KR970023789A - 석영히터 모니터링 시스템을 구비한 웨트 스테이션 장치 - Google Patents

석영히터 모니터링 시스템을 구비한 웨트 스테이션 장치 Download PDF

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Abstract

반도체 웨이퍼의 세정 또는 습식식각 작업에 사용되는 웨트 스테이션 장치가 개시되었다. 본 발명은 화학약품을 담는 약액조, 상기 화학약품의 온도를 감지하는 온도감지수단, 상기 온도감지수단으로부터 감지된 온도를 소정의 설정된 기준 온도와 비교하여 그 결과를 제어신호로 출력하는 온도제어수단, 상기 화학약품을 가열하는 석영히터, 상기 제어신호를 제공받아 상기 석영히터로 인가되는 전원공급량을 조절하는 전원공급제어수단 및 상기 전원공급제어수단에 연결되어 외부로부터 입력되는 가열시발신호를 입력신호로하여 전원의 개폐역할을 하는 인가전원 개폐기를 구비한 웨트 스테이션 장치에 있어서, 상기 석영히터 및 전원공급제어수단의 동작상태를 판단하여 사용자에게 알려주는 히터 모니터 링 시스템을 더 구비한 것을 특징으로 하는 웨트 스테이션 장치를 제공한다. 본 발명에 의하면 공정 진행속도를 증가시킬 수 있을 뿐만 아니라 대형 공정 사고를 방지할 수 있다.

Description

석영히터 모니터링 시스템을 구비한 웨트 스테이션 장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제3도는 본 발명의 석영히터 모니터 링 시스템을 구비한 웨트 스테이션 장치를 도시한 개략도이다.

Claims (4)

  1. 화학약품을 담는 약액조, 상기 화학약품의 온도를 감지하는 온도감지수단, 상기 온도감지수단으로부터 감지된 온도를 소정의 설정된 기준 온도와 비교하여 그결과를 제어신호로 출력하는 온도제어수단, 상기 화학약품을 가열하는 석영히터, 상기 제어신호를 제공받아 상기 석영히터로 인가되는 전원공급량을 조절하는 전원공급제어수단 및 상기 전원공급제어수단에 연결되어 외부로부터 입력되는 가열시발신호를 입력신호로하여 전원의 개폐역할을 하는 인가전원 개폐기를 구비한 웨트 스테이션 장치에 있어서, 상기 석영히터 및 전원공급제어수단의 동작상태를 판단하여 사용자에게 알려주는 히터 모니터 링 시스템을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 웨트 스테이션 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 히터 모니터링 시스템은 상기 온도제어수단에서 출력되는 제어신호를 제공받아, 이 제어신호를 판단하여 현재 상기 석영히터로 전원을 더 인가하라는 제1신호 또는 전원의 인가를 감소시키라는 제2신호를 선택적으로 출력하는 제1비교/판단수단; 상기 석영히터와 상기 인가전원개폐기 사이에 설치되어 상기 석영히터에 흐르는 전류의 변화량을 전압으로 변환시켜주는 전류/전압 변환기; 상기 전류/전압 변환기에서 제공되는 전압신호를 소정의 기준치와 비교하여 상기 석영히터에 흐르는 전류의 변화량이 상기 소정치 기준치에 대응하는 전류의 변화량보다 작으면 제3신호를 출력하고, 상기 소정의 기준치에 대응하는 전류의 변화량보다 크면 제4신호를 출력하는 제2비교/판단수단; 상기 제1비교/판단수단의 및 제2비교/판단수단의 출력신호를 입력신호로하여 상기 석영히터 및 전원공급제어수단의 동작상태를 판단하는 제3비교/판단수단; 및 상기 제3비교/판단수단에서 석영히터 및 전원공급제어수단의 동작상태가 이상이 있다고 판단하였을 때 이를 사용자에게 알려주는 알림수단을 구비하는 것을 특징으로 하는 웨트 스테이션 장치.
  3. 제2항에 있어서, 상기 제3비교/판단수단은 제1비교/판단수단이 제1신호를 나타내고 상기의 제2비교/판단수단이 제3신호를 나타내는 경우 또는 상기의 제1비교/판단수단이 제2신호를 출력하고 상기의 제2비교/판단수단이 제4신호를 출력하는 경우는 정상상태를 나타내는 제5신호, 상기의 제1비교/판단수단이 제1신호를 출력하고 상기의 제2비교/판단이 제4신호를 출력하는 경우는 상기 석영히터에 이상이 있는 상태를 나타내는 제6신호, 상기의 제1비교/판단수단이 제2신호를 출력하고 상기의 제2비교/판단수단이 제3신호를 출력하는 경우는 상기 전원공급제어수단에 이상이 있는 상태를 나타내는 제7신호를 각각 나타내는 제1비교분석기 ; 상기 석영히터 및 전원공급제어수단에 이상이 있다고 판단하였을때 상기 가열시발신호가 차단하여 전원공급을 중단하도록 하는 신호차단기 ; 상기 가열시발신호가 차단되었을 경우에는 상기의 제1감지수단 및 제2감지수단에서 제공되는 신호에 관계없이 석영히터 및 전원공급제어수단의 동작상태에 이상이 없다고 판단하는 제2비교분석기를 포함하는 것을 특징으로 하는 웨트 스테이션 장치.
  4. 제2항에 있어서, 상기 알림 수단은 알람을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 웨트 스테이션 장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5000842B2 (ja) * 2001-03-02 2012-08-15 東京エレクトロン株式会社 サセプタの駆動温度制御のための方法並びに装置
US6868230B2 (en) * 2002-11-15 2005-03-15 Engineered Glass Products Llc Vacuum insulated quartz tube heater assembly
KR100665849B1 (ko) * 2005-04-20 2007-01-09 삼성전자주식회사 히터 과열방지장치
KR101238664B1 (ko) * 2010-12-06 2013-03-04 한국세라믹기술원 석영관 히터의 신뢰성 평가 방법
CN113126669A (zh) * 2021-04-20 2021-07-16 西安热工研究院有限公司 一种用于化学清洗试验装置的温控保护系统及工作方法

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US32497A (en) * 1861-06-04 Speed
US4350553A (en) * 1981-07-27 1982-09-21 Mendes Paul V Acid bath apparatus
US5635827A (en) * 1994-11-18 1997-06-03 Watlow Electric Manufacturing Company Power control system

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