MD714Z - Procedeu de depunere a acoperirii galvanice de crom - Google Patents

Procedeu de depunere a acoperirii galvanice de crom Download PDF

Info

Publication number
MD714Z
MD714Z MDS20130063A MDS20130063A MD714Z MD 714 Z MD714 Z MD 714Z MD S20130063 A MDS20130063 A MD S20130063A MD S20130063 A MDS20130063 A MD S20130063A MD 714 Z MD714 Z MD 714Z
Authority
MD
Moldova
Prior art keywords
electrolyte
inductive
capacitive
chromium
coatings
Prior art date
Application number
MDS20130063A
Other languages
English (en)
Russian (ru)
Inventor
Виорел ГОЛОГАН
Жанна БОБАНОВА
Серджиу ИВАШКУ
Думитру КРОИТОРУ
Original Assignee
Институт Прикладной Физики Академии Наук Молдовы
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Институт Прикладной Физики Академии Наук Молдовы filed Critical Институт Прикладной Физики Академии Наук Молдовы
Priority to MDS20130063A priority Critical patent/MD714Z/ro
Publication of MD714Y publication Critical patent/MD714Y/ro
Publication of MD714Z publication Critical patent/MD714Z/ro

Links

Landscapes

  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)

Abstract

Invenţia se referă la galvanotehnică, şi anume la un procedeu de depunere a acoperirii galvanice de crom.Procedeul, conform invenţiei, include depunerea acoperirii de crom din electrolitul tetracromat, care conţine, g/l: CrO3 - 350…400, H2SO4 - 2,5…2,7, NaOH - 40…60, zahăr - 1, cu utilizarea unei surse de curent trifazat şi a unui dispozitiv inductiv-capacitiv, conectat în serie între polii negativi ai sursei de curent trifazat şi băii galvanice. Totodată dispozitivul este format din două blocuri - capacitiv şi inductiv, conectate paralel între ele, blocul inductiv având inductanţa în limitele 0,1 µH…10,0 H, iar blocul capacitiv având capacitatea sumară în limitele 0,01…0,10 F.

