KR970006410A - 신규 및 공지된 양이온성 4, 5-디히드로-1h-1, 2, 3-트리아졸륨 화합물의 염료로서의 용도 및 신규 양이온성 4, 5-디히드로-1h-1, 2, 3-트리아졸륨 화합물 - Google Patents
신규 및 공지된 양이온성 4, 5-디히드로-1h-1, 2, 3-트리아졸륨 화합물의 염료로서의 용도 및 신규 양이온성 4, 5-디히드로-1h-1, 2, 3-트리아졸륨 화합물 Download PDFInfo
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Abstract
가. 청구범위에 기재된 발명이 속하는 기술 분야
본 발명은 신규 및 공지된 4,5-디히드로-1H-1,2,3-트리아졸륨 화합물의 염료로서의 용도 및 신규 4,5-디히드로-1H-1,2,3-트리아졸륨 화합물에 관한 것이다.
나. 그 발명이 해결하고자 하는 기술적 과제
본 발명자들은 공지된 4,5-디히드로-1H-1,2,3-트리아졸륨 화합물을 염료로서 이용하기 위해 예의연구하여 왔으며, 상기 공지된 화합물 뿐만 아니라 신규 4,5-디히드로-1H-1,2,3-트리아졸륨 화합물에 대해서도 예의연구하여 왔다.
다. 그 발명의 해결 방법의 요지
하기 일반식 (Ⅰ)의 4,5-디히드로-1H-1,2,3-트리아졸륨 화합물이 염료로서 사용될 수 있다.
식 중, R1및 R2는 서로 독립적으로 C6-C14-아릴 또는 3개 이하의 고리 및 O, S 및 N으로 구성되는 군으로부터의 4개 이하의 헤테로 원자를 갖는 헤테로시클릭 라디칼을 나타내고, R3및 R4는 서로 독립적으로 수소, C1-C12-알킬, C2-C12-알케닐, C4-C8-시클로알킬, C7-C17-아랄킬, C6-C14-아릴 또는 니트릴을 나타내거나 또는 R3및 R4는 함께 2개 이하의 산소 및(또는) 질소 원자로 임의로 차단될 수 있는 2- 내지 5-원C 다리를 나타내며, X-은 음이온을 나타내고, 이 때, 존재하는 모든 알킬, 알케닐, 시클로알킬, 아랄킬 및 아릴 라디칼 및 융합 헤테로시클릭 라디칼은 비이온성 치환체, 카르복실기, 암모늄기 및(또는) 피리디늄기로 임의로 치환될 수 있다.
알콕시 및 아릴킬 라디칼 중의 알킬 라디칼을 포함하여 알킬 라디칼은 직쇄 또는 분지쇄일 수 있다.
라. 발명의 중요한 용도
본 발명은 신규 및 공지된 4,5-디히드로-1H-1,2,3-트리아졸륨 화합물을 염료로서 유용하게 사용할 수 있다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
Claims (10)
- 하기 일반식(Ⅰ)의 4,5-디히드로-1H-1,2,3-트리아졸륨 화합물이 염료로서의 용도.식 중, R1및 R2는 서로 독립적으로 C6-C14-아릴 또는 3개 이하의 고리 및 O, S 및 N으로 구성되는 군으로부터의 4개 이하의 헤테로 원자를 갖는 헤테로시클릭 라디칼을 나타내고, R3및 R4는 서로 독립적으로 수소, C1-C12-알킬, C2-C12-알케닐, C4-C8-시클로알킬, C7-C17-아랄킬, C6-C14-아릴 또는 니트릴을 나타내거나 또는 R3및 R4는 함께 2개 이하의 산소 및(또는) 질소 원자로 임의로 차단될 수 있는 2- 내지 5-원C 다리를 나타내며, X-은 음이온을 나타내고, 이 때, 존재하는 모든 알킬, 알케닐, 시클로알킬, 아랄킬 및 아릴 라디칼 및 융합 헤테로시클릭 라디칼은 비이온성 치환체, 카르복실기, 암모늄기 및(또는) 피리디늄기로 임의로 치환될 수 있다.
