KR970012409A - 광자기 디스크 및 그 제조방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 광자기 디스크(Magneto-Optical Disk) 및 그 제조방법에 관한 것으로서, 마크에지 기록방식을 적용한 경우, 지터(Jitter) 및 에지 시프트(Edge shift)의 값이 커지게 되는 종래의 문제점을 개선하기 위하여 창안된 것이다.
본 발명은 투명한 기판 위에 제1유전체층, 재생층, 기록층, 제2유전체층, 및 반사층이 순차적으로 적충되어 있는 교환 결합막 구조의 광자기 디스크에 있어서, 상기 재생층과 기록층 사이에 그 경계면 형성을 방지하는 완충영역층을 갖춘 것을 그 특징으로 하여, 단파장대에서의 기록층의 수직 이방성 특성이 좋아지고 자기광학 효과가 커질 뿐만 아니라, 마크에지 기록방식을 적용한 경우, 지터(Jitter) 및 에지 시프트(Edge shift)의 값이 적어져 신호의 질을 향상시킬 수 있다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 본 발명에 따른 광자기 디스크를 나타낸 단면도이다.
Claims (28)
- 투명한 기판 위에 제1유전체층, 재생층, 기록층, 제2유전체층, 및 반사층이 순차적으로 적충되어 있는 교환 결합막 구조의 광자기 디스크에 있어서, 상기 재생층과 기록층 사이에 그 경계면 형성을 방지하는 완충영역층을 갖춘 것을 그 특징으로 하는 광자기 디스크.
- 제1항에 있어서, 상기 재생층은, 니오디뮴-터비움-철-코발트(Nd-Tb-Fe-Co)계의 성분을 갖는 것을 그 특징으로 하는 광자기 디스크.
- 제1항에 있어서, 상기 기록층은, 터비움-철-코발트(Tb-Fe-Co)계의 성분을 갖는 것을 그 특징으로 하는 광자기 디스크.
- 제1항에 있어서, 상기 완충영역층은, 상기 재생층의 성분과 같은 성분을 가지나, 그 조성비가 다른 것을 그 특징으로 하는 광자기 디스크.
- 투명한 기판 위에 제1유전체층, 제1재생층, 기록층, 제2재생층, 제2유전체층, 및 반사층이 순차적으로 적충되어 있는 교환 결합막 구조의 광자기 디스크에 있어서, 상기 제1재생층과 기록층 사이에 그 경계면 형성을 방지하는 제1완충영역층; 및 상기 기록층과 제2재생층 사이에 그 경계면 형성을 방지하는 제2완충영역층을 갖춘 것을 그 특징으로 하는 광자기 디스크.
- 제5항에 있어서, 상기 제1재생층 및 제2재생층은, 니오디뮴-터비움-철-코발트(Nd-Tb-Fe-Co)계의 성분을 갖는 것을 그 특징으로 하는 광자기 디스크.
- 제5항에 있어서, 상기 기록층은, 터비움-철-코발트(Tb-Fe-Co)계의 성분을 갖는 것을 그 특징으로 하는 광자기 디스크.
- 제5항에 있어서, 상기 제1완충영역층 및 제2완충영역층은, 상기 제1재생층 및 제2재생층의 성분과 같은 성분을 지니나, 그 조성비가 다른 것을 그 특징으로 하는 광자기 디스크.
- 투명한 기판 위에 제1유전체층, 재생층, 기록층, 제2유전체층, 및 반사층이 순차적으로 적충되어 있는 교환 결합막 구조의 광자기 디스크의 제조방법에 있어서, 상기 재생층의 적충이 끝나기 전 소정의 시점에서 상기 기록층의 적층이 시작됨에 따라, 상기 재생층과 기록층 사이에 경계면 형성을 방지하는 완충영역층이 발생하는 단계를 포함한 것을 그 특징으로 하는 광자기 디스크의 제조방법.
- 제9항에 있어서, 상기 재생층, 완충영역층, 및 기록층은, 소정의 마그네트론 코스퍼터링(Magnetron cosputtering)에 의하여 적층되는 것을 그 특징으로 하는 광자기 디스크의 제조방법.
- 제10항에 있어서, 상기 재생층은, 니오디뮴(Nd) 타겟(target)과 터비움-철-코발트(Tb-Fe-Co) 타겟을 동시에 마그네트론 코스퍼터링(Magnetron cosputtering)시킴으로써 적층되는 것을 그 특징으로 하는 광자기 디스크의 제조방법.
- 제11항에 있어서, 상기 터비움-철-코발트(Tb-Fe-Co) 타겟의 조성비는, 터비움 17%, 철 62%, 및 코발트 21%인 것을 그 특징으로 하는 광자기 디스크의 제조방법.
- 제10항에 있어서, 상기 완충영역은, 상기 재생층에 대한 스퍼터링 파워가 떨어짐과 동시에 상기 기록층에 대한 스퍼터링 파워가 상승되는 시기에 발생되는 것을 그 특징으로 하는 광자기 디스크의 제조방법.
- 제12항 또는 제13항에 있어서, 상기 재생층에 대한 스퍼터링 파워는, 상기 니오디뮴(Nd) 타겟(target)과 상기 조성비의 터비움-철-코발트(Tb-Fe-Co) 타겟의 인가되는 스퍼터링 파워인 것을 그 특징으로 하는 광자기 디스크의 제조방법.
- 제10항에 있어서, 상기 기록층은, 터비움-철-코발트(Tb-Fe-Co) 타겟을 스퍼터링시킴으로써 적층되는 것을 그 특징으로 하는 광자기 디스크의 제조방법.
