MD4570C1 - Strat fotosensibil pe bază de copolimer carbazolic - Google Patents
Strat fotosensibil pe bază de copolimer carbazolic Download PDFInfo
- Publication number
- MD4570C1 MD4570C1 MDA20160050A MD20160050A MD4570C1 MD 4570 C1 MD4570 C1 MD 4570C1 MD A20160050 A MDA20160050 A MD A20160050A MD 20160050 A MD20160050 A MD 20160050A MD 4570 C1 MD4570 C1 MD 4570C1
- Authority
- MD
- Moldova
- Prior art keywords
- photosensitive layer
- copolymer
- carbazole
- photosensitive
- octene
- Prior art date
Links
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 title claims abstract description 18
- UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N Carbazole Natural products C1=CC=C2C3=CC=CC=C3NC2=C1 UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 10
- KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 1-octene Chemical compound CCCCCCC=C KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 14
- RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N heliogen blue Chemical compound [Cu].[N-]1C2=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=NC([N-]1)=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=N2 RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 9
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N n-Octanol Natural products CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 6
- VHQGURIJMFPBKS-UHFFFAOYSA-N 2,4,7-trinitrofluoren-9-one Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC([N+]([O-])=O)=C2C3=CC=C([N+](=O)[O-])C=C3C(=O)C2=C1 VHQGURIJMFPBKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 4
- 239000000969 carrier Substances 0.000 abstract description 3
- 239000002086 nanomaterial Substances 0.000 abstract description 2
- 230000005693 optoelectronics Effects 0.000 abstract description 2
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 9
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 9
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 8
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 8
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N n-vinylcarbazole Chemical compound C1=CC=C2N(C=C)C3=CC=CC=C3C2=C1 KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 4
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 3
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 3
- GQEZCXVZFLOKMC-UHFFFAOYSA-N 1-hexadecene Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCC=C GQEZCXVZFLOKMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QEWYKACRFQMRMB-UHFFFAOYSA-N fluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)CF QEWYKACRFQMRMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 239000005304 optical glass Substances 0.000 description 2
- 238000002604 ultrasonography Methods 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Natural products C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- NZIDBRBFGPQCRY-UHFFFAOYSA-N octyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCOC(=O)C(C)=C NZIDBRBFGPQCRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 1
- 229920006352 transparent thermoplastic Polymers 0.000 description 1
Landscapes
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Photovoltaic Devices (AREA)
Abstract
Invenţia se referă la domeniul nanomaterialelor polimerice şi a structurilor fotosensibile pe baza lor, care pot fi utilizate în optoelectronică pentru realizarea dispozitivelor fotovoltaice şi a purtătorilor de informaţie electrofotografică.Stratul fotosensibil pe bază de copolimer carbazolic conţine copolimer de N-vinilcarbazol cu 1-octenă sensibilizat cu 15% mas. de 2,4,7-trinitrofluorenonă şi 10...50% mas. de ftalocianină de cupru, grosimea stratului fotosensibil fiind de 1...10 µm.
Description
Invenţia se referă la domeniul nanomaterialelor polimerice şi a structurilor fotosensibile pe baza lor, care pot fi utilizate în optoelectronică pentru realizarea dispozitivelor fotovoltaice şi a purtătorilor de informaţie electrofotografică.
Din studiul literaturii de specialitate se cunoaşte că pentru obţinerea straturilor fotosensibile se utilizează un strat termoplastic subţire (d~0,8…0,9 µm) din copolimer stiren: metacrilat de butil sau alt polimer termoplastic transparent [1].
Dezavantajele acestora sunt:
- dificultăţi la sinteza copolimerilor N-VC:OMA, în majoritatea cazurilor obţinându-se straturi opace;
- transparenţă optică redusă a stratului fotosensibil;
- fotosensibilitate neînsemnată a straturilor în diapazonul roşu şi infraroşu, în special pentru λ≈800…900 nm;
- preţ de cost mai înalt, deoarece metacrilatul de octil este mai scump decât 1-octenă.