- 제1항에 있어서, 일반식(Ⅰ)에서 R1및 R2가 서로 독립적으로 페닐, 나프틸, 티에닐, 티아졸릴, 이소티아졸릴, 1,2,4-티아디아졸릴, 1,3,4-티아디아졸릴, 벤조티아졸릴, 벤즈이소티아졸릴, 피라졸릴, 이미다졸릴, 벤즈이미다졸릴, 옥사졸릴, 벤족사졸릴, 1,2,3-트리아졸릴, 1,2,4-트리아졸릴, 인돌릴 또는 피리딜을 나타내고, 이들 라디칼은 C1-C8-알킬, C1-C8-알콕시, C6-C|10-아릴옥시, C6-C10-아릴아미노, C7-C12-아랄킬아미노, C1-C8-아실아미노, C1-C8-아실옥시, C1-C8-모노알킬아미노, 디-C1-C8-알킬아미노, C1-C8-알콕시카르보닐, C1-C8-알콕시카르보닐옥시, C1-C12-알카미도카르보닐, C1-C12-알킬술포닐, C6-C10-아릴아조, 아미노카르보닐, 할로겐, 시아노, 히드록실, 니트로, 페닐숲로닐, 술폰아미드, 술폰아밀 및 우레이도로 구성되는 군으로부터의 5개 이하의 라디칼로 임의로 치환될 수 있으며, 이들은 히드록실, 할로겐, 시아노 및(또는) C1-C4-알콕시로 임의로 치환될 수 있고, R3및 R4가 각 경우에 서로 독립적으로 수소, C1-C8-알킬, 알릴, 시클로펜틸 또는 시클로헥실(이들은 히드록실, 할로겐, 시아노, C1-C4-알콕시, 아미노카르보닐 및(또는) C1-C4-알콕시카르보닐로 임의로 치환됨), 벤질, 페네틸, 푸릴, 테트라히드로푸릴메틸, 피리딜, 피리딜메틸 또는 피리딜에틸 라디칼(이들은 할로겐, 시아노, C1-C4-알킬 및(또는) C1-C4-알콕시로 임의로 치환됨), 또는 페닐 라디칼(할로겐, 시아노, C1-C4-알킬 또는 C1-C4-알콕시로 임의로 치환됨)을 나타내거나 또는 R3및 R4가 그들 사이의 2개의 탄소 원자와 함께 시클로부탄, 시클로펜탄, 시클로헥산 또는 시클로헵탄 고리(히드록실, 할로겐, 시아노, C1-C4-알콕시 및(또는) 아미노카르보닐로 임의로 치환되고 질소 원자로 임의로 차단됨), 테트라히드로피롤리디노 또는 피페리디노 고리(히드록실, 할로겐, 시아노, C1-C4-알콕시 및(또는) 아미노카르보닐로 임의로 치환되고 산소 원자로 임의로 차단됨), 또는 테트라히드로푸릴 또는 테트라히드로피라닐 고리(히드록실, 할로겐, 시아노, C1-C4-알콕시 및(또는) 아미노카르보닐로 임의로 치환됨)을 형성하며, X-이 음이온을 나타내는 것을 특징으로 하는 용도.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 일반식 (Ⅰ)의 4,5-디히드로-1H-1,2,3-트리아졸륨 화합물이 하기 일반식 (Ⅱ)의 화합물에 해당하는 것을 특징으로 하는 용도.식 중, R3및 R4는 각 경우에 서로 독립적으로 수소 또는 히드록실, 할로겐, 시아노, C1-C4-알콕시, 아미노카르보닐 및(또는) C1-C4-알콕시카르보닐로 임의로 치환되는 C1-C8-알킬 라디칼을 나타내거나 또는 R3및 R4는 그들 사이의 2개의 탄소 원자와 함께 히드록실, 할로겐, 시아노, C1-C4-알콕시 및(또는) 아미노카르보닐로 임의로 치환되는 시클로펜탄 또는 시클로헥산 고리를 나타내고, R5내지 R12는 각 경우에 서로 독립적으로 수소 또는 C1-C4-알킬, C1-C4-알콕시, C|6-C10-아릴옥시, C6-C10-아릴아미노, C7-C12-아랄킬아미노, C1-C4-아실아미노, C1-C4-아실옥시, C1-C4-모노알킬아미노, 디-C1-C4-알킬아미노, C1-C4-알콕시카르보닐, C1-C4-알콕시카르보닐옥시, C1-C4-알카미도카르보닐, C1-C4-알킬술포닐 또는 C6-아릴아조 라디칼(히드록실, 할로겐, 시아노 및(또는) C1-C4-알콕시로 임의로 치환됨), 아미노카르보닐, 할로겐, 시아노, 히드록실, 니트로, 페닐술포닐, 술폰아미드, 술폰아밀 또는 우레이도를 나타내며, X-은 음이온을 나타낸다.
