KR970052079A - 반도체소자 제조용 액체소스 공급장치 - Google Patents

Abstract

본 발명은 소스가스를 공급하는 공정에서 발생하는 응집현상을 이용하여 균일하고 조밀한 막질을 갖는 반도체 소자의 박막을 형성할 수 있는 반도체소자 제조용 액체소스 공급장치에 관한 것으로, 반도체소자 제조공정중 박막을 형성하기 위한 액체소스를 기화부에 의해 기화시키고 이 기화된 소스가 질소 가스에 의하여 공정챔버로 운송되는 액체소스 공급장치에 있어서, 가스흡입구가 기화기의 배구구에 연결되고 가스배기구가 순환장치의 흡입구에 연결되어 기화된 가스를 응집시키는 응집장치와, 상기 기화부의 배기구와 상기 응집장치의 흡입구에 연결되어 상기 응집장치에 응집된 가스를 기화시켜서 공정챔버까지 공급시키는 제2운송가스공급장치와, 가스흡입구가 상기 응집장치의 배기구와 연결되고 배기구가 상기 기화부의 흡입구에 연결되어 상기 응집공정에 참여한 잔류가스를 반복적으로 순환시키는 순환장치와, 가스흡입구가 상기 응집장치의 배기구와 연결되고 가스배기구가 제1배출구에 연결되어 운송가스는 배출시키고 반응가스는 액상상태로 만드는 저온냉각장치를 포함하고 있다. 이러한 구성에 의해서, 균일하고 조밀한 반도체소자의 박막을 형성할 수 있고, 한편으로 소스가스의 사용량을 줄일수 있기 때문에 반도체소자 제조 경비를 절감할 수 있다.

Description

반도체소자 제조용 액체소스 공급장치

본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

제2도는 본 발명의 실시예에 따른 반도체소자 제조용 액체소스 공급장치의 구성을 보여주고 있는 도면.

Claims (4)

1. 반도체소자 제조공정중 박막을 형성하기 위한 액체소스를 기화부에 의해 기화시키고 이 기화된 소스가 질소 가스에 의하여 공정챔버로 운송되는 반도체소자 제조용 액체소스 공급장치에 있어서, 가스흡입구가 기화부(30)의 배기구에 연결되고 가스배기구가 순환장치(50)의 흡입구에 연결되어 기화된 가스를 응집시키는 응집장치(40)와, 상기 기화부(30)의 배기구와 상기 응집장치(40)의 흡입구에 연결되어 상기 응집장치(40)에 응집된 가스를 기화시켜서 공정챔버(80)까지 공급시키는 제2운송가스공급장치(70)와, 가스흡입구가 상기 응집장치(40)의 배기구와 연결되고 배기구가 상기 기화부(30)의 흡입구에 연결되어 상기 응집공정에 참여한 잔류가스를 반복적으로 순환시키는 순환장치(50)와, 가스흡입구와 상기 응집장치(40)의 배기구와 연결되고 가스배기구가 제1배출구(62)에 연결되어 운송가스는 배출시키고 반응가스는 액상상태로 만드는 저온냉각장치(60)를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체소자 제조용 액체가스 공급장치.
2. 제1항에 있어서, 상기 응집장치(40)는 하나 또는 두개 이상의 다수개로 사용되는 것을 특징으로 하는 반도체소자 제조용 액체가스 공급장치.
3. 제1항에 있어서, 상기 응집장치(40)는 가스이송라인은 적어도 두개 이상으로 구성되는 것을 특징으로 하는 반도체소자 제조용 액체가스 공급장치.
4. 제1항에 있어서, 응집장치(40)의 온도는 상기 기화부(30)의 기화온도에 비해 상대적으로 낮은 온도범위를 갖는 것을 특징으로 하는 반도체소자 제조용 액체가스 공급장치.

   ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.