KR980011799A - Lp cvd 확산로의 가스 분사 장치 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 LP CVD 확산 설비의 가스 분사 장치의 노즐 분실 및 노즐 세정 불량을 방지한 LP CVD 확산 설비의 가스 분사 장치에 관한 것이다.
본 발명의 목적은 가스 분사 장치를 분해-결합시 분사 노즐의 분실을 방지함과 동시에 플랜지 포트에 삽입이 용이한 LP CVD 확산 설비의 가스 분사 장치를 제공함에 있다.
본 발명의 효과는 가스 분사 장치의 분사노즐을 분사노즐 고정부와 일체로 형성하여 분사노즐의 조립-해체시 종종 발생하는 분사노즐의 분실을 방지함과 동시에 노즐 포트에 분사노즐의 삽입 불량을 방지하는 효과가 있다.
Description
본 발명은 LP CVD 확산 설비의 가스 분사 장치의 노즐 분실 및 노즐 세정 불량을 방지한 LP CVD 확산 설비의 가스 분사 장치에 관한 것이다.
일반적으로 LP CVD 공정은 웨이퍼의 상면에 원하는 막질을 증착시키는 공정으로 원하는 막질을 얻기 위해 외부의 반응 가스 공급원으로부터 LP CVD 확산로로 가스 공급관을 통해 이동한 반응 가스는 가스 공급관의 말단에 형성된 노즐에 의해서 확산로 내부로 분사되면, 분사된 반응 가스는 확산로 내부에서 화학반응을 일으켜 웨이퍼에는 원하는 막질이 증착 및 확산된다.
이와 같은 종래의 LP CVD 확산로의 가스 분사 장치를 첨부된 도면을 참조하여 설명하면 다음과 같다.
제1도는 종래의 LP CVD 확산로의 가스 분사 장치 부분만을 분해한 분해 단면도로서, 외부의 반응가스 공급원(미도시)에는 확산로로 공정 가스를 공급하는 반응가스 신축관(50)이 연통되어 있으며, 반응가스 신축관(50)에는 소정 직경을 갖고 일측단이 개구된 원통형의 노즐캡(40)이 끼워져 있으며, 노즐캡(40)의 개구부 쪽에는 암나사부가 형성되어 있다.
반응가스 신축관(50)에 노즐캡(40)을 끼운 후, 반응가스 신축관(50)의 말단에 노즐고정부(31)가 부착되는데 노즐고정부(31)는 분사노즐(30)의 외경과 대응하여 분사노즐(30)이 끼워지도록 원통 형상으로 형성되어 있다.
또한, 상기 반응가스 신축관(50)은 소정 두께로 원형 평판 형태의 반응가스 신축관 연결부(32)와 연통되어 있으며, 상기 반응가스 신축관 연결부(32)의 직경은 상기 노즐캡(40)의 내경과 동일하거나 약간 작게 형성되어 있으며, 노즐고정부(31)에 끼워진 분사노즐(30)의 외주 면으로는 다시 공정 가스의 밀봉을 위한 밀봉링(20)이 끼워지며, 밀봉링(20)을 끼운 분사노즐(30)은 분사노즐(30)의 외경과 동일한 직경을 갖는 노즐 포트(12)가 상기 확산로의 플랜지(10)에 형성되어 있다.
이와 같이 구성된 종래의 LP CVD 설비의 가스 분사 장치의 분해-조립 과정을 첨부된 도면을 참조하여 설명하면 다음과 같다.
확산로에 공급되는 공정 가스를 변경하거나 분사노즐(30)의 일부가 막혔을 때는 분사노즐(30)을 클리닝 해야 하는데 먼저, 노즐캡(40)을 나사산이 형성된 방향으로 돌려서 노즐캡(40)과 플랜지 포트(14)를 분리한다.
이후, 분사노즐(30)에 끼워져 있는 밀봉링(20)을 제거하고, 노즐고정부(31)에서 분사노즐(30)을 분리하여 각 부분을 클리닝한다.
이어서, 모든 부분의 세척이 종료되면 분해된 가스 공급 장치를 재조립하게 되는데 먼저, 분사노즐 고정부(31)에 분사노즐(30)을 완전히 밀착해서 끼운 뒤, 분사노즐 고정부(31)에 끼워져 있는 분사노즐(30)의 외주면으로 다시 밀봉링(20)을 끼운다.
