KR970008450A - 실리콘 웨이퍼 표면의 이물질 스캐닝 장치 - Google Patents
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Abstract
지지축에 연결되어 회전할 수 있는, 실리콘 웨이퍼를 상부에 착탈할 수 있는 턴 테이블과, 상기한 턴 테이블 상부에 일정 간격 이격되어 설치되어 암과, 상기한 암의 일단을 고정하며 상기한 암을 턴 테이블의 외부로부터 중심부로 수평 이동시킬 수 있는 암 지지축과, 상기한 암의 타단에 턴 테이블 방향으로 연결되며, 하부에 상기한 액적을 고정시킬 수 있는 액적 고정핀을, 포함하는 실리콘 웨이퍼 표면에 형성된 이물질을 포함하는 미세액적을 상기한 액적 공급장치에서 공급한 스캐닝 액적내로 흡수할 수 있는 실리콘 웨이퍼 표면의 이물질 스캐닝 장치를 이용하면, 스캐닝 공정을 자동화하여 용액을 떨어뜨릴 염려가 없어 작업성을 향상시킬 뿐만 아니라 재현성이 우수하며, 많은 양의 실리콘 웨이퍼에 대하여 재현성이 우수한 균일한 스캐닝이 가능하여 데이터의 신뢰도를 높일 수 있다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제3도는 본 발명에 따른 실리콘 웨이퍼 표면의 이물질 스캐닝 장치의 일실시예를 개략적으로 나타내는 단면도이다.
Claims (5)
- 지지축에 연결되어 회전할 수 있는, 실리콘 웨이퍼를 상부에 착탈할 수 있는 턴 테이블과, 상기한 턴 테이블 상부에 일정 간격 이격되어 설치되는 암과; 상기한 암을; 일단을 고정하며 상기한 암을 턴 테이블의 외부로부터 중심부로 수평 이동시킬 수 있는 암 지지축과; 상기한 암의 타단에 턴 테이블 방향으로 연결되며, 하부에 상기한 액적을 고정시킬 수 있는 액적 고정핀을; 포함하는 실리콘 웨이퍼 표면에 형성된 이물질을 포함하는 미세 액적을 상기한 액적 공급장치에서 공급한 스캐닝 액적내로 흡수할 수 있는 실리콘 웨이퍼 표면의 이물질 스캐닝 장치.
- 제1항에 있어서, 상기한 액적 고정핀의 하부 단면은 요면인 실리콘 웨이퍼 표면의 이물질 스캐닝 장치.
- 제1항에 있어서, 상기한 액적 고정핀의 하부 단면은 오목형인 실리콘 웨이퍼 표면의 이물질 스캐닝 장치.
- 제1항에 있어서, 상기한 액적 고정핀의 하부 단면은 볼록형인 실리콘 웨이퍼 표면의 이물질 스캐닝 장치.
- 제1항에 있어서, 상기한 액적 고정핀의 하부 단면은 사각형인 실리콘 웨이퍼 표면의 이물질 스캐닝 장치.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019950022078A KR970008450A (ko) | 1995-07-25 | 1995-07-25 | 실리콘 웨이퍼 표면의 이물질 스캐닝 장치 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019950022078A KR970008450A (ko) | 1995-07-25 | 1995-07-25 | 실리콘 웨이퍼 표면의 이물질 스캐닝 장치 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR970008450A true KR970008450A (ko) | 1997-02-24 |
Family
ID=66541343
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019950022078A KR970008450A (ko) | 1995-07-25 | 1995-07-25 | 실리콘 웨이퍼 표면의 이물질 스캐닝 장치 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR970008450A (ko) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101242246B1 (ko) * | 2011-03-21 | 2013-03-11 | 주식회사 엘지실트론 | 웨이퍼 오염 측정장치 및 웨이퍼의 오염 측정 방법 |
-
1995
- 1995-07-25 KR KR1019950022078A patent/KR970008450A/ko not_active Application Discontinuation
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101242246B1 (ko) * | 2011-03-21 | 2013-03-11 | 주식회사 엘지실트론 | 웨이퍼 오염 측정장치 및 웨이퍼의 오염 측정 방법 |
| US9484273B2 (en) | 2011-03-21 | 2016-11-01 | Lg Siltron Inc. | Apparatus for measuring impurities on wafer and method of measuring impurities on wafer |
| US9721817B2 (en) | 2011-03-21 | 2017-08-01 | Lg Siltron Inc. | Apparatus for measuring impurities on wafer and method of measuring impurities on wafer |
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