JPS5983165A - 照明光源装置 - Google Patents
照明光源装置Info
- Publication number
- JPS5983165A JPS5983165A JP57192403A JP19240382A JPS5983165A JP S5983165 A JPS5983165 A JP S5983165A JP 57192403 A JP57192403 A JP 57192403A JP 19240382 A JP19240382 A JP 19240382A JP S5983165 A JPS5983165 A JP S5983165A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light source
- motor
- illumination
- intensity
- illuminance
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
- G03B27/00—Photographic printing apparatus
- G03B27/72—Controlling or varying light intensity, spectral composition, or exposure time in photographic printing apparatus
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Control Of Exposure In Printing And Copying (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、″Ｐ４体製造工程に用いられるホトレジスト
露光用照明光源装置に係シ、特に照度むらを１動的に情
、正するのに好適な照明光源装置に関する。
露光用照明光源装置に係シ、特に照度むらを１動的に情
、正するのに好適な照明光源装置に関する。
従来の照明光源装置は、第１図のように支持台１によシ
固定された光源２からの光を、楕円面鏡３で集光し、コ
ンデンサレンズ４で収束したのち、ホトマスクまたは、
レティクル５を照明する光学系から構成され、ホトマス
クまたはレティクル５上では、第２図（Ａ）のような照
度分布が得られる。この分布の有効領域’ｚＸ−Ｙ方向
で測定した各点の照度分布を第２図（Ｂ）に示す。いま
、この各点の最大値全ＩｍａＸ、最小１直をｌｍ１ｎ
ｓ平均値をＩａｖｅとすると、照度むらΔ１は次式によ
り求まる。
固定された光源２からの光を、楕円面鏡３で集光し、コ
ンデンサレンズ４で収束したのち、ホトマスクまたは、
レティクル５を照明する光学系から構成され、ホトマス
クまたはレティクル５上では、第２図（Ａ）のような照
度分布が得られる。この分布の有効領域’ｚＸ−Ｙ方向
で測定した各点の照度分布を第２図（Ｂ）に示す。いま
、この各点の最大値全ＩｍａＸ、最小１直をｌｍ１ｎ
ｓ平均値をＩａｖｅとすると、照度むらΔ１は次式によ
り求まる。
照明むらΔＩは、プロセス上の寸法精度等からある一定
値以内になければならないが、光源の交換あるいは劣化
によシ、照度分布が変化し、一様な分布が得られなくな
る場合があった。そのため光源の支持台を、一定期間毎
または、光源の交換時に、手動にて、Ｘ−Ｙ−Ｚ方向に
移動させ、光源の位置調整を行なわなければならず、そ
の調整に多大の時間を必要とした。
値以内になければならないが、光源の交換あるいは劣化
によシ、照度分布が変化し、一様な分布が得られなくな
る場合があった。そのため光源の支持台を、一定期間毎
または、光源の交換時に、手動にて、Ｘ−Ｙ−Ｚ方向に
移動させ、光源の位置調整を行なわなければならず、そ
の調整に多大の時間を必要とした。
本発明の目的は、前記のような従来の欠点を解消すべく
なされたもので、自動的に照度むらを補正することので
きる照明光源装置を提供することにある。
なされたもので、自動的に照度むらを補正することので
きる照明光源装置を提供することにある。
すなわち、光源の位置をＸ −Ｙ −Ｚ方向に駆動する
駆動機構を設け、ホトマスクまたはレティクル上に光電
検知器を複数個設置し、各点の照度を同時に検出すると
共に、それぞれの検知器出力の差を求めて、差が最小に
なるように、光源の位置をＸ−Ｙ−Ｚ方向のモータを駆
動せしめることによシ、自動的に照度分布の補正を行な
うことができるようにしたものである。
駆動機構を設け、ホトマスクまたはレティクル上に光電
検知器を複数個設置し、各点の照度を同時に検出すると
共に、それぞれの検知器出力の差を求めて、差が最小に
なるように、光源の位置をＸ−Ｙ−Ｚ方向のモータを駆
動せしめることによシ、自動的に照度分布の補正を行な
うことができるようにしたものである。
次に、本発明の具体的な実施例について、第３図及び第
４図を用いて説明する。
４図を用いて説明する。
第３図において、光源２は支持台１によυ保持され、支
持台１はＸまたはＹ方向の駆動モータｌＯによシ、微小
移動が可能な機構となっている。
持台１はＸまたはＹ方向の駆動モータｌＯによシ、微小
移動が可能な機構となっている。
光源２からの光は、楕円面鏡３によって集光され、コン
デンサレンズ４によって収束光束となシ、第４図の“よ
うに配置された、複数個の□センサーから構成される光
電検知器５を照明し、同時に各点の照度を検出する。
デンサレンズ４によって収束光束となシ、第４図の“よ
うに配置された、複数個の□センサーから構成される光
電検知器５を照明し、同時に各点の照度を検出する。
光電検出された照度信号は、プリアンプ回路６及び７に
よって増幅されたのち、差動増幅器８に入力され、Ｘ方
向またはＹ方向のセンサー用力間で差演算が実行される
。差出力信号はモータドライブ回路９によυ、モータ駆
Ｓ電圧となり、ＸまたはＹ方向のモータ１０を駆動する
。センサー間の差出力がある一定電圧以内になった時、
モータは停止する。
よって増幅されたのち、差動増幅器８に入力され、Ｘ方
向またはＹ方向のセンサー用力間で差演算が実行される
。差出力信号はモータドライブ回路９によυ、モータ駆
Ｓ電圧となり、ＸまたはＹ方向のモータ１０を駆動する
。センサー間の差出力がある一定電圧以内になった時、
モータは停止する。
この光源位置自動補正回路において、複数個のセンサー
出力は、同一照度においてプリアンプ６及び７のゲイン
調整によシ同−信号出力に前もって補正されているもの
とする。
出力は、同一照度においてプリアンプ６及び７のゲイン
調整によシ同−信号出力に前もって補正されているもの
とする。
本発明の一実施例によれば、複数個の光電検出器の出力