이후, 밀볼링(20)까지 완전히 끼워진 분사노즐(30)은 확산로에 부착 형성되어 있는 노즐 포트(12)에 삽입된다.
이어서, 노즐 포트(12)에 끼워져 있는 분사노즐(30)과, 공정 가스가 새어나오는 것을 방지하는 밀볼링(20)과, 분사노즐 고정부(31)를 고정시키기 위해 플랜지 포트(14)에 형성된 수나사부와 노즐캡(40)에 형성되어 있는 암나사부가 결합된다.
노즐캡(40)의 암나사부에 플랜지 포트(14)의 수나사가 체결되어감에 따라 플랜지 포트(14)는 반응가스 신축관 연결부(32)를 압박하여 반응가스 신축관 연결부(32)와 노즐캡(40)은 완전 밀착되어 누설 가스를 차단한다.
이와 같이 분해-세척-조립의 과정을 종료한 가스 분사장치의 외부 반응 가스 공급원의 공급 밸브를 다시 개방한 후, 공정의 개시와 동시에 반응 가스 신축관(50)을 통과한 공정 가스는 분사노즐(30)을 통해 확산로로 공정 가스를 분사한다.
이와 같은 종래의 LP CVD 확산 설비의 가스 분사장치는 분리되어 있는 분사노즐과, 노즐 포트가 수평을 유지하지 않으면 분사노즐이 노즐 포트에 삽입되지 않으며, 노즐 포트의 내부면에 이물질이 들어가 있어도 역시 분사노즐이 삽입되지 않음으로 분사노즐의 셋팅에 많은 어려움이 있었다.
또한, 가스 분사 장치의 또 다른 문제점으로는, 매우 작은 크기를 갖는 분사노즐이 노즐고정부와 별도로 분리되어 있어 분해-결합시 분사노즐의 세정이 어렵고 분사노즐의 분실이 잦은 문제점이 있었다.
따라서, 본 발명은 이와 같은 종래의 문제점들을 감안하여 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 가스 분사 장치를 분해-결합시 분사노즐의 분실을 방지함과 동시에 플랜지 포트에 삽입이 용이한 LP CVD 확산 설비의 가스 분사 장치를 제공함에 있다.
제1도는 종래의 기술에 의한 가스 분사 장치를 분해 단면도로 나타낸 도면이고,
제2도는 본 발명에 의한 가스 분사 장치를 분해 단면도로 나타낸 도면이고,
제3도는 제2도의 분해 단면도를 조립한 결합도면이다.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
10 : 플랜지 20 : 밀봉링
40 : 노즐캡 60a : 반응가스 신축관
60b : 반응가스 신축관 연결부 60c : 노즐 고정부
60d : 분사 노즐
이와 같은 본 발명의 목적을 달성하기 위한 LP CVD 확산 설비의 가스 분사 장치는 외부에서 확산로로 공정 가스를 운반하는 공정 가스관과, 공정 가스관에 연통된 노즐 고정부와, 상기 노즐 고정부에 삽입되어 있는 분사 노즐과, 상기 분사 노즐에 끼워져 공정 가스의 누출을 방지하는 밀봉링과, 상기 분사 노즐이 끼워지는 노즐 포트로 이루어진 CVD 확산 설비의 가스 분사 장치에서, 상기 가스 분사 장치의 분사노즐과 상기 노즐고정부가 일체로 형성되어 있는 것을 특징으로 한다.
이하, 본 발명 LP CVD 확산 설비의 가스 분사장치를 첨부된 도면 제2도 내지 제3도를 참조하여 설명하면 다음과 같다.
제2도는 본 발명에 의한 LP CVD 확산로의 가스 분사 장치 부분만을 분해한 단면도로서, 외부의 반응가스 공급원(미도시)에는 확산로로 공정 가스를 이송시키는 반응가스 신축관(60a)이 연통되어 있으며, 반응가스 신축관(60a)에는 소정 직경을 갖고 일측단이 개구된 원통형의 노즐캡(40)이 끼워져 있으며, 노즐캡(40)의 개구부쪽 암나사부가 형성되어 있다.
반응가스 신축관(60a)에 노즐캡(40)을 끼운 후, 반응 가스 신축관(60a)의 말단에는 다시 노즐고정부(60c)가 부착되는데 노즐고정부(60c)는 분사노즐(60d)의 외경과 대응하여 분사노즐(60d)이 끼워지도록 원통 형상으로 형성되어 있다.
