KR970077434A - 콘트롤러, 스테이지 시스템과 주사형 노광 시스템 및 이동체의 위치 결정 방법 - Google Patents

콘트롤러, 스테이지 시스템과 주사형 노광 시스템 및 이동체의 위치 결정 방법 Download PDF

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Abstract

작은 오차 차단을 가지는 측정 위치 신호에 반응하는 콘트롤러 변환 함수에 있어서 연속적 단조 감소 함수에 따라 가변 파라미터를 연속적으로 갱신 함으로써 고정밀 위치선정 시스템용 콘트롤러의 수행 성능이 향상된다. 콘트롤러의 오차 수렴, 노이즈 및 안정성이 일정 파라미터 콘트롤러보다 향상된다. 가변 파라미터는 또한, 상기 콘트롤러에 의해 구동되며 위치가 조절되고 있는 기계시스템을 구동하는 증폭기와 포화(saturation)을 방지하기 위해 적당히 조절될 수 있다.

Description

콘트롤러, 스테이지 시스템과 주사형 노광 시스템 및 이동체의 위치 결정 방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 종래 기술에서 알려지고 본 발명이 적용될 수 있는 형식의 주사형 노광장치를 보여준다.

Claims (26)

  1. 이동체의 요구되는 위치를 수신하는 입력부; 상기 입력부에 접속되며, 상기 이동체의 현재 위치와 상기 이동체의 요구되는 위치 사이의 오차치에 반응하여 변화하는 파라미터의 함수에 따라 상기 이동체의 이동 위치를 결정하는 제어부; 상기 제어부로부터 상기 이동체의 이동 위치를 표시하는 신호가 공급되는 출력부;로 이루어지는 것을 특징으로 하는 이동체의 위치를 검출함으로서 상기 이동체를 위치 결정하는 콘트롤러.
  2. 제1항에 있어서, 상기 제어부는 상기 오차값이 소정의 차단값(cutdff value)보다 작은 곳에서는 파라미터 값으로 정수를 선택하고, 상기 오차값이 상기 차단값을 초과하는 곳에서는 상기 파라미터 값으로 상기 오차값의 단조 감소함수를 선택하는 것을 특징으로 하는 콘트롤러.
  3. 제1항에 있어서, 상기 파리미터가 α1으로 지정되고 -1α0인 α에 대하여, 상기 오차값의 절대값이 상기 차단값보다 큰 경우에는 α1이 오차 절대값의 α승에 비례하고, 상기 오차값의 절대값이 상기 차단값보다 작거나 같은 경우에는 a1이 차단값 절대값의 a승에 비례하는 것을 특징으로 하는 콘트롤러.
  4. 제1항에 있어서, s는 라플라스 변환 복소 연산자, α1은 상기 파라미터이며, a2, b2 및 k는 정수인 경우, 상기 함수는 라플라스 변환식 G(s) = k×(s+a1)(s+a2)/(s×(s+b2))인 것을 특징으로 하는 콘트롤러.
  5. 제4항에 있어서, 상기 라플라스 변환식에서 k는 게인(gain)이며, 상기 함수는 두 개의 실수 영점, 원점에서의 제1단극 및 제2실수 음의 단극을 가지는 것을 특징으로 하는 콘트롤러.
  6. 제5항에 있어서, 상기 제2실수 음의 단극은 상기 실수 음의 영점의 좌측에 위치하는 것을 특징으로 하는 콘트롤러.
  7. 제5항에 있어서, 상기 실수 영점중 제1이 영점이 상기 파라미터에 대응되고 상기 제1의 영점을 증가하는 오차값에 대해서 단조 감소하는 연속적인 가변치를 가지는 것을 특징으로 하는 콘트롤러.
  8. 제7항에 있어서, 오차값이 상기 차단값 이하인 경우에 상기 제1실수 영점의 위치가 최대값에 제한되는 것을 특징으로 하는 콘트롤러.
  9. 제1항에 있어서, 상기 파라미터는 연속적으로 변화하는 것을 특징으로 하는 콘트롤러.
  10. 제1항에 있어서, 상기 파라미터는 이산적으로 변화하는 것을 특징으로 하는 콘트롤러.
  11. 제1항에 있어서, 상기 변수값이 데이타 테이블에 보존되는 것을 특징으로 하는 콘트롤러.
  12. 상기 이동체의 현재 위치를 검출하는 단계; 상기 이동체의 예정된 위치를 나타내는 단계; 상기 현재위치 및 상기 예정 위치 사이의 차이인 오차값을 구하는 단계; 상기 오차값에 대응하는 가변 파라미터의 값을 선택하며, 상기 가변 파라미터의 갑이 상기 오차값의 변수 함수가 되게 하는 단계; 및 상기 선택된 가변 파라미터 값의 함수인 위치로 이동체를 이동하는 단계;로 이루어지는 것을 특징으로 하는 이동체 위치 결정 방법.
  13. 제12항에 있어서, 상기 가변 파라미터값 선택 단계는 상기 오차값이 소정의 차단값(cutdff value)보다 작은 곳에서는 상기 가변 파라미터 값으로 정수를 선택하고, 상기 오차값이 상기 차단값을 초과하는 곳에서는 상기 가변 파라미터 값으로 상기 오차값의 단조 감소 함수를 선택하는 단계임을 특징으로 하는 이동체 위치 결정 방법.