Cel mai aproape de invenţia propusă este stratul fotosensibil, ce constă din copolimer de N-vinilcarbazol cu 1-octenă sau 1-hexadecenă (N-VC:OC-1 sau HD-1) luat la polimerizare în raport de 70:30 mol%, sensibilizat cu 2,4,7-trinitrofluorenonă (2,4,7-TNF) sau alţi compuşi cu grupe electronoacceptoare [2].
Dezavantajul acestor straturi fotosensibile constă în absenţa fotosensibilităţii în diapazonul spectral 700…900 nm.
Problema pe care o rezolvă prezenta invenţie constă în confecţionarea stratului fotosensibil din compozite de copolimeri carbazolici cu metalo-ftalocianine, care ar asigura o transparenţă bună şi o fotosensibilitate înaltă în diapazonul spectral λ≈500…900 nm.
Stratul fotosensibil, conform invenţiei, înlătură dezavantajele menţionate mai sus prin aceea că conţine copolimer de N-vinilcarbazol cu 1-octenă în raport de 70:30 mol% sensibilizat cu 15% mas. de 2,4,7-trinitrofluorenonă şi 10…50% mas. de ftalocianină de cupru, grosimea stratului fotosensibil fiind de 1…10 µm.
Rezultatul tehnic al invenţiei constă în faptul că straturile fotosensibile obţinute asigură următoarele caracteristici tehnice:
- folosensibilitate spectrală înaltă în diapazonul vizibil al spectrului (λ≈400…700 nm) şi infraroşu (IR) apropiat (λ≈700…900 nm), comparativ cu cea mai apropiată soluţie;
- stabilitate faţă de mediul ambiant.
Rezultatul tehnic obţinut se datorează faptului că stratul fotosensibil conţine suplimentar 10…50% mas. de ftalocianină de cupru (Pc-Cu) în calitate de sensibilizator. Rezultate mai bune se observă în cazul straturilor polimerice din copolimeri de N-vinilcarbazol cu 1-octenă (N-VC:OC-l) (I) dopaţi cu ftalocianină de cupru (Pc-Cu), probabil, datorită faptului că copolimerul N-VC:OC-l posedă o structură mai regulată decât copolimerii din stadiul anterior. Un rezultat şi mai bun se observă la prelucrarea termică a straturilor fotosensibile în atmosferă de gaz inert sau hidrogen.
Invenţia se explică prin desenele din fig. l şi 2, care reprezintă:
- fig. l, schema dispozitivului fotosensibil (1 - suport din sticlă optică, 2 - strat electro- conductor, 3 - strat din compozit de polimer carbazolic);
- fig. 2, dependenţa fotosensibilităţii spectrale a straturilor fotosensibile din copolimer de N-vinilcarbazol:l-octenă (70:30 mol%) sensibilizat cu 10…50% mas. de ftalocianină de cupru.
Structura stratului fotosensibil este reprezentată în fig. 1. Pe un suport de sticlă transparent, acoperit cu un strat electroconductibil ITO, se depune prin metoda spin-coating un strat fotosensibil din copolimer de N-vinilcarbazol cu l-octenă sensibilizat cu ftalocianină de cupru. Grosimea stratului fotosensibil variază de la 1,0 până la 10 µm. Cercetarea fotosensibilităţii spectrale cu utilizarea metodei propuse în [1] a demonstrat că ele manifestă fotosensibilitate relativ bună pe tot diapazonul spectral vizibil şi în infraroşu apropiat λ≈400…900 nm. O sensibilitate foarte bună faţă de prototip se observă în diapazonul 600…900 nm. Majorarea concentraţiei ftalocianinei de cupru Pc-Cu în straturi CPc-Cu > 50% mas. conduce la micşorarea fotosensibilităţii.