또한, 상기 반응가스 신축관(50)은 소정두께로 원형 평판 형태의 반응가스 신축관 연결부(60b)와 연통되어 있으며 반응가스 신축관 연결부(60b)는 다시 노즐고정부(60c)와 일체로 형성되어 있다.
또한, 노즐 고정부(60c)와 일체로 형성되어 있는 분사 노즐(60d)의 외주면으로는 다시 공정 가스의 밀봉을 위한 밀봉링(20)이 끼워지며, 밀봉링(20)을 끼운 분사노즐(60d)은 분사노즐(60d)의 외경과 동일한 직경을 갖는 노즐 포트(12)가 상기 확산로의 플랜지(10)에 형성되어 있다.
이와 같이 구성된 본 발명 LP CVD 확산 설비의 가스 분사 장치의 분해-조립 과정을 첨부된 도면 제2도 내지 제3도를 참조하여 설명하면 다음과 같다.
확산로에 공급되는 공정 가스를 변경하거나 분사노즐의 일부가 막혔을 때는 분사노즐을 클리닝 해야 하는데 먼저, 노즐캡(40)을 나사산이 형성된 방향으로 돌려서 노즐캡(40)과 플랜지 포트(14)를 분리한다.
이후, 분사노즐(30)에 끼워져있는 밀볼링(20)을 제거하고, 노즐 고정부(31)에서 분사노즐(30)을 분리하여 각 부분을 클리닝한다.
이어서, 모든 부분의 세척이 종료되면 분해된 가스 공급장치를 재 조립하게 되는데 먼저, 분사노즐 고정부(60c)와 일체로 형성되어 있는 분사노즐(60d)의 외주면으로 밀봉링(20)을 끼운다.
밀봉링(20)의 삽입이 끝나면 노즐포트(12)에 분사노즐(60d)을 밀어 넣은 후, 노즐 포트(12)에 끼워지는 분사노즐부(60a, 60b, 60c, 60d)와, 공정 가스가 새어나오는 것을 방지하는 밀봉링(20)을 고정시키기 위해 플랜지 포트(14)에 형성된 수나사부와 노즐캡(40)에 형성되어 있는 암나사부가 결합된다.
노즐캡(40)의 암나사부에 플랜지 포트(14)의 수나사가 체결되어감에 따라 플랜지 포트(14)는 상기 분사노즐 결합부(60c)에서 돌출된 분사노즐-신축관 연결부(60b)를 압박하여 분사노즐-신축관 연결부(60b)와 노즐캡(40)은 완전 밀착되어 누설 가스를 차단한다.
이와 같이 분해-세척-조립의 과정을 종료한 가스 분사장치의 외부 반응 가스 공급원의 공급 밸브를 다시 개방한 후, 공정의 개시와 동시에 반응 가스 신축관(50)을 통과한 공정 가스는 분사노즐부(60a, 60d)를 통해 확산로로 공정 가스를 분사한다.
이때, 공정가스 신축관(60a)의 말단에 부착되어 있는 노즐 고정부(60c)와 분사 노즐(60d)로 일체로 형성되어 있음으로 크기가 작은 분사노즐(60d)의 분실 위험이 없으며, 분사노즐(60d)을 노즐포트(12)에 삽입할 때 삽입 불량이 발생하는 것을 최대한 방지한다.
이상에서 상세히 살펴본 바와 같이, 가스 분사 장치의 분사노즐을 분사노즐 고정부와 일체로 형성하여 분사 노즐의 조립-해체시 종종 발생하는 분사노즐의 분실을 방지함과 동시에 노즐 포트에 분사노즐의 삽입 불량을 방지하는 효과가 있다.
Claims (1)
- 외부에서 확산로로 공정가스를 운반하는 공정 가스관과, 공정 가스관에 연통된 노즐 고정부와, 상기 노즐 고정부에 삽입되어 있는 분사 노즐과, 상기 분사 노즐에 끼워져 공정 가스의 누출을 방지하는 밀봉링과, 상기 분사 노즐이 끼워지는 노즐 포트로 이루어진 CVD 확산 설비의 가스 분사 장치에 있어서, 상기 가스 분사 장치의 분사노즐과 상기 노즐 고정부는 일체로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 CVD 확산 설비의 가스 분사 장치.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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