH - 40…60, zahăr - 1, la temperatura electrolitului de 291…297 K, densitatea curentului catodic de 2,0…8,0 kA/m2, cu utilizarea unei surse de curent trifazat şi a unui dispozitiv inductiv-capacitiv, conectat în serie între polii negativi ai sursei de curent trifazat şi băii galvanice, totodată dispozitivul este format din două blocuri - capacitiv şi inductiv, conectate paralel între ele, blocul inductiv având inductanţa în limitele 0,1 µH…10,0 H, iar blocul capacitiv având capacitatea sumară în limitele 0,01…0,10 F.
Rezultatul tehnic al invenţiei constă în determinarea condiţiilor optime de electroliză pentru obţinerea acoperirilor de crom rezistente la uzură, ce se caracterizează prin următoarele:
1) selectarea compoziţiei electrolitului;
2) alimentarea băii galvanice de la o sursă de curent trifazat, cu conectarea dispozitivului inductiv-capacitiv (DIC);
3) determinarea parametrilor procesului.
Invenţia se explică cu ajutorul desenelor din fig. 1-2, care reprezintă:
- fig. 1, schema instalaţiei pentru depunerea acoperirilor de crom cu utilizarea dispozitivului inductiv-capacitiv,
- fig. 2, variaţia uzurii acoperirilor de crom obţinute din: 1 - electrolitul tetracromat cu utilizarea DIC; 2 - electrolitul universal; 3 - electrolitul tetracromat fără DIC.
Instalaţia experimentală pentru depunerea acoperirilor de crom (fig. 1) constă dintr-un dispozitiv inductiv-capacitiv (1), un regulator de curent (2), o baie galvanică (3) şi un redresor de curent trifazat (4) cu puterea de 60 W. Pentru formarea spectrului componentelor variabile, au fost determinate mărimile optimale ale inductanţei (Lop) şi ale capacităţii (Cop) la care s-a observat deplasarea maximală a potenţialului catodic spre zona pozitivă, totodată amplificarea componentelor variabile ale spectrului şi banda de frecvenţe a ”zgomotelor” s-a extins la frecvenţe mai mari. Totodată, inductanţa s-a format cu un bloc inductiv, compus din bobine separate, fiecare fiind amplasate pe un miez separat şi unite consecutiv, paralel sau paralel-consecutiv la ajustare, iar capacitatea s-a format cu un bloc capacitiv, alcătuit din condensatoare polare, unite în paralel.
Încercările s-au efectuat în Laboratorul „Prelucrarea Electrochimică a Materialelor” a Institutului de Fizică Aplicată al AŞM. La depunerea cromului s-au stabilit următorii parametri optimali ai DIC: L = 5 H; C = 0,0176 F.
Depunerea acoperirilor de crom s-a efectuat în decurs de şapte ore pe trei loturi de probe: 1 lot - în electrolitul tetracromat (CrO3 - 400 g/l; H2SO4 - 2,7 g/l; NaOH - 60 g/l; zahăr - 1 g/l), la densitatea curentului pe suprafaţa catodului Dk = 2,0 kA/m2 şi temperatura electrolitului t = 291 K, cu utilizarea dispozitivului inductiv-capacitiv; lotul 2 - în electrolitul universal (CrO3 - 250 g/l; H2SO4 - 2,5 g/l), la densitatea curentului catodic Dk = 5,5 kA/m2 şi temperatura electrolitului t = 328 K; lotul 3 - în electrolitul tetracromat fără DIC.
Probele pentru depunerea cromului supuse cercetărilor la uzare au fost confecţionate din oţel St. 3 (10x50x4 mm), iar contracorpul din fontă cenuşie SC15-32 cu suprafaţa de 15 mm2 (1,5x10 mm). În calitate de anod s-au utilizat lamele din plumb (GOST 3778-77E). Suprafaţa de încercare la uzură a probelor a fost supusă rectificării, unde s-a asigurat grosimea stratului depus de 0,15 mm şi rugozitatea Rz = 0,32. Acoperirile primului lot aveau microduritatea Hµ = 8,4 GPa, lotului doi Hµ = 9,15 GPa şi lotului trei Hµ = 6,13 GPa, adică microduritatea acoperirilor depozitate din electrolitul tetracromatic cu utilizarea DIC a crescut considerabil. Încercările la uzură a acoperirilor s-au efectuat la maşina de frecare cu mişcare du-te-vino la viteza de alunecare V = 11,4 m/min (180 curse duble/min) şi sarcina de 2 kg fără ulei.