Exemplu de confecţionare a stratului fotosensibil din copolimer carbazolic cu 2,4,7-TNF şi sensibilizat cu Pc-Cu
a) Într-o eprubetă ajustată cu dop cu şlif se iau 0,1 g de copolimer carbazolic (N-VC : OC-1), 0,015 g (15% mas.) de 2,4,7-TNF şi 1,0 ml clorobenzen. Dizolvarea polimerului are loc în 2…4 ore.
b) În altă eprubetă se iau 0,01 g Pc-Cu (10% mas. faţa de copolimerul carbazolic) la care se toarnă 1,0 ml clorobenzen şi 0,02 ml de acid fluoroacetic. Conţinutul eprubetei se dizolvă prin amestecare. Soluţia se prelucrează cu ultrasunet, apoi cu picătura, prin agitare, se adaugă la soluţia de polimer carbazolic.
c) Soluţia finală se prelucrează din nou cu ultrasunet şi, cu ajutorul unui dispozitiv de tip centrifugă, se depune pe un suport de sticlă optică acoperit cu strat electroconductiv. Eşantioanele obţinute se usucă în etuvă cu vid la temperatura de 40…50°C. Unele probe au fost prelucrate termic la 60…70°C în atmosferă de hidrogen. Sensibilitatea spectrală este testată cu ajutorul unei instalaţii optice în diapazonul spectral λ≈400…900 nm.
Rezultatele obţinute sunt ilustrate în tabel.
Stratul fotosensibil obţinut poate fi folosit la prepararea purtătorilor de informaţie ce pot fi utilizaţi pentru înregistrarea informaţiei în domeniul infraroşu apropiat 800…900 nm.
Tabel
№ Pc-Cu, % mas. Grosimea straturilor, d, µm Fotosensibilitatea (S) la λ=850 nm, u.c. Transparenţa, % 1 75 9,2 1,0 65 2 50 10,0 3,6 78 3 25 8,5 6,2 81 4 10 2,5 1,5 85
Precum se observă din tabel, majorarea concentraţiei de ftalocianină de cupru în compozit conduce la micşorarea fotosensibilităţii şi, îndeosebi, a transparenţei stratului fotosensibil. Cele mai bune rezultate se obţin la un conţinut de 25…50% mas. de Pc-Cu.
1. Короткая Е.Д., Федорова Л.Н., Починок В.Я., Кузьмин Р.Н., Айзенберг В.Д. Химическая пластификация поливинилкарбазола. Способы записи информации на бессеребряных носителях, Вып. 7, Киев, Вища школа, 1976, pag.74-82
2. MD 3690 F1 2008.08.31
Claims (1)
- Strat fotosensibil pe bază de copolimer carbazolic, care conţine copolimer de N-vinilcarbazol cu 1-octenă în raport de 70:30 mol% sensibilizat cu 15% mas. de 2,4,7-trinitrofluorenonă şi 10...50% mas. de ftalocianină de cupru, grosimea stratului fotosensibil fiind de 1...10 µm.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| MDA20160050A MD4570C1 (ro) | 2016-05-10 | 2016-05-10 | Strat fotosensibil pe bază de copolimer carbazolic |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| MDA20160050A MD4570C1 (ro) | 2016-05-10 | 2016-05-10 | Strat fotosensibil pe bază de copolimer carbazolic |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| MD20160050A2 MD20160050A2 (ro) | 2017-11-30 |
| MD4570B1 MD4570B1 (ro) | 2018-05-31 |
| MD4570C1 true MD4570C1 (ro) | 2018-12-31 |
Family
ID=60514888
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| MDA20160050A MD4570C1 (ro) | 2016-05-10 | 2016-05-10 | Strat fotosensibil pe bază de copolimer carbazolic |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| MD (1) | MD4570C1 (ro) |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2054118A1 (en) * | 1970-11-04 | 1972-05-10 | Hauffe K | Bipolar charge-/discharge-able coating - for xerography with zinc oxide and photoconductive organic pigment in resin |
| GB1343671A (en) * | 1971-02-26 | 1974-01-16 | Xerox Corp | Photoconductive imaging member |
| JPS5389434A (en) * | 1977-01-17 | 1978-08-07 | Mita Industrial Co Ltd | Stacked photosensitive body for electrophotography |