- 제3항에 있어서, 일반식(Ⅱ)의 4,5-디히드로-1H-1,2,3-트리아졸륨 화합물에서 R3및 R4가 서로 독립적으로 수소 또는 메틸을 나타내고, R6이 수소, 메틸, 메톡시, 에톡시, 페녹시, 아세틸아미노, 디메틸아미노, 디에틸아미노, 메톡시카르보닐, 에톡시카르보닐, 아미노카르보닐, 염소, 시아노 또는 니트로를 나타내며, 각 경우에 R3및 R4가 수소를 나타내는 경우에는, R11이 에톡시, 페녹시, 아세틸아미노, 디메틸아미노, 디에틸아미노, 메톡시카르보닐, 에톡시카르보닐, 아미노카르보닐, 염소, 시아노 또는 니트로를 나타내며, R3및 R4라디칼 중 1개 이상이 수소가 아닌 경우에는, R11이 추가로 수소, 메틸, 메톡시 또는 니트로를 나타낼 수도 있고, R5및 R12, 및 R7및 R10이 각 경우에 쌍으로서 동일하며 수소, 메틸, 메톡시, 에톡시, 페녹시, 아세틸아미노, 디메틸아미노, 디에틸아미노, 메톡시카르보닐, 에톡시카르보닐, 아미노카르보닐, 염소, 시아노 또는 니트로를 나타내며, R8및 R9가 각 경우에 서로 독립적으로 수소, 메틸 또는 메톡시를 나타내고, X-이 음이온을 나타내는 것을 특징으로 하는 용도.
- 제3항 또는 제4항에 있어서, 일반식 (Ⅱ)의 4,5-디히드로-1H-1,2,3-트리아졸륨 화합물에서, R3, R5, R8, R9및 R12가 각 경우에 수소를 나타내고, R4가 수소 또는 메틸을 나타내며, R6이 메틸, 메톡시, 에톡시, 페녹시, 아세틸아미노, 디메틸아미노, 디에틸아미노, 메톡시카르보닐, 에톡시카르보닐 또는 아미노카르보닐을 나타내며, R4가 수소를 나타내는 경우에는, R11이 에톡시, 페녹시, 아세틸아미노, 디메틸아미노, 디에틸아미노, 메톡시카르보닐, 에톡시카르보닐 또는 아미노카르보닐을 나타내며, R4가 메틸을 나타내는 경우에는, R11이 추가로 수소, 메틸, 메톡시 또는 니트로를 나타낼 수도 있고, R7및 R10이 각 경우에 서로 독립적으로 수소, 메틸 또는 메톡시를 나타내며, X-이 음이온을 나타내는 것을 특징으로 하는 용도.
- 하기 일반식 (Ⅰa)의 4,5-디히드로-1H-1,2,3-트리아졸륨 화합물.식 중, 사용된 기호는 청구항 1에 주어진 의미를 갖지만, 단 각 경우에 R3및 R4가 수소를 나타내는 경우에는, R1이 4-메틸페닐일 때 R2는 4-니트로페닐, 4-메톡시페닐 또는 페닐을 나타내지 않고, R1과 R2는 둘다 동시에 4-메틸페닐, 4-니트로페닐, 4-메톡시페닐 또는 페닐을 나타내지는 않는다.
- 제6항에 있어서, 하기 일반식(Ⅱa)의 화합물에 해당하는 것을 특징으로 하는 4,5-디히드로-1H-1,2,3-트리아졸륨 화합물.식 중, 사용된 기호는 일반식 (Ⅱ)에 대해 주어진 의미를 갖지만, 단 각 경우에 R3및 R4가 수소를 나타내는 경우에는, R6이 메틸일 때 R11은 니트로, 메톡시 또는 수소를 나타내지 않고, R6과 R11은 둘다 동시에 메틸, 니트로, 메톡시 또는 수소를 나타내지는 않는다.
- 제7항에 있어서, 일반식 (Ⅱa)에 사용된 기호가, 단서 조항 없이, 일반식 (Ⅱ)에 대해 제5항에 주어진 의미를 갖는 것을 특징으로 하는 4,5-디히드로-1H-1,2,3-트리아졸륨 화합물.
- 양이온적으로 염색가능한 섬유, 바람직하게는 아크릴로니트릴 및 디시아노에틸렌의 중합체 및 공중합체 및 폴리아미드 및 폴리에스테르의 산-변형된 섬유, 탄닌 처리된 셀룰로오스 재료, 종이, 실크 및 가죽의 염색 및 인쇄, 필기액, 도장액, 볼펜 페이스트 및 잉크젯 잉크의 제조 및 아닐린 인쇄법에 사용하기 위한 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 따른 4,5-디히드로-1H-1,2,3-트리아졸륨 화합물.
- 제1항에 언급된 일반식 (Ⅰ)의 4,5-디히드로-1H-1,2,3-트리아졸륨 화합물 1종 이상으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 양이온적으로 염색가능한 섬유, 탄닌 처리된 셀룰로오스 재료, 종이, 실크, 가죽, 필기액, 도장액, 볼펜 페이스트 및 잉크젯 잉크.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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