を同時に検出することによυ、照度むらを検出し、自動
的に照度むらをある一定値以内に補正することが可能と
なる。
を同時に検出することによυ、照度むらを検出し、自動
的に照度むらをある一定値以内に補正することが可能と
なる。
第５図は、本発明の他の実施例を示すもので、第３図と
異なるのは、レティクル又はホトマスクを透過した光を
、縮小レンズ１１により、さらに集光せしめ、ウェハ露
光位置で直接、光電検出することにより、ウエノ・面の
照度分布を検出し、補正することを可能ならしめたもの
である。この実施例では、さらに縮小レンズに起因する
照度分布の補正も同時に行なえることとし、ノ（ターン
が縮小されているため、小型な検知器群によシ照度分布
を測定することができる。又、Ｘ−Ｙス°テージの移動
によシ、同一点でのセンサーの自動キャリブレーション
及び、連続的な、照度変化の測定等も可能となる。
異なるのは、レティクル又はホトマスクを透過した光を
、縮小レンズ１１により、さらに集光せしめ、ウェハ露
光位置で直接、光電検出することにより、ウエノ・面の
照度分布を検出し、補正することを可能ならしめたもの
である。この実施例では、さらに縮小レンズに起因する
照度分布の補正も同時に行なえることとし、ノ（ターン
が縮小されているため、小型な検知器群によシ照度分布
を測定することができる。又、Ｘ−Ｙス°テージの移動
によシ、同一点でのセンサーの自動キャリブレーション
及び、連続的な、照度変化の測定等も可能となる。
又、各センサーの出力値の平均値を求めるか、中央部の
センサーの出力を用いて、Ｚ方向の光源移動を行ない、
最大照度を得るようにすることも本発明の応用例として
可能である。
センサーの出力を用いて、Ｚ方向の光源移動を行ない、
最大照度を得るようにすることも本発明の応用例として
可能である。
第１図は従来の露光用照明光源装置の構成図、第２図（
Ａ）は照明物体上の照度の強度分布図、第２図（Ｂ）は
Ｘ−Ｙ平面上での照度分布図、第３図は本発明による照
度分布自動補正方式による一実施例の構成図、第４図は
縮小レンズを介してクエハ上で直接照度分布測定し、自
動補正を行なう場合の実施例を示す表示図、第５図は他
の実施例の構成図である。 ■・・・支持台、２・・・光源、３・・・楕円面鏡、４
・・・コンデンサレンズ、５・・・ホトマスク又はレテ
ィクル又は光電検知器、６・・・プリアンプ１．７・・
・プリアンプ２．８・・・差動増幅器、９・・・モータ
ドライブ回路、１０・・・駆動モータ、１１・・・縮小
レンズ。 第１図 第２図 （Ａ） ＜Ｂ）第３図 第を図
Ａ）は照明物体上の照度の強度分布図、第２図（Ｂ）は
Ｘ−Ｙ平面上での照度分布図、第３図は本発明による照
度分布自動補正方式による一実施例の構成図、第４図は
縮小レンズを介してクエハ上で直接照度分布測定し、自
動補正を行なう場合の実施例を示す表示図、第５図は他
の実施例の構成図である。 ■・・・支持台、２・・・光源、３・・・楕円面鏡、４
・・・コンデンサレンズ、５・・・ホトマスク又はレテ
ィクル又は光電検知器、６・・・プリアンプ１．７・・
・プリアンプ２．８・・・差動増幅器、９・・・モータ
ドライブ回路、１０・・・駆動モータ、１１・・・縮小
レンズ。 第１図 第２図 （Ａ） ＜Ｂ）第３図 第を図
Claims (1)
- １、光源と、該光源からの光電ミラー又はレンズにより
集光し、レティクル原画面又はウェハ等の被照明物体の
一定面積を均一な照度で照明する露光用照明光源装置に
おいて、光源の位置を移動させる駆動機構を有すると共
に、被照明物体上に光電検出器を複数個設置し、各点の
照度を同時検出し、その出力信号の差が最小になるよう
に光源の位置を移動せしめることによシ、被照明物体上
の照度むら全自動的に補正することを特徴とする照明光
源装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57192403A JPS5983165A (ja) | 1982-11-04 | 1982-11-04 | 照明光源装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57192403A JPS5983165A (ja) | 1982-11-04 | 1982-11-04 | 照明光源装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5983165A true JPS5983165A (ja) | 1984-05-14 |
Family
ID=16290731
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57192403A Pending JPS5983165A (ja) | 1982-11-04 | 1982-11-04 | 照明光源装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5983165A (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1992003842A1 (en) * | 1990-08-21 | 1992-03-05 | Nikon Corporation | Method and device for optical exposure |
| JPH07192995A (ja) * | 1993-12-27 | 1995-07-28 | Nec Corp | 露光装置 |
| US5638211A (en) * | 1990-08-21 | 1997-06-10 | Nikon Corporation | Method and apparatus for increasing the resolution power of projection lithography exposure system |
| FR2831966A1 (fr) * | 2001-11-06 | 2003-05-09 | Louis Vervoort | Appareil de photolithographie incorporant un dispositif de deplacement actionne par un element piezoelectrique et procede de photolithographie comprenant un deplacement de regions exposees |
| US6665050B2 (en) | 1990-11-15 | 2003-12-16 | Nikon Corporation | Projection exposure methods using difracted light with increased intensity portions spaced from the optical axis |
