KR980005724A - 반도체 공정의 흐름확산기가 취부된 순수용 배관시스템 - Google Patents

반도체 공정의 흐름확산기가 취부된 순수용 배관시스템 Download PDF

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KR980005724A
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Abstract

본 발명은 배관중의 굴곡부에서 일어나는 유체흐름의 사점(Dead point)의 형성을 예방하거나 최소화하기 위하여 유체흐름을 부분적으로 확산, 분산시키는 수단으로서 흐름확산기를 취부시킨 반도체 공정의 순수용 배관시스템에 관한 것이다. 본 발명은 종래의 순수용 배관시스템에 있어서, 굴곡부가 형성되어진 위치의 배관 (2)내에 평판 형의 흐름확산기(6)를 상기 배관의 내벽에 일체로 고정시켜서 이루어진다. 따라서, 본 발명은 배관 중에서 상기 흐름확산기(6)에 의한 순수의 흐름을 고르게 확산, 분배시켜 사점이 형성되지 않도록 함으로써 사점에 의한 순수의 전체 등에 의한 미생물의아상번식을 예방하여 순수의 적용을 받는 웨이퍼의 오염을 방지하고, 순수용 배관시스템이 세정작업주기를 크게 연장시킬수 있도록 하며, 그에 의하여 세정 시간을 단축시키고, 순수용 배관시스템에 연결되어진 공정기기들의 가동중단 시간을 단축시켜 생산성을 향상시키는 효과를 제공한다.

Description

반도체 공정의 흐름확산기가 취부된 순수용 배관시스템
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 본 발명에 따라 흐름확산기가 취부되어진 티자형 배관 부분의 일실시예를 도시한 종단면도이다.

Claims (3)

  1. 반도체 공정의 순수용 배관시스템에 있어서, 굴곡부가 형성되어진 위치의 배관내에 평판 형의 흐름확산기를 상기 배관의 내벽에 일체로 고정시켜서 이루어짐을 특징으로 하는 반도체 공정의 흐름확산기가 취부된 순수용 배관시스템.
  2. 제1항에 있어서, 상기 흐름확산기에 다수의 통수구가 형성되어짐을 특징으로 하는 상기 흐름확산기가 취부된 순수용 배관시스템.
  3. 제1항에 있어서, 상기 흐름확산기의 중심이 상기 배관의 길이방향의 중심선을 기준하여 굴곡부가 형성되어진 방향으로 편중되어지도록 하여 상기 배관의 내벽에 일체로 고정되어짐을 특징으로 하는 상기 흐름확산기가 취부된 순수용 배관시스템.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019960022654A 1996-06-20 1996-06-20 반도체 공정의 흐름확산기가 취부된 순수용 배관시스템 KR100187447B1 (ko)

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