În urma încercărilor efectuate s-a stabilit că în procesul rodajului mai puţin s-au uzat probele cu acoperiri depuse din electrolitul tetracromat cu DIC, apoi din electrolitul universal şi mai apoi din electrolitul tetracromat fără DIC (fig. 2).
S-a constatat că, în zona de uzare stabilizată, acoperirile obţinute din electrolitul tetracromat cu DIC şi electrolitul de cromare universal se uzau cu aceeaşi viteză, iar la acoperirile obţinute din electrolitul tetracromat fără DIC viteza de uzare era de 2 ori mai mare.
În aşa mod, rezultatele cercetărlor au demonstrat că utilizarea dispozitivului inductiv-capacitiv a contribuit la creşterea microdurităţii acoperirilor depuse din electrolitul tetracromat şi la creşterea rezistenţei la uzură, ce favorizează utilizarea acestor acoperiri în cuplurile de frecare.
1. Шлугер М. Гальванические покрытия в машиностроении. Москва, 1985, Том № 1, с. 136-137
2. SU 1621559 A1 1989.03.10
Claims (1)
- Procedeu de depunere a acoperirii galvanice de crom, care include depunerea acoperirii de crom din electrolitul tetracromat, care conţine, g/l: CrO3 - 350…400, H2SO4 - 2,5…2,7, NaOH - 40…60, zahăr - 1, la temperatura electrolitului de 291…297 K, densitatea curentului catodic de 2,0…8,0 kA/m2, cu utilizarea unei surse de curent trifazat şi a unui dispozitiv inductiv-capacitiv, conectat în serie între polii negativi ai sursei de curent trifazat şi băii galvanice, totodată dispozitivul este format din două blocuri - capacitiv şi inductiv, conectate paralel între ele, blocul inductiv având inductanţa în limitele 0,1 µH…10,0 H, iar blocul capacitiv având capacitatea sumară în limitele 0,01…0,10 F.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| MDS20130063A MD714Z (ro) | 2013-04-01 | 2013-04-01 | Procedeu de depunere a acoperirii galvanice de crom |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| MDS20130063A MD714Z (ro) | 2013-04-01 | 2013-04-01 | Procedeu de depunere a acoperirii galvanice de crom |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| MD714Y MD714Y (ro) | 2013-12-31 |
| MD714Z true MD714Z (ro) | 2014-07-31 |
Family
ID=49912597
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| MDS20130063A MD714Z (ro) | 2013-04-01 | 2013-04-01 | Procedeu de depunere a acoperirii galvanice de crom |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| MD (1) | MD714Z (ro) |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| SU376487A1 (ru) * | 1971-03-09 | 1973-04-05 | ВО?СиЮЗНАЛ ,j -iKT^-.f ;.>& .(-^ '• • М- ' ' •' "" '-' ilAltJaiiiiW'^*-^^"-^' | |
| SU398700A1 (ru) * | 1971-06-28 | 1973-09-27 | Способ электролитического хромирования | |
| SU1617062A1 (ru) * | 1987-10-01 | 1990-12-30 | Московский вечерний металлургический институт | Способ электрохимического нанесени хромовых покрытий |
| SU1730207A1 (ru) * | 1989-12-27 | 1992-04-30 | Московский вечерний металлургический институт | Способ электролитического хромировани |
| MD3573B2 (ro) * | 2005-12-02 | 2008-04-30 | Institutul De Fizica Aplicata Al Academiei De Stiinte A Moldovei | Dispozitiv pentru procese electrochimice |
-
2013
- 2013-04-01 MD MDS20130063A patent/MD714Z/ro not_active IP Right Cessation
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| SU376487A1 (ru) * | 1971-03-09 | 1973-04-05 | ВО?СиЮЗНАЛ ,j -iKT^-.f ;.>& .(-^ '• • М- ' ' •' "" '-' ilAltJaiiiiW'^*-^^"-^' | |
