Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Государственный Университет Молд0filedCriticalГосударственный Университет Молд0
Priority to MDS20180098ApriorityCriticalpatent/MD1307Z/ro
Publication of MD1307YpublicationCriticalpatent/MD1307Y/ro
Publication of MD1307ZpublicationCriticalpatent/MD1307Z/ro
Invenţia se referă la domeniul nanomaterialelor polimerice şi a structurilor fotosensibile pe baza lor, care pot fi utilizate în optoelectronică pentru realizarea dispozitivelor fotovoltaice şi a purtătorilor de informaţie electrofotografică.Stratul fotosensibil pe bază de polimer carbazolic conţine poli-N-epoxipropilcarbazol sau copolimer carbazolil-etilmetacrilat:octilmetacrilat sensibilizat cu 12…15% mas. de 2,4,7-trinitrofluorenonă şi 5,0…50,0% mas. de tetrahidroxiftalocianină de zinc sau cobalt, grosimea stratului fotosensibil fiind de 2,0…6,0 µm.
MDS20180098A2017-12-132017-12-13Strat fotosensibil pe bază de polimer carbazolic
MD1307Z
(ro)
Cu2zn0.14sn0.25te2.34 nanocrystalline solution and preparation method thereof , photosensitive resin solution and black matrix preparation method, and color film substrate