  14. 제12항에 있어서, 상기 가변 파리미터가 α1으로 지정되고 -1α0인 α에 대하여, 상기 오차값의 절대값이 상기 차단값보다 큰 경우에는 α1이 오차 절대값의 α승에 비례하고, 상기 오차값의 절대값이 상기 차단값보다 작거나 같은 경우에는 α1이 차단값 절대값의 α승에 비례하는 것을 특징으로 하는 이동체 위치 결정 방법.
  15. 제12항에 있어서, s는 라플라스 변환식의 복소 연산자, a1은 상기 가변 파라미터이며, a2, b2 및 k는 정수인 경우, 상기 함수는 라플라스 변환 G(s) = k×(s+a1)(s+a2)/(s×(s+b2))인 것을 특징으로 하는 이동체 위치 결정 방법.
  16. 제15항에 있어서, 상기 라를라스 변환식에서 k는 게인(gain)이며, 상기 함수는 두개의 실수 영점, 원점에서의 제1단극 및 제2실수 음의 단극을 가지는 것을 특징으로 하는 이동체 위치 결정 방법.
  17. 제16항에 있어서, 상기 제2실수 음의 단극은 상수 실수 음의 영점의 왼쪽에 위치하는 것을 특징으로 하는 콘트롤러.
  18. 제16항에 있어서, 상기 실수 영점중 제1의 영점이 상기 파라미터에 대응되고 상기 제1의 영점은 중가하는 오차값에 대해서 단조 감소하는 연속적인 가변치를 가지는 것을 특징으로 하는 이동체 위치 결정 방법.
  19. 제18항에 있어서, 상기 오차값이 상기 차단값 이하인 경우에 상기 제1실수 영점의 위치가 최대값에 제한되는 것을 특징으로 하는 이동체 위치 결정 방법.
  20. 제12항에 있어서 상기 가변 파라미터 값은 연속적으로 변화하는 것을 특징으로 하는 이동체 위치 결정방법.
  21. 제12항에 있어서, 상기 가변 파라미터 값은 이산적으로 변화하는 것을 특징으로 하는이동체 위치 결정 방법.
  22. 제12항에 있어서, 테이블에 보존되어 있는 상기 가변 파라미터 값을 참조하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 이동체 위치 결정 방법.
  23. 제1가동(可動) 스테이지; 제2가동 스테이지; 상기 제1 및 제2가동 스테이지에 접속되어 상기 콘트롤러로 부터의 단일의 입력 신호로 상기 제1 및 제2가동 스테이지를 구동하는 구동 콘트롤러; 상기 제1스테이지 상에 탑재되는 제3미동 스테이지; 상기 제1, 제2 및 제3스테이지의 각각에 관련되어, 각각의 스테이지 위치를 검출하고 각스테이지 위치를 표시하는 위치 신호를 제공하는 위치 센서; 및 각 스테이지의 상기 위치를 표시하는 상기 위치 신호를 수신하고, 상기 제3미동 스테이지의 위치를 표시하는 신호의 현재값 및 상기 제3미동 스테이지 위치에 요구되는 위치 사이의 오차값에 반응하여 연속적으로 변화하는 파라미터의 함수에 따라 상기 제어 신호를 공급하여, 상기 제1스테이지 및 제2스테이지의 이동을 동기(同期)화 하도록 연결된 콘트롤러;로 이루어지는 것을 특징으로 하는 스테이지 시스템.
  24. 미스크(mask)를 지지하고 이동하는 레티클 스테이지; 상기 마스크를 통해 광속(光束)을 감광 기판(基板)상에 투영하는 투영 광학계; 상기 감광 기판을 지지하고 이동하는 기판 스테이지; 상기 레티클 스테이지 및 기판 스테이지에 접속되어 상기 레티클 스테이지 및 상기 기판 스테이지를 구동하고 동기(동기)화하는 구동회로; 상기 레티클 스테이지 및 기판 스테이지의 현재 위치를 탐지하는 탐지 시스템; 상기 레티클 스테이지 및 기판 스테이지의 요구되는 위치와 각 스테이지의 현재 위치 사이의 오차를 탐지하는 오차 탐지 회로; 및 상기 탐지된 오차에 따라 변화하는 파라미터를 포함하는 함수에 의해 상기 구동 회로를 제어하는 콘트롤러;로 이루어지는 것을 특징으로 하는 주사형(走査型) 노광 시스템.
  25. 제24항에 있어서, 상기 콘트롤로는 상기 오차에 따라 변화하는 상기 파라미터를 포함하는 상기 함수를 보존하며, 상기 파라미터가 데이타 테이블에 보존되는 것을 특징으로 하는 주사형 고광 시스템.
  26. 제24항에 있어서, 상기 레티클 스테이지가 제1레티클 스테이지 및 상기 마스크를 미동(微動)시키기 위해 제1레티클 스테이지상에 배치되는 제2레티클 스테이지를 포함하는 것을 특징으로 하는 주사형 노광 시스템.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019970018741A 1996-05-17 1997-05-15 콘트롤러, 스테이지 시스템과 주사형 노광 시스템 및 이동체의 위치 결정 방법 KR970077434A (ko)

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