KR960026075A - 웨이퍼 스텝퍼에서 정렬광의 경사조명에 의한 웨이퍼 정렬방법과 그 장치 - Google Patents

웨이퍼 스텝퍼에서 정렬광의 경사조명에 의한 웨이퍼 정렬방법과 그 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR960026075A
KR960026075A KR1019940033474A KR19940033474A KR960026075A KR 960026075 A KR960026075 A KR 960026075A KR 1019940033474 A KR1019940033474 A KR 1019940033474A KR 19940033474 A KR19940033474 A KR 19940033474A KR 960026075 A KR960026075 A KR 960026075A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
wafer
alignment
light
stepper
diffracted
Prior art date
Application number
KR1019940033474A
Other languages
English (en)
Other versions
KR0160544B1 (ko
Inventor
김도훈
정해빈
유형준
Original Assignee
양승택
재단법인 한국전자통신연구소
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 양승택, 재단법인 한국전자통신연구소 filed Critical 양승택
Priority to KR1019940033474A priority Critical patent/KR0160544B1/ko
Publication of KR960026075A publication Critical patent/KR960026075A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR0160544B1 publication Critical patent/KR0160544B1/ko

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
    • G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
    • G03F9/7065—Production of alignment light, e.g. light source, control of coherence, polarization, pulse length, wavelength
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
    • G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
    • G03F9/7088—Alignment mark detection, e.g. TTR, TTL, off-axis detection, array detector, video detection
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/68—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment
    • H01L21/682—Mask-wafer alignment

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Multimedia (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

본 발명은 웨이퍼 스탭퍼에 있어서 반도체 미세회로 패턴을 지닌 마스크 패턴이 옮겨질 웨이퍼 사이를 정렬하는 정렬장치 및 그 방법에 관한 것으로 웨이퍼를 바로 노광위치에서 정렬을 수행하고 노광을 하며 또는 노광을 수행하는 동안에도 웨이퍼 정렬을 수행할 수 있으며 정렬광을 경사조명에 의한 웨이퍼 정렬방법으로써 off-axis 정렬 방식에서 웨이퍼 스테이지 base-line 오차가 근본적으로 발생하지 않도록 하는 웨이퍼 스탭퍼에서 정렬광의 경사조명에 의한 웨이퍼 정렬방법과 그 장치에 관한 것이다.

Description

웨이퍼 스텝퍼에서 정렬광의 경사조명에 의한 웨이퍼 정렬방법과 그 장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명에서 제시하려고 하는 정렬광의 경사조명에 따른 정렬방법을 예시한 도면.

Claims (4)

  1. 반도체 미세회로 패턴을 지닌 마스크와 패턴이 옮겨질 웨이퍼 사이를 정렬하는 웨이퍼 스텝퍼에 있어서, non-TT1, off-axis 정렬계는 정렬광(30)을 축소 투영렌즈(10) 바깥쪽에서 웨이퍼(20)로 경사각을 가지고 입사시키며 적절한 웨이퍼상의정렬마크(40)에 회절이 일어나도록 하고, 상기 웨이퍼(20)를 바로 노광위치에서 정렬을 수행하여 웨이퍼 스테이지의 base-line 오차를 최소화하고 노광을 하되 노광을 수행하는 동안에도 웨이퍼 정렬을 수행할 수 있도록 한 웨이퍼 스텝퍼에서 정렬광의 경사조명에 의한 웨이퍼 정렬방법.
  2. 제1항에 있어서, 정렬마크 개구를 평행광으로 조명하고 그 상(償)을 웨이퍼상에 경사지게 축소 투영하여 정렬광으로 사용함을 특징으로 하는 웨이퍼 스텝퍼에서 정렬광의 경사조명에 의한 웨이퍼 정렬방법.
  3. 제1항에 있어서, 웨이퍼상에 경사 입사된 정렬광에 의해 회절된 회절광을 스텝퍼에서 정렬신호로 사용함을 특징으로 하는 웨이퍼 스텝퍼에서 정렬광의 경사조명에 의한 웨이퍼 정렬방법.
  4. 정렬광의 편광각도를 조절하는 선편광자(80)와; 상기 선편광자(80)에 의해 편광된 팽행광(210)이 반사거울(90)을 통해서 정사각형 형태의 개구(100)에 조명되고 개구(100)의 상이 축소되어 웨이퍼상의 정렬마크(40)에 입사되도록 하는 렌즈(120)와; 상기 정렬마크(40)에 의해 회절된 회절광(60)을 굴절하는 렌즈(121)와; 상기 회절광(60)을 반사하는 반사거울(91) 및 이를 감지하는 광센서(140)와 앰프(150), 신호처리회로(160), 주연산기(170)로 구성됨을 특징으로 하는 웨이퍼 스텝퍼에서 정렬광의 경사조명에 의한 웨이퍼 정렬장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019940033474A 1994-12-09 1994-12-09 웨이퍼 스텝퍼에서 정렬광의 경사조명에 의한 웨이퍼 정렬방법과 그 장치 KR0160544B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019940033474A KR0160544B1 (ko) 1994-12-09 1994-12-09 웨이퍼 스텝퍼에서 정렬광의 경사조명에 의한 웨이퍼 정렬방법과 그 장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019940033474A KR0160544B1 (ko) 1994-12-09 1994-12-09 웨이퍼 스텝퍼에서 정렬광의 경사조명에 의한 웨이퍼 정렬방법과 그 장치

