KR970049015A - 화학 증폭형 레지스트용 베이스 수지 - Google Patents

화학 증폭형 레지스트용 베이스 수지 Download PDF

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최상준
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김광호
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  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)

Abstract

본 발명에는 하기 구조식 (I)로 표시되는 화학 증폭형 레지스트용 베이스 수지가 개시되어 있다.
여기에서, R은 수소, 메틸, 에틸, 이소-프로필, n-부틸, t-부틸, 펜틸, 헥실기 또는 페닐기이고, n은 30-1000의 정수이다.

Description

화학 증폭형 레지스트용 베이스 수지
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (1)

  1. 하기 구조식(I)로 표시되는 화학 증폭형 레지스트용 베이스 수지.
    여기에서, R은 수소, 메틸, 에틸, 이소-프로필, n-부틸, t-부틸, 펜틸, 헥실기 또는 페닐기이고, n은 30-1000의 정수이다.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019950057011A 1995-12-26 1995-12-26 화학 증폭형 레지스트용 베이스 수지 KR970049015A (ko)

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