| US6704090B2 (en) | 2000-05-11 | 2004-03-09 | Nikon Corporation | Exposure method and exposure apparatus |
| US6710854B2 (en) | 1991-09-11 | 2004-03-23 | Nikon Corporation | Projection exposure apparatus |
| US6710855B2 (en) | 1990-11-15 | 2004-03-23 | Nikon Corporation | Projection exposure apparatus and method |
| US6771350B2 (en) | 2000-02-25 | 2004-08-03 | Nikon Corporation | Exposure apparatus and exposure method capable of controlling illumination distribution |
| US7656504B1 (en) | 1990-08-21 | 2010-02-02 | Nikon Corporation | Projection exposure apparatus with luminous flux distribution |
-
1982
- 1982-11-04 JP JP57192403A patent/JPS5983165A/ja active Pending
Cited By (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6636293B1 (en) | 1990-08-21 | 2003-10-21 | Nikon Corporation | Exposure method and apparatus having a decreased light intensity distribution |
| WO1992003842A1 (en) * | 1990-08-21 | 1992-03-05 | Nikon Corporation | Method and device for optical exposure |
| US5638211A (en) * | 1990-08-21 | 1997-06-10 | Nikon Corporation | Method and apparatus for increasing the resolution power of projection lithography exposure system |
| EP0496891B1 (en) * | 1990-08-21 | 2000-04-12 | Nikon Corporation | Method and device for optical exposure |
| US6233041B1 (en) | 1990-08-21 | 2001-05-15 | Nikon Corporation | Exposure method utilizing diffracted light having different orders of diffraction |
| US7656504B1 (en) | 1990-08-21 | 2010-02-02 | Nikon Corporation | Projection exposure apparatus with luminous flux distribution |
| US6710855B2 (en) | 1990-11-15 | 2004-03-23 | Nikon Corporation | Projection exposure apparatus and method |
| US6665050B2 (en) | 1990-11-15 | 2003-12-16 | Nikon Corporation | Projection exposure methods using difracted light with increased intensity portions spaced from the optical axis |
| US6710854B2 (en) | 1991-09-11 | 2004-03-23 | Nikon Corporation | Projection exposure apparatus |
| US6864959B2 (en) | 1991-09-11 | 2005-03-08 | Nikon Corporation | Projection exposure apparatus |
| JPH07192995A (ja) * | 1993-12-27 | 1995-07-28 | Nec Corp | 露光装置 |
| US6771350B2 (en) | 2000-02-25 | 2004-08-03 | Nikon Corporation | Exposure apparatus and exposure method capable of controlling illumination distribution |
| US6927836B2 (en) | 2000-02-25 | 2005-08-09 | Nikon Corporation | Exposure apparatus and exposure method capable of controlling illumination distribution |
| US6704090B2 (en) | 2000-05-11 | 2004-03-09 | Nikon Corporation | Exposure method and exposure apparatus |
| FR2831966A1 (fr) * | 2001-11-06 | 2003-05-09 | Louis Vervoort | Appareil de photolithographie incorporant un dispositif de deplacement actionne par un element piezoelectrique et procede de photolithographie comprenant un deplacement de regions exposees |
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