Description

Invenţia se referă la galvanotehnică, şi anume la un procedeu de depunere a acoperirii galvanice de crom.
Este cunoscut faptul că acoperirile de crom, obţinute din electrolit universal care conţine CrO3 şi H2SO4, corespund cerinţelor producţiei moderne. Însă agresivitatea înaltă a electrolitului la temperatura de 50…65°C şi a produselor gazoase degajate în sectorul galvanic duce la dezechilibrarea siguranţei ecologice, comportă cheltuieli sporite la ventilare şi la neutralizarea deşeurilor, iar în acoperirile de crom apar tensiuni interioare de întindere, contribuind la formarea unei reţele de microfisuri, care duc la coroziunea bazei.
Este cunoscut procedeul de depunere a acoperirilor de crom din electrolitul tetracromat. Rolul principal în acest caz îl execută componenţa electrolitului, în g/l: CrO3 - 350…400, H2SO4 - 2,5…2,7, NaOH - 40…60, zahăr - 1, care se deosebeşte de cel universal prin aceea că acidul cromic se neutralizează cu baza şi se găseşte în soluţie în formă de tetracromat de sodiu. Ca rezultat al neutralizării acidului cromic agresivitatea soluţiei se micşorează brusc şi cromul se depozitează la temperatura electrolitului de 289…295 K, densitatea curentului pe suprafaţa catodului fiind de 1,0…8,0 kA/m2. În depuneri practic lipsesc fisurarea şi porozitatea, nu este necesară depozitarea cuprului şi a nichelului pentru protecţia substratului. Randamentul cromului, în funcţie de curent în electrolit, atinge peste 30%, ceea ce depăşeşte considerabil indicele respectiv pentru electrolitul universal (13%). Totodată, electrolitul este simplu în utilizare şi asigură obţinerea acoperirilor cu o rezistenţă necesară de aderenţă cu baza [1].
Dezavantajul acestor acoperiri îl constituie rezistenţa la uzură şi duritatea (3,0…5,0 GPa) scăzute, ce nu permit aplicarea acestora în cuplurile de frecare, de aceea se utilizează ca acoperiri decorative şi pentru protecţie împotriva coroziunii.
În calitate de cea mai apropiată soluţie serveşte instalaţia de depunere electrochimică a cromului care constă dintr-un dispozitiv inductiv-capacitiv, o baie electrolitică şi un redresor de curent trifazat. Totodată, dispozitivul este format din două blocuri - capacitiv şi inductiv, conectate paralel între ele. Depunerea cromului se efectuează din electrolitul universal, la densitatea curentului catodic de 30…110 A/dm2 [2].
Dezavantajele acoperirilor de crom obţinute constau în agresivitatea înaltă a electrolitului la temperaturi ridicate şi rezistenţa la uzură scăzută.
Problema pe care o rezolvă invenţia propusă constă în obţinerea acoperirilor galvanice de crom rezistente la uzură din electrolitul tetracromat.
Problema se rezolvă prin aceea că procedeul de depunere a acoperirii galvanice de crom include depunerea acoperirii de crom din electrolitul tetracromat, care conţine, g/l: CrO3 - 350…400, H2SO4 - 2,5…2,7, NaOH - 40…60, zahăr - 1, la temperatura electrolitului de 291…297 K, densitatea curentului catodic de 2,0…8,0 kA/m2, cu utilizarea unei surse de curent trifazat şi a unui dispozitiv inductiv-capacitiv, conectat în serie între polii negativi ai sursei de curent trifazat şi băii galvanice, totodată dispozitivul este format din două blocuri - capacitiv şi inductiv, conectate paralel între ele, blocul inductiv având inductanţa în limitele 0,1 µH…10,0 H, iar blocul capacitiv având capacitatea sumară în limitele 0,01…0,10 F.
Rezultatul tehnic al invenţiei constă în determinarea condiţiilor optime de electroliză pentru obţinerea acoperirilor de crom rezistente la uzură, ce se caracterizează prin următoarele:
1) selectarea compoziţiei electrolitului;
2) alimentarea băii galvanice de la o sursă de curent trifazat, cu conectarea dispozitivului inductiv-capacitiv (DIC);
3) determinarea parametrilor procesului.
Invenţia se explică cu ajutorul desenelor din fig. 1-2, care reprezintă:
- fig. 1, schema instalaţiei pentru depunerea acoperirilor de crom cu utilizarea dispozitivului inductiv-capacitiv,
- fig. 2, variaţia uzurii acoperirilor de crom obţinute din: 1 - electrolitul tetracromat cu utilizarea DIC; 2 - electrolitul universal; 3 - electrolitul tetracromat fără DIC.
Instalaţia experimentală pentru depunerea acoperirilor de crom (fig. 1) constă dintr-un dispozitiv inductiv-capacitiv (1), un regulator de curent (2), o baie galvanică (3) şi un redresor de curent trifazat (4) cu puterea de 60 W. Pentru formarea spectrului componentelor variabile, au fost determinate mărimile optimale ale inductanţei (Lop) şi ale capacităţii (Cop) la care s-a observat deplasarea maximală a potenţialului catodic spre zona pozitivă, totodată amplificarea componentelor variabile ale spectrului şi banda de frecvenţe a ”zgomotelor” s-a extins la frecvenţe mai mari. Totodată, inductanţa s-a format cu un bloc inductiv, compus din bobine separate, fiecare fiind amplasate pe un miez separat şi unite consecutiv, paralel sau paralel-consecutiv la ajustare, iar capacitatea s-a format cu un bloc capacitiv, alcătuit din condensatoare polare, unite în paralel.
Încercările s-au efectuat în Laboratorul „Prelucrarea Electrochimică a Materialelor” a Institutului de Fizică Aplicată al AŞM. La depunerea cromului s-au stabilit următorii parametri optimali ai DIC: L = 5 H; C = 0,0176 F.
Depunerea acoperirilor de crom s-a efectuat în decurs de şapte ore pe trei loturi de probe: 1 lot - în electrolitul tetracromat (CrO3 - 400 g/l; H2SO4 - 2,7 g/l; NaOH - 60 g/l; zahăr - 1 g/l), la densitatea curentului pe suprafaţa catodului Dk = 2,0 kA/m2 şi temperatura electrolitului t = 291 K, cu utilizarea dispozitivului inductiv-capacitiv; lotul 2 - în electrolitul universal (CrO3 - 250 g/l; H2SO4 - 2,5 g/l), la densitatea curentului catodic Dk = 5,5 kA/m2 şi temperatura electrolitului t = 328 K; lotul 3 - în electrolitul tetracromat fără DIC.
Probele pentru depunerea cromului supuse cercetărilor la uzare au fost confecţionate din oţel St. 3 (10x50x4 mm), iar contracorpul din fontă cenuşie SC15-32 cu suprafaţa de 15 mm2 (1,5x10 mm). În calitate de anod s-au utilizat lamele din plumb (GOST 3778-77E). Suprafaţa de încercare la uzură a probelor a fost supusă rectificării, unde s-a asigurat grosimea stratului depus de 0,15 mm şi rugozitatea Rz = 0,32. Acoperirile primului lot aveau microduritatea Hµ = 8,4 GPa, lotului doi Hµ = 9,15 GPa şi lotului trei Hµ = 6,13 GPa, adică microduritatea acoperirilor depozitate din electrolitul tetracromatic cu utilizarea DIC a crescut considerabil. Încercările la uzură a acoperirilor s-au efectuat la maşina de frecare cu mişcare du-te-vino la viteza de alunecare V = 11,4 m/min (180 curse duble/min) şi sarcina de 2 kg fără ulei.
În urma încercărilor efectuate s-a stabilit că în procesul rodajului mai puţin s-au uzat probele cu acoperiri depuse din electrolitul tetracromat cu DIC, apoi din electrolitul universal şi mai apoi din electrolitul tetracromat fără DIC (fig. 2).
S-a constatat că, în zona de uzare stabilizată, acoperirile obţinute din electrolitul tetracromat cu DIC şi electrolitul de cromare universal se uzau cu aceeaşi viteză, iar la acoperirile obţinute din electrolitul tetracromat fără DIC viteza de uzare era de 2 ori mai mare.
În aşa mod, rezultatele cercetărlor au demonstrat că utilizarea dispozitivului inductiv-capacitiv a contribuit la creşterea microdurităţii acoperirilor depuse din electrolitul tetracromat şi la creşterea rezistenţei la uzură, ce favorizează utilizarea acestor acoperiri în cuplurile de frecare.
1. Шлугер М. Гальванические покрытия в машиностроении. Москва, 1985, Том № 1, с. 136-137
2. SU 1621559 A1 1989.03.10

