KR970077709A - 광로 조절 장치의 평탄화 방법 - Google Patents
광로 조절 장치의 평탄화 방법 Download PDFInfo
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Abstract
본 발명은 투사형 화상 표시 장치로 사용되는 광로 조절 장치의 평탄화 방법에 관한 것으로서, 매트릭스 형태로 형성된 복수개의 능동 소자를 구비하고 있는 구동 기판내의 능동 소자가 형성되지 않은 에지 부분에 더미 패턴을 형성하는 단계와, 상기 능동 소자 및 더미 패턴이 형성된 구동 기판의 상부에 패시베이션층, 식각 스톱층, 희생층을 순차적으로 형성하는 단계와, 상기 희생층을 평탄화 하는 단계로 광로 조절 장치를 평탄화 함으로써, 액츄에이터의 미러로 이용되는 상부 전극의 표면을 평탄한 상태로 제공하여 미러 어레이의 광효율을 높여서 광로 조절 장치의 성능 및 신뢰성을 향상시킨다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제3도의 (가)는 종래의 일실시에의 웨이퍼 센터에 능동 소자가 매트릭스 형태로 형성된 웨이퍼의 평면도, 제3도의 (나)는 본 발명에 따라 능동 소자가 형성되지 않은 웨이퍼의 에지 부분에 더미 패턴을 형성한 웨이퍼의 평면도.
Claims (6)
- 투사형 화상 표시 장치로 사용되는 광로 조절 장치의 평탄화 방법에 있어서, 매트릭스 형태로 형성된 복수개의 능동 소자를 구비하고 있는 구동기판내의 능동 소자가 형성되지 않은 에지 부분에 더미 패턴을 형성하는 단계와; 상기 능동 소자 및 더미 패턴이 형성된 구동 기판의 상부에 패시베이션층, 식각 스톱층, 희생층을 순차적으로 형성하는 단계와; 상기 희생층을 평탄화 하는 단계로 이루어진 광로 조절 장치의 평탄화 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 더미 패턴은, 저온 산화물(LOW TEMPERATURE OSIDE)로 형성되는 것을 특징으로 하는 광로 조절 장치의 평탄화 방법.
- 제2항에 있어서, 상기 더미 패턴은, SiO2로 이루어지는 것을 특징으로 하는 광로 조절 장치의 평탄화 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 더미 패턴은, 플라즈마 화학 기상 증착(PECVD)으로 형성되는 것을 특징으로 하는 광로 조절 장치의 평탄화 방법.
- 제2항에 있어서, 상기 더미 패턴은, 능동 소자와 같은 두께로 형성되는 것을 특징으로 하는 광로 조절 장치의 평탄화 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 희생층의 평탄화는, 화학적 기계 연마 공정으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 광로 조절 장치의 평탄화 방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개되는 것임.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019960018709A KR100200233B1 (ko) | 1996-05-30 | 1996-05-30 | 광로 조절 장치의 평탄화 방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| KR1019960018709A KR100200233B1 (ko) | 1996-05-30 | 1996-05-30 | 광로 조절 장치의 평탄화 방법 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
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| KR970077709A true KR970077709A (ko) | 1997-12-12 |
| KR100200233B1 KR100200233B1 (ko) | 1999-06-15 |
Family
ID=19460166
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019960018709A KR100200233B1 (ko) | 1996-05-30 | 1996-05-30 | 광로 조절 장치의 평탄화 방법 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR100200233B1 (ko) |
-
1996
- 1996-05-30 KR KR1019960018709A patent/KR100200233B1/ko not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR100200233B1 (ko) | 1999-06-15 |
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