KR980005708A - 반도체 웨이퍼 세정장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 반도체소자의 제조공정에 사용되는 웨이퍼 세정장치에 관한 것으로 특히 세정조내에 투입되는 웨이퍼의 유무를 감지하여 공정의 진행을 제어하는 반도체 웨이퍼 세정장치에 관한 것으로, 본 발명의 특징에 의하면, 반도체 웨이퍼 세정장치는 세정조의 내조에 설치되 하단과 내조에 접하는 면이 개방된 구조를 갖는 고정브라켓과, 이 브라켓내에 삽입되어 브라켓의 외부에 체결되는 고정나사에 의해 내조의 외벽에 밀착되어 고정된 포토센서를 구비하고, 또한 상기 센서를 보호하는 케이싱수단과, 상기 케이싱수단내 습기를 제거하는 제습수단을 포함하여 상기 브라켓을 통하여 케이싱수단이 고정되는 구조로 형성되어, 센서의 감지 불량으로 종종 발생하는 공정 에러에 의한 장비의 가동중지는 물론, 센서의 수명을 연장시켜 줌으로써 부품의 잦은 교체로 인한 장비의 가동시간의 손실을 줄여주고, 또한 장비의 가동효율을 향상시킬수 있는 이점이 있다.

Description

반도체 웨이퍼 세정장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제3도는 본 발명의 실시예에 따른 포토센서의 고정구조를 나타낸 분해 사시도.

Claims (4)

  1. 세정조의 내조(111)에 설치되 하단과 내조에 접하는 면이 개방된 구조를 갖는 고정브라켓(210)과, 이 브라켓 내에 삽입되어 브라켓의 외부에 체결되는 고정나사(211)에 의해 내조의 외벽에 밀착되어 고정된 포토센서(200)를 구비하여 세정조내 웨이퍼의 유무를 감지하는 반도체 웨이퍼 세정장치에 있어서, 상기 센서(200)를 보호하는 케이싱수단과, 상기 케이싱수단내 습기를 제거하는 제습수단을 포함하여 상기 브라켓을 통하여 케이싱수단이 고정되도록 하는 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 세정장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 케이싱수단은 센서(200)가 장착될 수 있도록 후면이 개방되고 전면에 수직하는 소정폭의 요홈(11)과 상기 공간에 고정되는 상기 포토센서의 발광부(200a) 혹은 수광부(200b)의 위치에 상기 요홈(11)과 연통되는 소정크기의 창(12)을 구비한 하우징(10)의 개방부위에 씌워지고 그리고 일측면에 상기 고정브라켓(210)의 고정나사(211)에 의해 고정되는 탭(21)이 형성된 커버(20)로 구성된 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 세정장치.
  3. 제1항에 있어서, 상기 제습수단은 상기 하우징(10)내에 삽입되는 포토센서 (200)가 전면, 양측면, 바닥면과 각각 소정의 간격을 두고 위치할 수 있도록 각면에 형성된 복수개의 돌기(13)와, 하우징의 바닥에 통공(14)을 형성하고, 이 통공을 통하여 연결된 가스공급라인(30)으로 구성된 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 세정장치.
  4. 제3항에 있어서, 상기 가스공급라인(30)을 통하여 제공되는 가스는 질소가스인 것을 특징으로 하는 웨이퍼 세정장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019960020494A 1996-06-08 1996-06-08 반도체 웨이퍼 세정장치 KR100193733B1 (ko)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100387526B1 (ko) * 2001-02-07 2003-06-18 삼성전자주식회사 반도체 제조장비의 웨이퍼 감지 오동작 방지장치

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6667244B1 (en) 2000-03-24 2003-12-23 Gerald M. Cox Method for etching sidewall polymer and other residues from the surface of semiconductor devices

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3467113A (en) * 1964-01-21 1969-09-16 Detrex Chem Ind Sight glass cleaning
JPS56125615A (en) * 1980-03-07 1981-10-02 Mitsubishi Electric Corp Outdoor instrument box
US4541277A (en) * 1983-09-23 1985-09-17 Southwire Company Self-sealing, self-cleaning sight glass
US4757255A (en) * 1986-03-03 1988-07-12 National Semiconductor Corporation Environmental box for automated wafer probing
US4872356A (en) * 1988-12-27 1989-10-10 Micron Technology Inc. Resistivity probe fixture
US5199308A (en) * 1991-01-03 1993-04-06 Betz Laboratories, Inc. Multi-functional level probe mounting device

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100387526B1 (ko) * 2001-02-07 2003-06-18 삼성전자주식회사 반도체 제조장비의 웨이퍼 감지 오동작 방지장치

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