Claims (1)

  1. Procedeu de depunere a acoperirii galvanice de crom, care include depunerea acoperirii de crom din electrolitul tetracromat, care conţine, g/l: CrO3 - 350…400, H2SO4 - 2,5…2,7, NaOH - 40…60, zahăr - 1, la temperatura electrolitului de 291…297 K, densitatea curentului catodic de 2,0…8,0 kA/m2, cu utilizarea unei surse de curent trifazat şi a unui dispozitiv inductiv-capacitiv, conectat în serie între polii negativi ai sursei de curent trifazat şi băii galvanice, totodată dispozitivul este format din două blocuri - capacitiv şi inductiv, conectate paralel între ele, blocul inductiv având inductanţa în limitele 0,1 µH…10,0 H, iar blocul capacitiv având capacitatea sumară în limitele 0,01…0,10 F.
MDS20130063A 2013-04-01 2013-04-01 Procedeu de depunere a acoperirii galvanice de crom MD714Z (ro)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
MDS20130063A MD714Z (ro) 2013-04-01 2013-04-01 Procedeu de depunere a acoperirii galvanice de crom

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
MDS20130063A MD714Z (ro) 2013-04-01 2013-04-01 Procedeu de depunere a acoperirii galvanice de crom

Publications (2)

Publication Number Publication Date
MD714Y MD714Y (ro) 2013-12-31
MD714Z true MD714Z (ro) 2014-07-31

Family

ID=49912597

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
MDS20130063A MD714Z (ro) 2013-04-01 2013-04-01 Procedeu de depunere a acoperirii galvanice de crom

Country Status (1)

Country Link
MD (1) MD714Z (ro)