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR960026075A true KR960026075A (ko) 1996-07-20
KR0160544B1 KR0160544B1 (ko) 1999-02-01

Family

ID=19400857

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019940033474A KR0160544B1 (ko) 1994-12-09 1994-12-09 웨이퍼 스텝퍼에서 정렬광의 경사조명에 의한 웨이퍼 정렬방법과 그 장치

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR0160544B1 (ko)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR970077122A (ko) * 1996-05-27 1997-12-12 고노 시게오 기판의 인도 방법 및 노광 장치
KR100464854B1 (ko) * 2002-06-26 2005-01-06 삼성전자주식회사 반도체 기판의 정렬 방법 및 정렬 장치
KR100836633B1 (ko) * 2007-07-23 2008-06-10 삼성전기주식회사 스템퍼 제조방법
CN109358476A (zh) * 2018-12-13 2019-02-19 苏州源卓光电科技有限公司 黄光对准系统、光刻机及其对准方法

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR970077122A (ko) * 1996-05-27 1997-12-12 고노 시게오 기판의 인도 방법 및 노광 장치
KR100464854B1 (ko) * 2002-06-26 2005-01-06 삼성전자주식회사 반도체 기판의 정렬 방법 및 정렬 장치
KR100836633B1 (ko) * 2007-07-23 2008-06-10 삼성전기주식회사 스템퍼 제조방법
CN109358476A (zh) * 2018-12-13 2019-02-19 苏州源卓光电科技有限公司 黄光对准系统、光刻机及其对准方法

Also Published As

Publication number Publication date
KR0160544B1 (ko) 1999-02-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4645924A (en) Observation apparatus with selective light diffusion
US4901109A (en) Alignment and exposure apparatus
US7180051B2 (en) Polarization state detecting system, light source, and exposure apparatus
KR970049048A (ko) 반도체소자 제조를 위한 노광 방법 및 그를 이용한 노광장치
CA1166363A (en) Wafer tilt compensation in zone plate alignment system
JP2866243B2 (ja) 投影露光装置及び半導体装置の製造方法
JPS6313330A (ja) 位置合せ装置
JP2006279017A (ja) 露光装置及び方法、計測装置、並びに、デバイス製造方法
JPH09246160A (ja) 投影露光装置
KR960026075A (ko) 웨이퍼 스텝퍼에서 정렬광의 경사조명에 의한 웨이퍼 정렬방법과 그 장치
JPS62188316A (ja) 投影露光装置
US5148035A (en) Position detecting method and apparatus
JPH0612754B2 (ja) 投影露光装置
JPH07135145A (ja) 露光装置
JPH05226222A (ja) 露光装置の位置合わせ装置
JP3291769B2 (ja) 位置検出装置、露光装置及び露光方法
JPH05226224A (ja) 露光装置の位置合わせ装置
JPH04339245A (ja) 表面状態検査装置
KR100246590B1 (ko) 사진 석판 장치
KR100246589B1 (ko) 사진 석판 장치
KR100246588B1 (ko) 사진 석판 장치
JP2698329B2 (ja) 投影式アライメント方法及びその装置
JPS6232612A (ja) アライメントマ−ク
JPH1027746A (ja) 位置合わせ方法及び露光装置
JPH02130910A (ja) 位置合わせ方法

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20030728

Year of fee payment: 6

LAPS Lapse due to unpaid annual fee