KR970002411A - Pixel electrode structure of liquid crystal display device - Google Patents

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KR970002411A
KR970002411A KR1019950017710A KR19950017710A KR970002411A KR 970002411 A KR970002411 A KR 970002411A KR 1019950017710 A KR1019950017710 A KR 1019950017710A KR 19950017710 A KR19950017710 A KR 19950017710A KR 970002411 A KR970002411 A KR 970002411A
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KR
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gate line
pixel electrode
liquid crystal
crystal display
metal wiring
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Application number
KR1019950017710A
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Korean (ko)
Inventor
최대영
박진용
Original Assignee
김주용
현대전자산업 주식회사
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Abstract

본 발명은 액정표시소자에 있어서 박막 트랜지스터 부분을 게이트 라인상에 위치하도록 하므로써 화소전극의 개구율을 증대시킬 수 있는 액정표시소자의 화소전극구조에 관한 것이다. 이러한 본 발명 액정표시소자의 화소 전극구조는 투광성 절연기판과, 기판위에 형성된 게이트 라인과, 게이트 라인을 절연하기 위한 절연부재와, 게이트 라인상에 있는 절연부재 위에서 소정 길이만큼 형성된 도핑되지 않은 반도체 층과, 도핑되지 않은 반도체 위의 소정부위에 형성된 소오스, 드레인 영역과, 드레인 영역 위의 게이트 라인 이내에 그것의 대부분이 위치하며, 그 일부가 화소전극과의 전기적 연결을 위하여 뻗어 있는 드레인 금속 배선층과, 소오스 영역 위의 게이트 라인 이내에 위치하여 데이타 라인과 연결되는 소오스 금속 배선층으로 구성되는 것을 특징으로 한다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a pixel electrode structure of a liquid crystal display device capable of increasing the aperture ratio of a pixel electrode by placing a thin film transistor portion on a gate line in the liquid crystal display device. The pixel electrode structure of the liquid crystal display device of the present invention comprises a transmissive insulating substrate, a gate line formed on the substrate, an insulating member for insulating the gate line, and an undoped semiconductor layer formed over a predetermined length on the insulating member on the gate line. A source, drain region formed on a predetermined portion over the undoped semiconductor, a drain metal wiring layer, a portion of which is located within the gate line on the drain region, a portion of which extends for electrical connection with the pixel electrode; And a source metal wiring layer positioned within the gate line on the source region and connected to the data line.

Description

액정표시소자의 화소전극구조Pixel electrode structure of liquid crystal display device

본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음Since this is an open matter, no full text was included.

제3도는 본 발명의 일실시예에 따른 액정표시소자용 화소전극구조의 평면도, 제4도는 본 발명의 다른 실시예에 따른 액정표시소자용 화소전극 구조의 평면도.3 is a plan view of a pixel electrode structure for a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention, and FIG. 4 is a plan view of a pixel electrode structure for a liquid crystal display device according to another embodiment of the present invention.

Claims (3)

투광성 절연기판과, 상기 기판위에 형성된 게이트 라인과, 상기 게이트 라인을 절연하기 위한 절연부재와, 상기 게이트 라인상에 있는 절연부재 위에서 소정 길이만큼 형성된 도핑되지 않은 반도체 층과, 상기 도핑되지 않은 반도체 층 위의 소정부위에 형성된 소오스 영역과, 상기 도핑되지 않은 반도체 층 위의 소정부위에 형성된 드레인 영역과 상기 소오스 영역 위의 게이트 라인 이내에 그것의 대부분이 위치하며, 그 일부가 화소전극과의 전기적 연결을 위하여 뻗어 있는 소오스 금속 배선층과, 상기 드레인 영역 위의 게이트 라인 이내에 위치하여 데이타 라인과 연결되는 드레인 금속 배선층으로 구성된 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 화소전극구조.A translucent insulating substrate, a gate line formed on the substrate, an insulating member for insulating the gate line, an undoped semiconductor layer formed by a predetermined length over the insulating member on the gate line, and the undoped semiconductor layer A source region formed at a predetermined portion of the upper portion, a drain region formed at a predetermined portion on the undoped semiconductor layer, and a majority of the portions thereof are located within a gate line on the source region, and a portion of the source region is electrically connected to the pixel electrode. And a source metal wiring layer extending in order to form a source metal wiring layer and a drain metal wiring layer positioned within a gate line on the drain region and connected to a data line. 제1항에 있어서, 상기 게이트 전극들에 연결되는 게이트 라인은 그의 폭이 비정질 반도체 영역보다 약간 넓을 정도로 상기 드레인 금속 배선쪽의 접근부분에서 그 일측단이 계단형으로 감소하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 화소전극구조.2. The liquid crystal display according to claim 1, wherein the gate line connected to the gate electrodes decreases stepwise at one end of the access portion toward the drain metal wiring so that its width is slightly wider than that of the amorphous semiconductor region. Pixel electrode structure of the device. 제1항에 있어서, 상기 드레인 전극 배선은 데이타 라인상에 ㄱ 형상으로 소오스 영역 상부에 형성되는 것을 특징으로 하는 액정표시소자의 화소전극구조.2. The pixel electrode structure of claim 1, wherein the drain electrode wiring is formed on the data line in the shape of an upper portion of the source region. ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.※ Note: The disclosure is based on the initial application.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100524030B1 (en) * 2001-06-08 2005-10-27 엔이씨 엘씨디 테크놀로지스, 엘티디. Active matrix type liquid crystal display device and method of fabricating the same
KR20190102786A (en) 2018-02-27 2019-09-04 (주)씨드종합건축 Prefabricated wall for Show House

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