KR970049015A - 화학 증폭형 레지스트용 베이스 수지 - Google Patents
화학 증폭형 레지스트용 베이스 수지 Download PDFInfo
- Publication number
- KR970049015A KR970049015A KR1019950057011A KR19950057011A KR970049015A KR 970049015 A KR970049015 A KR 970049015A KR 1019950057011 A KR1019950057011 A KR 1019950057011A KR 19950057011 A KR19950057011 A KR 19950057011A KR 970049015 A KR970049015 A KR 970049015A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- base resin
- chemically amplified
- butyl
- amplified resist
- pentyl
- Prior art date
Links
Landscapes
- Materials For Photolithography (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
본 발명에는 하기 구조식 (I)로 표시되는 화학 증폭형 레지스트용 베이스 수지가 개시되어 있다.
여기에서, R은 수소, 메틸, 에틸, 이소-프로필, n-부틸, t-부틸, 펜틸, 헥실기 또는 페닐기이고, n은 30-1000의 정수이다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
Claims (1)
- 하기 구조식(I)로 표시되는 화학 증폭형 레지스트용 베이스 수지.여기에서, R은 수소, 메틸, 에틸, 이소-프로필, n-부틸, t-부틸, 펜틸, 헥실기 또는 페닐기이고, n은 30-1000의 정수이다.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019950057011A KR970049015A (ko) | 1995-12-26 | 1995-12-26 | 화학 증폭형 레지스트용 베이스 수지 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019950057011A KR970049015A (ko) | 1995-12-26 | 1995-12-26 | 화학 증폭형 레지스트용 베이스 수지 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR970049015A true KR970049015A (ko) | 1997-07-29 |
Family
ID=66618260
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019950057011A KR970049015A (ko) | 1995-12-26 | 1995-12-26 | 화학 증폭형 레지스트용 베이스 수지 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR970049015A (ko) |
-
1995
- 1995-12-26 KR KR1019950057011A patent/KR970049015A/ko not_active Application Discontinuation
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR910010239A (ko) | 방사선 감응성 수지 조성물 | |
KR950019945A (ko) | 감방사선성 수지 조성물 | |
DOP2002000337A (es) | Inhibidores de metaloproteinasas de matriz basados en pirimidinas fusionadas | |
TR199701728T1 (xx) | Sialil-Lewis X ve sialil-Lewis A taklitleri olarak digikosilatlanm�� 1,-2-dioller. | |
KR960015082A (ko) | 화학증폭 포지티브형 레지스트 조성물 | |
KR920001243A (ko) | 포지티브 감 방사선성 레지스트 조성물 | |
AU2001262322A1 (en) | Aziridinosilicones and the use thereof | |
MY121402A (en) | Photosensitive polymer having cyclic backbone and resist composition comprising the same | |
KR970049015A (ko) | 화학 증폭형 레지스트용 베이스 수지 | |
KR920702685A (ko) | 4,6-o- 히드록시포스포릴글루코사민 유도체 | |
KR910006779A (ko) | 감방사선성 포지티브 레지스트 조성물 | |
KR910005860A (ko) | 항간질환성 조성물 | |
KR920001242A (ko) | 포지티브 레지스트 조성물 | |
PT1206448E (pt) | Novos analogos de vitamina d | |
EP0564997A3 (en) | Positive photoresist composition | |
KR910018372A (ko) | 에테르 결합을 갖는 페닐시클로헥실디옥산 유도체 | |
KR920008143A (ko) | 열경화성 수지 조성물 | |
DE59606435D1 (de) | 17-difluormethylen-estratriene | |
KR890014572A (ko) | 시알로실 글리세리드 및 그의 제조방법 | |
KR920006806A (ko) | 전자사진용 자성토너 | |
KR970022545A (ko) | 화학증폭형 레지스트용 용해 억제물질 | |
KR960029906A (ko) | 레지스트 재료 | |
KR920007530A (ko) | 제초제 조성물 | |
KR970049014A (ko) | 화학증폭형 레지스트용 베이스 수지 | |
KR900003201A (ko) | 펩티드 및 항치매제 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
WITN | Withdrawal due to no request for examination |