KR970018333A - 웨이퍼 캐리어 - Google Patents

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KR970018333A
KR970018333A KR1019950031660A KR19950031660A KR970018333A KR 970018333 A KR970018333 A KR 970018333A KR 1019950031660 A KR1019950031660 A KR 1019950031660A KR 19950031660 A KR19950031660 A KR 19950031660A KR 970018333 A KR970018333 A KR 970018333A
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KR
South Korea
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wafer
wafer carrier
carrier
heating
attached
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KR1019950031660A
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김정엽
부재필
김민정
Original Assignee
김광호
삼성전자 주식회사
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Publication date
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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24—GRINDING; POLISHING
    • B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B49/00—Measuring or gauging equipment for controlling the feed movement of the grinding tool or work; Arrangements of indicating or measuring equipment, e.g. for indicating the start of the grinding operation
    • B24B49/14—Measuring or gauging equipment for controlling the feed movement of the grinding tool or work; Arrangements of indicating or measuring equipment, e.g. for indicating the start of the grinding operation taking regard of the temperature during grinding
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/68—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment

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Abstract

웨이퍼 캐리어에 대해 기재되어 있다. 이는 단차가 존재하는 구조물이 형성된 웨이퍼와, 상기 웨이퍼에 형성된 단차가 존재하는 구조물을 폴리싱할 때 상기 웨이퍼를 고정시킬 때 웨이퍼 캐리어를 구비하는 반도체장치에 있어서, 상기 웨이퍼의 국부적 온도를 조절하기 위해 상기 웨이퍼 캐리어에 가열부 및 냉각수를 부착하는 것을 특징으로 한다.
따라서, 본 발명은 웨이퍼 캐리어에 가열부와 냉각수 시스템을 부착하여(웨이퍼 전체 혹은 필요한 부분에) 웨이퍼의 원하는 부분의 온도를 조절할 수 있는 방법에 관한 것이다.

Description

웨이퍼 캐리어
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명에 따라 가열부와 냉각부를 부착한 웨이퍼 캐리어를 나타낸 도면이다.
제2도는 본 발명에 따른 웨이퍼 캐리어를 사용하여 웨이퍼를 폴리싱할 때 웨이퍼의 회전을 방지하는 패드를 나타낸 도면이다.

Claims (6)

  1. 단차가 존재하는 구조물이 형성된 웨이퍼와, 상기 웨이퍼에 형성된 단차가 존재하는 구조물을 폴리싱할 때 상기 웨이퍼를 고정시킬 웨이퍼 캐리어를 구비하는 반도체장치에 있어서, 상기 웨이퍼의 국부적 온도를 조절하기 위해 상기 웨이퍼 캐리어에 가열부 및 냉각부를 부착하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 캐리어.
  2. 제1항에 있어서, 상기 가열부 및 냉각부는 상기 웨이퍼 캐리어의 상부, 중심부, 저부, 좌측부, 우측부에 각각 부착된 것을 특징으로 하는 웨이퍼 캐리어.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 가열부는 가열 코일, 램프 및 레이저 등 인 것을 특징으로 하는 웨이퍼 캐리어.
  4. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 가열부 부위의 온도를 측정할 수 있는 장치로 온도 측정기를 부착하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 캐리어.
  5. 제1항에 있어서, 상기 냉각부는 순환방식을 사용하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 캐리어.
  6. 제1항에 있어서, 상기 웨이퍼의 폴리싱중 웨이퍼의 회전을 방지하기 위해 웨이퍼 플랫 밑 부분에 해당되는 웨이퍼 캐리어에 지지링 두께의 하드 패드를 부착하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 캐리어.
KR1019950031660A 1995-09-25 1995-09-25 웨이퍼 캐리어 KR970018333A (ko)

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