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
SU376487A1 (ru) * 1971-03-09 1973-04-05 ВО?СиЮЗНАЛ ,j -iKT^-.f ;.>& .(-^ '• • М- ' ' •' "" '-' ilAltJaiiiiW'^*-^^"-^'
SU398700A1 (ru) * 1971-06-28 1973-09-27 Способ электролитического хромирования
SU1617062A1 (ru) * 1987-10-01 1990-12-30 Московский вечерний металлургический институт Способ электрохимического нанесени хромовых покрытий
SU1730207A1 (ru) * 1989-12-27 1992-04-30 Московский вечерний металлургический институт Способ электролитического хромировани
MD3573B2 (ro) * 2005-12-02 2008-04-30 Institutul De Fizica Aplicata Al Academiei De Stiinte A Moldovei Dispozitiv pentru procese electrochimice
  • 2013

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
SU376487A1 (ru) * 1971-03-09 1973-04-05 ВО?СиЮЗНАЛ ,j -iKT^-.f ;.>& .(-^ '• • М- ' ' •' "" '-' ilAltJaiiiiW'^*-^^"-^'
SU398700A1 (ru) * 1971-06-28 1973-09-27 Способ электролитического хромирования
SU1617062A1 (ru) * 1987-10-01 1990-12-30 Московский вечерний металлургический институт Способ электрохимического нанесени хромовых покрытий
SU1730207A1 (ru) * 1989-12-27 1992-04-30 Московский вечерний металлургический институт Способ электролитического хромировани
MD3573B2 (ro) * 2005-12-02 2008-04-30 Institutul De Fizica Aplicata Al Academiei De Stiinte A Moldovei Dispozitiv pentru procese electrochimice

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Шлугер М. Гальванические покрытия в машиностроении. Москва, 1985, Том № 1, с. 136-137 *

Also Published As

Publication number Publication date
MD714Y (ro) 2013-12-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Li et al. Plasma Electrolytic Oxidation Coatings on Lightweight
Martini et al. PEO layers obtained from mixed aluminate–phosphate baths on Ti–6Al–4V: Dry sliding behaviour and influence of a PTFE topcoat
Němcová et al. Influence of plasma electrolytic oxidation on fatigue performance of AZ61 magnesium alloy
US8337687B2 (en) Structured chrome solid particle layer and method for the production thereof
ZHANG et al. Electrodeposition and corrosion resistance of Ni–P–TiN composite coating on AZ91D magnesium alloy
Wang et al. Effect of cerium additive on aluminum-based chemical conversion coating on AZ91D magnesium alloy
Devaneyan et al. Electro co-deposition and characterization of SiC in nickel metal matrix composite coatings on aluminium 7075
MX2019005540A (es) Metodo para electrochapado de una tira de acero no recubierta con una capa de chapado.
CN101122038A (zh) 一种电刷镀纳米Ni-Fe合金镀层及其镀液、制备方法和用途
CN102154583A (zh) 一种制备高硅硅钢的方法
RU152032U1 (ru) Устройство для микродугового оксидирования рабочей поверхности поршня гидроцилиндра
MD714Z (ro) Procedeu de depunere a acoperirii galvanice de crom
CN102352510A (zh) 镁合金上低温制备高性能硅掺杂类金刚石膜层的方法
Wang et al. Microstructure, friction, and wear properties of Ni‐Al2O3‐MoS2 composite coatings
US11279112B2 (en) Coating laminated body and method for producing the same
Lin et al. Effect of H2O addition on the corrosion resistance of trivalent chromium-carbon coatings electrodeposited from choline chloride deep eutectic solvent
CN205115644U (zh) 一种高耐腐蚀性的三价铬镀铬层结构
RU2489527C2 (ru) Состав электролита антифрикционного электролитического сплава "цинк-железо" для осаждения в условиях гидромеханического активирования
Ghosh Electrodeposition of Cu, Sn and Cu-Sn alloy from choline chloride ionic liquid
CN107858719B (zh) 一种NdFeB磁体表面复合金属保护层及其制备方法
CN109266937A (zh) 一种钻头建筑机械材料
MD4720B1 (ro) Procedeu de depunere a acoperirilor din electrolit pe bază de crom trivalent
Liu et al. Effect of nickel pre-plating on the plating of Zn-Ni alloy coating on stainless steel substrate
MD685Z (ro) Procedeu de obţinere a acoperirii multistrat prin metoda alierii cu scântei electrice
Hou et al. Corrosion resistance of pulse-electroplated Ni-W alloys

Legal Events

Date Code Title Description
FG9Y Short term patent issued
KA4Y Short-term patent lapsed due to non-payment of fees (with right of restoration)