Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Государственный Университет Молд0filedCriticalГосударственный Университет Молд0
Priority to MDS20180098ApriorityCriticalpatent/MD1307Z/ru
Publication of MD1307YpublicationCriticalpatent/MD1307Y/ru
Publication of MD1307ZpublicationCriticalpatent/MD1307Z/ru
Изобретение относится к области полимерных наноматериалов и фоточувствительных структур на их основе, которые могут быть использованы в оптоэлектронике для создания фотогальванических устройств и электрофотографических носителей информации.Фоточувствительный слой на основе карбазольного полимера содержит поли-N-эпоксипропилкарбазол или сополимер карбазолил-этилметакрилат:октилметакрилат сенсибилизированный 12…15 масс. % 2,4,7-тринитрофлуоренона и 5,0…50,0 масс. % тетрагидроксифталоцианина цинка или кобальта, толщина фоточувствительного слоя составляет 2,0…6,0 мкм.
MDS20180098A2017-12-132017-12-13Фоточувствительный слой на основе карбазольного полимера
MD1307Z
(ru)
Cu2zn0.14sn0.25te2.34 nanocrystalline solution and preparation method thereof , photosensitive resin solution and black matrix preparation method, and color film substrate