| MD3690G2 (ro) * | 2007-11-07 | 2009-03-31 | Государственный Университет Молд0 | Purtător de informaţie electrofotografic |
| JP6141029B2 (ja) * | 2012-08-31 | 2017-06-07 | キヤノン株式会社 | 電子写真感光体、プロセスカートリッジおよび電子写真装置 |
| MD4306C1 (ro) * | 2013-02-01 | 2015-04-30 | Государственный Университет Молд0 | Purtător de informaţie electrofotografic |
-
2016
- 2016-05-10 MD MDA20160050A patent/MD4570C1/ro not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| MD4570B1 (ro) | 2018-05-31 |
| MD20160050A2 (ro) | 2017-11-30 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Zhao et al. | Exceptional n-type thermoelectric ionogels enabled by metal coordination and ion-selective association | |
| Smith et al. | Optical properties of clear natural water | |
| Kim et al. | Flexible biomimetic block copolymer composite for temperature and long-wave infrared sensing | |
| Dujardin et al. | Polyvinylnorbornene gas separation membranes | |
| Lee et al. | Influence of electrical traps on the current density degradation of inverted perovskite solar cells | |
| Wang et al. | A bioinspired adhesive‐integrated‐agent strategy for constructing robust gas‐sensing arrays | |
| Joshi et al. | Noninvasive measurement of scattering anisotropy in turbid materials by nonnormal incident illumination | |
| Osw et al. | Synthesis and evaluation of scalable DAD π-extended oligomers as p-type organic materials for bulk-heterojunction solar cells | |
| Pal et al. | Phenalenyl-based neutral radical molecular conductors: Substituent effects on solid-state structures and properties | |
| Sato et al. | Soluble and film‐formable homopolymer tethering side‐opened cage silsesquioxane pendants | |
| Maloney et al. | Emissivity of microstructured silicon | |
| Kim et al. | Synthesis and properties of poly (1, 6-heptadiyne) having a bulky siloxy group | |
| MD4570C1 (ro) | Strat fotosensibil pe bază de copolimer carbazolic | |
| He et al. | Biobased anethole/polyacrylate cross-linked materials with good transparency and high thermostability | |
| Lindqvist et al. | Facile monitoring of fullerene crystallization in polymer solar cell blends by UV–vis spectroscopy | |
| Bai et al. | Solution‐Processed AgSbS2 Thin Films for Photodetection | |
| Zając et al. | Synthesis and properties of new Dithienosilole derivatives as luminescent materials | |
| Lee et al. | Self-consistent dielectric constant determination for monolayer WSe2 | |
| Hajduk et al. | Thermal transitions in P3HT: PC60BM films based on electrical resistance measurements | |
| Matsumoto et al. | Synthesis and properties of methacrylate‐based networked polymers having ionic liquid structures | |
| Potter et al. | Optical properties of evaporated InSb films | |
| Muir et al. | GeSeTe—A new infrared-transmitting chalcogenide glass | |
| Li et al. | High-performance broadband photodetectors combining perovskite and organic bulk heterojunction bifunctional layers | |
| Kudo et al. | Synthesis of polycarbosilanes by A2+ Bn (n= 2, 3, and 4) type hydrosilylation reaction and evaluation of their refractive index properties | |
| Noirault et al. | Effects of water uptake on the inherently oxygen-deficient compounds Ln26O27□(BO3) 8 (Ln= La, Nd) |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FG4A | Patent for invention issued | ||
| KA4A | Patent for invention lapsed due to non-payment of fees (with right of restoration) | ||
| MM4A | Patent for invention definitely lapsed due to non-payment of fees |