- 제15항에 있어서, 상기 터비움-철-코발트(Tb-Fe-Co) 타겟의 조성비는, 터비움 22%, 철 70%, 및 코발트 8%인 것을 그 특징으로 하는 광자기 디스크의 제조방법.
- 제13항 또는 제16항에 있어서, 상기 기록층에 대한 스퍼터링 파워는, 상기 조성비의 터비움-철-코발트(Tb-Fe-Co) 타겟에 인가되는 스퍼터링 파워인 것을 그 특징으로 하는 광자기 디스크의 제조방법.
- 투명한 기판 위에 제1유전체층, 제1재생층, 기록층, 제2재생층, 제2유전체층, 및 반사층이 순차적으로 적충되어 있는 교환 결합막 구조의 광자기 디스크의 제조방법에 있어서, 상기 제1재생층의 적충이 끝나기 전 소정의 시점에서 상기 기록층의 적층이 시작됨에 따라, 상기 제1재생층과 기록층 사이에 경계면 형성을 방지하는 제1완충영역층이 발생하는 단계; 및 상기 기록층의 적층이 끝나기 전 소정의 시점에서 상기 제2재생층의 적층이 시작됨에 따라, 상기 기록층과 제2재생층 사이에 그 경계면 형성을 방지하는 제2완충영역층이 발생되게 하는 단계를 포함한 것을 그 특징으로 하는 광자기 디스크의 제조방법.
- 제18항에 있어서, 상기 제1재생층, 제1완충영역층, 기록층, 제2완충영역층, 및 제2재생층은, 소정의 마그네트론 코스퍼터링(Magnetron cosputtering)에 의하여 적층되는 것을 그 특징으로 하는 광자기 디스크의 제조방법.
- 제19항에 있어서, 상기 제1재생층 및 제2재생층은, 니오디뮴(Nd) 타겟(target)과 터비움-철-코발트(Tb-Fe-Co) 타겟을 동시에 마그네트론 코스퍼터링(Magnetron cosputtering)시킴으로써 적층되는 것을 그 특징으로 하는 광자기 디스크의 제조방법.
- 제20항에 있어서, 상기 터비움-철-코발트(Tb-Fe-Co) 타겟의 조성비는, 터비움 17%, 철 62%, 및 코발트 21%인 것을 그 특징으로 하는 광자기 디스크의 제조방법.
- 제19항에 있어서, 상기 제1완충영역층은, 상기 제1재생층에 대한 스퍼터링 파워가 떨어짐과 동시에 상기 기록층에 대한 스퍼터링 파워가 상승되는 시기에 발생되는 것을 그 특징으로 하는 광자기 디스크의 제조방법.
- 제21항 또는 제22항에 있어서, 상기 제1재생층에 대한 스퍼터링 파워는, 상기 니오디뮴(Nd) 타겟(target)과 상기 조성비의 터비움-철-코발트(Tb-Fe-Co) 타겟에 인가되는 스퍼터링 파워인 것을 그 특징으로 하는 광자기 디스크의 제조방법.
- 제19항에 있어서, 상기 기록층은, 터비움-철-코발트(Tb-Fe-Co) 타겟을 스퍼터링시킴으로써 적층되는 것을 그 특징으로 하는 광자기 디스크의 제조방법.
- 제24항에 있어서, 상기 터비움-철-코발트(Tb-Fe-Co) 타겟의 조성비는, 터비움 22%, 철 70%, 및 코발트 8%인 것을 그 특징으로 하는 광자기 디스크의 제조방법.
- 제22항 또는 제25항에 있어서, 상기 기록층에 대한 스퍼터링 파워는, 상기조성비의 터비움-철-코발트(Tb-Fe-Co) 타겟에 인가되는 스퍼터링 파워인 것을 그 특징으로 하는 광자기 디스크의 제조방법.
- 제19항에 있어서, 상기 제2완충영역층은, 상기 기록층에 대한 스퍼터링 파워가 떨어짐과 동시에 상기 제2재생층에 대한 스퍼터링 파워가 상승되는 시기에 발생되는 것을 그 특징으로 하는 광자기 디스크의 제조방법.
- 제21항 또는 제22항에 있어서, 상기 제2재생층에 대한 스퍼터링 파워는, 상기 니오디뮴(Nd) 타겟(target)과 상기 조성비의 터비움-철-코발트(Tb-Fe-Co) 타겟에 인가되는 스퍼터링 파워인 것을 그 특징으로 하는 광자기 디스크의 제조방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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KR1019950028498A KR0170685B1 (ko) | 1995-08-31 | 1995-08-31 | 광자기 디스크 및 그 제조방법 |
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KR1019950028498A KR0170685B1 (ko) | 1995-08-31 | 1995-08-31 | 광자기 디스크 및 그 제조방법 |
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KR970012409A true KR970012409A (ko) | 1997-03-29 |
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KR1019950028498A KR0170685B1 (ko) | 1995-08-31 | 1995-08-31 | 광자기 디스크 및 그 제조방법 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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KR100747577B1 (ko) * | 2005-12-28 | 2007-08-08 | 엘지전자 주식회사 | 초해상 광기록매체 |
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1995
- 1995-08-31 KR KR1019950028498A patent/KR0170685B1/ko not_active IP Right Cessation
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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KR100747577B1 (ko) * | 2005-12-28 | 2007-08-08 | 엘지전자 주식회사 | 초해상 광기록매체 |
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KR0170685B1 (ko) | 1999-04-15 |
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