| SU398700A1 (ru) * | 1971-06-28 | 1973-09-27 | Способ электролитического хромирования | |
| SU1617062A1 (ru) * | 1987-10-01 | 1990-12-30 | Московский вечерний металлургический институт | Способ электрохимического нанесени хромовых покрытий |
| SU1730207A1 (ru) * | 1989-12-27 | 1992-04-30 | Московский вечерний металлургический институт | Способ электролитического хромировани |
| MD3573B2 (ro) * | 2005-12-02 | 2008-04-30 | Institutul De Fizica Aplicata Al Academiei De Stiinte A Moldovei | Dispozitiv pentru procese electrochimice |
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| Шлугер М. Гальванические покрытия в машиностроении. Москва, 1985, Том № 1, с. 136-137 * |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| MD714Y (ro) | 2013-12-31 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Li et al. | Plasma Electrolytic Oxidation Coatings on Lightweight | |
| Martini et al. | PEO layers obtained from mixed aluminate–phosphate baths on Ti–6Al–4V: Dry sliding behaviour and influence of a PTFE topcoat | |
| Němcová et al. | Influence of plasma electrolytic oxidation on fatigue performance of AZ61 magnesium alloy | |
| US8337687B2 (en) | Structured chrome solid particle layer and method for the production thereof | |
| ZHANG et al. | Electrodeposition and corrosion resistance of Ni–P–TiN composite coating on AZ91D magnesium alloy | |
| Wang et al. | Effect of cerium additive on aluminum-based chemical conversion coating on AZ91D magnesium alloy | |
| Devaneyan et al. | Electro co-deposition and characterization of SiC in nickel metal matrix composite coatings on aluminium 7075 | |
| MX2019005540A (es) | Metodo para electrochapado de una tira de acero no recubierta con una capa de chapado. | |
| CN101122038A (zh) | 一种电刷镀纳米Ni-Fe合金镀层及其镀液、制备方法和用途 | |
| CN102154583A (zh) | 一种制备高硅硅钢的方法 | |
| RU152032U1 (ru) | Устройство для микродугового оксидирования рабочей поверхности поршня гидроцилиндра | |
| MD714Z (ro) | Procedeu de depunere a acoperirii galvanice de crom | |
| CN102352510A (zh) | 镁合金上低温制备高性能硅掺杂类金刚石膜层的方法 | |
| Wang et al. | Microstructure, friction, and wear properties of Ni‐Al2O3‐MoS2 composite coatings | |
| US11279112B2 (en) | Coating laminated body and method for producing the same | |
| Lin et al. | Effect of H2O addition on the corrosion resistance of trivalent chromium-carbon coatings electrodeposited from choline chloride deep eutectic solvent | |
| CN205115644U (zh) | 一种高耐腐蚀性的三价铬镀铬层结构 | |
| RU2489527C2 (ru) | Состав электролита антифрикционного электролитического сплава "цинк-железо" для осаждения в условиях гидромеханического активирования | |
| Ghosh | Electrodeposition of Cu, Sn and Cu-Sn alloy from choline chloride ionic liquid | |
| CN107858719B (zh) | 一种NdFeB磁体表面复合金属保护层及其制备方法 | |
| CN109266937A (zh) | 一种钻头建筑机械材料 | |
| MD4720B1 (ro) | Procedeu de depunere a acoperirilor din electrolit pe bază de crom trivalent | |
| Liu et al. | Effect of nickel pre-plating on the plating of Zn-Ni alloy coating on stainless steel substrate | |
| MD685Z (ro) | Procedeu de obţinere a acoperirii multistrat prin metoda alierii cu scântei electrice | |
| Hou et al. | Corrosion resistance of pulse-electroplated Ni-W alloys |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FG9Y | Short term patent issued | ||
| KA4Y | Short-term patent lapsed due to non-payment of fees (with right of restoration) |