KR970021375A - 알루미늄 함유 금속재료를 표면처리하기 위한 중합체 화합물 조성물 및 방법 - Google Patents

알루미늄 함유 금속재료를 표면처리하기 위한 중합체 화합물 조성물 및 방법 Download PDF

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Abstract

알루미늄 함유 금속재료, 예를들면, DI 캔은 고내식성, 도료 밀착성 및 미끄럼성을 갖는 수지 피막층으로 표면 도장되며, 그것은 금속재료표면에 적용되는 수용액으로부터 형성되며(a) 인산이온, (b) 축합인산이온, (c) 산화제 및 (d) 식(I)의 다수의 중합 단위를 가지며 2 내지 50의 평균 중합도를 갖는 수용성 중합체 화합물을 포함하며(a):(b):(c):(d)의 중량비는 0.1 내지 30:01 내지 10:0.1 내지 20이다.
상기식에서 X1, X2는, C1-5알킬 또는 C1-5히드록시알킬이며, Y1, Y2는 H 또는-CH2-NR1R2또는 -CH2-NR3R4R5인 치환기 Z이며, R1, R2, R3, R4및 R5는1-5알킬 또는 C1-10히드록시알킬이며, 중합 단위의 각 벤젠고리에 부착된 치환기 Z의 평균 수는 0.2-1.0이다.

Description

알루미늄 함유 금속재료를 표면처리하기 위한 중합체 화합물 조성물 및 방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (8)

  1. 성분으로서(a) 인산이온, (b) 축합인산이온, (c) 산화제, 및 (d) 다음 식(I)의 다수의 중합 단위 :
    〔상기 식에서 X1및 X2는 각각 상호 독립적으로 수소원자, 1 내지 5개의 탄소원자를 갖는 알킬기 및 1 내지 5개의 탄소원자를 갖는 히드록시알킬기로 구성된 군으로부터 선택되는 일원을 나타내며; Y1및 Y2는 각각 상호 독립적으로 수소원자 및 다음식(II) 및(III)으로 표시되는 치환기 Z로 구성된 군으로부터 선택되는 일원을 나타내며 :
    (식 중에서 R1, R2, R3, R4및 R5는 각각 상호 독립적으로 1 내지 10개의 탄소원자를 갖는 알킬기 및 1 내지 10개의 탄소원자를 갖는 히드록시알킬기로 구성된 군으로부터 선택되는 일원을 나타낸다). 중합 단위의 각 벤젠고리에 결합된 치환기 Z는 상호 동일하거나 상이할 수 있으며, 중합 단위의 각 벤젠고리에 결합된 치환기 Z의 수 평균치는 0.2내지 1.0이다〕로 이루어지는 적어도 하나의 수용성 중합체 화합물을 함유하며, 수용성 중합체 화합물(d)은 평균 중합도가 2내지 50이며, 인산이온(a), 축합인산이온(b), 산화제(c) 및 수용성 중합체 화합물(d)은 혼합 중량비(a) : (b) : (c) : (d)가 0.1 내지 30 : 0.1 내지 10:0.1 내지 10:0.1 내지 20으로 존재하는 것을 특징으로 하는 알루미늄 함유 금속재료를 표면처리하기 위한 수성 조성물.
  2. 제1항에 있어서, 산화제는 과산화수소, 아염소산염 및 아질산염으로부터 선택되는 적어도 하나의 일원으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 수성 조성물.
  3. 제1항에 있어서, 인산이온은 인산, 인산 알칼리 금속 및 인산 암모늄으로 구성된 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 일원으로부터 유도되는 것을 특징으로 하는 수성 조성물.
  4. 제1항에 있어서, 축합인산이온은 피로인산, 트리폴리인산, 헤트라폴리인산 및 상기 산의 알칼리 금속 및 암모늄 염으로 구성된 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 일원으로부터 유도되는 것을 특징으로 하는 수성 조성물.
  5. (A) 성분으로서(a) 인산이온 (b) 축합인산이온, (c) 산화제, 및 (d) 적어도 하나의 수용성 중합체 화합물을 포함하는, pH가 6.5이하인 표면처리 수용액을 35℃내지 65℃의 온도에서 1 내지 60초의 전체 접촉시간동안 알루미늄 함유 금속재료의 표면에 접촉시키는 단계, 상기 수용성 중합체 화합물(d)은 식(I)의 다수의 중합단위 :
    〔상기 식에서 X1및 X2는 각각 상호 독립적으로 수소원자, 1 내지 5개의 탄소원자를 갖는 알킬기 및 1 내지 5개의 탄소원자를 갖는 히드록시알킬기로 구성된 군으로부터 선택되는 일원을 나타내며; Y 및 Y는 각각 상호 독립적으로 수소원자 및 다음식(II) 및(III)으로 표시되는 치환기 Z로 구성된 군으로부터 선택되는 일원을 나타내며 :
    〔식 중에서 R1, R2, R3, R4및 R5는 각각 상호 독립적으로 1 내지 10개의 탄소원자를 갖는 알킬기 및 1 내지 10개의 탄소원자를 갖는 히드록시알킬기로 구성된 군으로부터 선택되는 일원을 나타낸다) 중합 단위의 각 벤젠고리에 결합된 치환기 Z는 상호 동일 하거나 상이할 수 있으며, 중합 단위의 각 벤젠고리에 결합된 치환기 Z와 수 평균치는 0.2 내지 1.0이다〕로 이루어지는 적어도 하나의 수용성 중합체 화합물을 함유하며, 수용성 중합체 화합물(d)은 평균 중합도가 2 내지 50이며, 인산이온(a), 축합인산이온(b), 산화제(c) 및 수용성 중합체 화합물(d)은 혼합 중량비(a) : (b) : (c) : (d)가 0.1 내지 30 : 0.1 내지 10 : 0.1 내지 10:.01 내지 20으로 존재하며, (B)알루미늄 함유 금속재료표면상의 생성된 수지 피막층을 물로 세척하는 단계; 및(C) 세척된 수지 피막층을 가열 건조시키는 단계로 구성되는 것을 특징으로 하는 알루미늄 금속재료를 표면처리하기 위한 방법.
  6. 제5항에 있어서, 표면처리액은 인산이온(a) 1 내지 30g/리터, 축합인산이온 (b) 0.1 내지 10g/리터, 산화제(c) 0.1 내지 10g/리터 및 수용성 중합체 화합물(d) 0.1 내지 20g/리터를 함유하며, pH가 2.0 내지 6.5인 것을 특징으로 하는 방법.
  7. 제5항에 있어서, 알루미늄 함유 금속재료를 표면처리액에 5 내지 60초동안 침지하는 것을 특징으로 하는 방법.
  8. 제5항에 있어서, 표면처리액을 1 내지 60초의 전체접촉시간 동안 알루미늄 함유 금속재료표면에 분무하는 것을 특징으로 하는 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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